JPH05283373A - プラズマエッチング終点検出装置 - Google Patents
プラズマエッチング終点検出装置Info
- Publication number
- JPH05283373A JPH05283373A JP7646592A JP7646592A JPH05283373A JP H05283373 A JPH05283373 A JP H05283373A JP 7646592 A JP7646592 A JP 7646592A JP 7646592 A JP7646592 A JP 7646592A JP H05283373 A JPH05283373 A JP H05283373A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- range
- pattern
- end point
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- change
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- Pending
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 プラズマエッチングを行う反応室の雰囲気や
エッチング膜の状態によってプラズマ光強度信号レベ
ル，変化率が変わっても安定してエッチング終点を検出
するプラズマエッチング終点検出装置を提供する。 【構成】 プラズマ光のある波長の光強度を入力するセ
ンサ入力部４と、上記センサ入力部４からの信号の変化
を範囲で分割する分割手段２１と、この分割のための範
囲を保持する範囲保持部３１と、その範囲保持部３１に
範囲を設定する範囲設定手段２２と、信号の時間的変化
を上記範囲によるパターンとして記憶しておく記憶部３
２と、予め信号の範囲による時間的変化パターンが保持
されているパターン保持部３３と、パータン保持部３３
にそのパターンを設定するパターン設定手段２３と、記
憶部３２の時間的変化と上記設定部の時間的変化パター
ンとを比較しエッチングの終点を検出する比較手段２４
とを備えたことを特徴とする。
エッチング膜の状態によってプラズマ光強度信号レベ
ル，変化率が変わっても安定してエッチング終点を検出
するプラズマエッチング終点検出装置を提供する。 【構成】 プラズマ光のある波長の光強度を入力するセ
ンサ入力部４と、上記センサ入力部４からの信号の変化
を範囲で分割する分割手段２１と、この分割のための範
囲を保持する範囲保持部３１と、その範囲保持部３１に
範囲を設定する範囲設定手段２２と、信号の時間的変化
を上記範囲によるパターンとして記憶しておく記憶部３
２と、予め信号の範囲による時間的変化パターンが保持
されているパターン保持部３３と、パータン保持部３３
にそのパターンを設定するパターン設定手段２３と、記
憶部３２の時間的変化と上記設定部の時間的変化パター
ンとを比較しエッチングの終点を検出する比較手段２４
とを備えたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はプラズマエッチングの終
点検出装置に関するものである。
点検出装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラズマエッチング終点検出装置は、エ
ッチング中のプラズマ光の中の数種の波長の光強度をモ
ニターし、これらの光強度を演算して一つの制御信号を
作り出す。この制御信号からエッチング終了検出を行
う。
ッチング中のプラズマ光の中の数種の波長の光強度をモ
ニターし、これらの光強度を演算して一つの制御信号を
作り出す。この制御信号からエッチング終了検出を行
う。
【０００３】この制御信号は一般に図７に示すような波
形となり、終点検出装置はこの中で図に示す終点を検出
する。制御信号の時間サンプリングされた時系列データ
の変化を予め設定された変化値と比較して、設定された
回数小さくなった時点を終点として検出する。
形となり、終点検出装置はこの中で図に示す終点を検出
する。制御信号の時間サンプリングされた時系列データ
の変化を予め設定された変化値と比較して、設定された
回数小さくなった時点を終点として検出する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、プラズマ光
からモニターした光強度信号というのはプラズマエッチ
ングを行う反応室の雰囲気やエッチング膜の状態によっ
て信号強度レベル，変化率が変わるため、安定して終点
検出が行えない。また、エッチングプロセスによっては
図８に示すような制御信号で終点を検出する場合もあ
り、この場合、従来の方法では検出することができない
という問題点がある。
からモニターした光強度信号というのはプラズマエッチ
ングを行う反応室の雰囲気やエッチング膜の状態によっ
て信号強度レベル，変化率が変わるため、安定して終点
検出が行えない。また、エッチングプロセスによっては
図８に示すような制御信号で終点を検出する場合もあ
り、この場合、従来の方法では検出することができない
という問題点がある。
【０００５】本発明は上記問題を解決することを目的と
する。
する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明においては、上記
目的を達成するため、プラズマ光のある波長の光強度を
入力するセンサ入力部と、上記センサ入力部からの信号
の変化を範囲で分割する分割手段と、この分割のための
範囲を保持する範囲保持部と、その範囲保持部に範囲を
設定する範囲設定手段と、信号の時間的変化を上記範囲
によるパターンとして記憶しておく記憶部と、予め信号
の範囲による時間的変化パターンが保持されているパタ
ーン保持部と、パターン保持部にそのパターンを設定す
るパターン設定手段と、記憶部の時間的変化と上記設定
部の時間的変化パターンとを比較しエッチングの終点を
検出する比較手段とを備えたことを特徴とする。
目的を達成するため、プラズマ光のある波長の光強度を
入力するセンサ入力部と、上記センサ入力部からの信号
の変化を範囲で分割する分割手段と、この分割のための
範囲を保持する範囲保持部と、その範囲保持部に範囲を
設定する範囲設定手段と、信号の時間的変化を上記範囲
によるパターンとして記憶しておく記憶部と、予め信号
の範囲による時間的変化パターンが保持されているパタ
ーン保持部と、パターン保持部にそのパターンを設定す
るパターン設定手段と、記憶部の時間的変化と上記設定
部の時間的変化パターンとを比較しエッチングの終点を
検出する比較手段とを備えたことを特徴とする。
【０００７】
【作用】プラズマ光の光強度信号から演算された制御信
号の変化を、予め範囲保持部に保持された範囲に分割
し、その範囲によって信号の時間的変化をパターンとし
て記憶する。そして予めパターン保持部に保持されたパ
ターンとの比較によって合致した時点を終点として検出
する。制御信号の変化を範囲によるパターンとして捉え
るため、信号強度レベル，変化率が変わる場合や図８に
示すような制御信号で終点を検出する場合でも終点検出
が可能となる。
号の変化を、予め範囲保持部に保持された範囲に分割
し、その範囲によって信号の時間的変化をパターンとし
て記憶する。そして予めパターン保持部に保持されたパ
ターンとの比較によって合致した時点を終点として検出
する。制御信号の変化を範囲によるパターンとして捉え
るため、信号強度レベル，変化率が変わる場合や図８に
示すような制御信号で終点を検出する場合でも終点検出
が可能となる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。図１は本発明に係わるプラズマエッチ
ング終点検出法のフローチャート、図２はその実施に使
用する装置のブロック図である。１はキーボードであ
り、分割するための時間的変化の範囲の情報，比較対象
の範囲の時系列パターンを制御部２に入力する。制御部
２はマイクロプロセッサからなり、図示しないメモリに
書き込まれている制御プログラムに従い後述するデータ
処理を行う。以下に、この処理機能を有する仮想的回路
ブロックを用いて説明する。入力された時間的変化の範
囲情報は範囲設定手段２２に与えられ、範囲設定手段２
２はその範囲情報をＲＡＭからなる範囲保持部３１に書
き込む。分割手段２１はセンサ５と電子回路で組まれた
入力部４によって入力されたプラズマ光のサンプリング
光強度データの変化分を算出し、これを範囲保持部３１
に書き込まれている範囲情報と比較して範囲に分割し、
記憶部３２に書き込む。キーボード１によって入力され
た範囲の時系列パターンはパターン設定手段２３によっ
てパターン保持部３３に書き込まれる。比較手段２４は
パターン保持部３３より範囲の時系列パターンを入力し
記憶部３２に書き込まれた制御信号の変化分の時系列デ
ータと比較し、合致した時点をプラズマエッチングの終
点として検出し、プラズマエッチング装置へ出力する。
ながら説明する。図１は本発明に係わるプラズマエッチ
ング終点検出法のフローチャート、図２はその実施に使
用する装置のブロック図である。１はキーボードであ
り、分割するための時間的変化の範囲の情報，比較対象
の範囲の時系列パターンを制御部２に入力する。制御部
２はマイクロプロセッサからなり、図示しないメモリに
書き込まれている制御プログラムに従い後述するデータ
処理を行う。以下に、この処理機能を有する仮想的回路
ブロックを用いて説明する。入力された時間的変化の範
囲情報は範囲設定手段２２に与えられ、範囲設定手段２
２はその範囲情報をＲＡＭからなる範囲保持部３１に書
き込む。分割手段２１はセンサ５と電子回路で組まれた
入力部４によって入力されたプラズマ光のサンプリング
光強度データの変化分を算出し、これを範囲保持部３１
に書き込まれている範囲情報と比較して範囲に分割し、
記憶部３２に書き込む。キーボード１によって入力され
た範囲の時系列パターンはパターン設定手段２３によっ
てパターン保持部３３に書き込まれる。比較手段２４は
パターン保持部３３より範囲の時系列パターンを入力し
記憶部３２に書き込まれた制御信号の変化分の時系列デ
ータと比較し、合致した時点をプラズマエッチングの終
点として検出し、プラズマエッチング装置へ出力する。
【０００９】次に、制御部２の制御動作の内容を図１の
フローチャートに従い説明する。センサ５からプラズマ
光のサンプリング光強度データを入力し、分割手段２１
によってデータの変化分を算出し、範囲保持部３１に書
き込まれている範囲情報と比較して範囲に分割する。そ
して、これを記憶部３２に時系列データ（パターンデー
タ）として記憶する。
フローチャートに従い説明する。センサ５からプラズマ
光のサンプリング光強度データを入力し、分割手段２１
によってデータの変化分を算出し、範囲保持部３１に書
き込まれている範囲情報と比較して範囲に分割する。そ
して、これを記憶部３２に時系列データ（パターンデー
タ）として記憶する。
【００１０】図３を、入力したプラズマ光のサンプリン
グ光強度データとし、図４を、範囲保持部３１に書き込
まれている範囲情報とすると、この例ではデータの変化
分は図５のような範囲の時系列データとなる。
グ光強度データとし、図４を、範囲保持部３１に書き込
まれている範囲情報とすると、この例ではデータの変化
分は図５のような範囲の時系列データとなる。
【００１１】予めパターン保持部３３に入力された範囲
の時系列パターン（図６参照）と、上記算出された範囲
の時系列データ（図５参照）とを比較して、合致した時
点、すなわち図５の終端近傍部ｂａａの最後のａを終点
としてプラズマエッチング装置に出力する。
の時系列パターン（図６参照）と、上記算出された範囲
の時系列データ（図５参照）とを比較して、合致した時
点、すなわち図５の終端近傍部ｂａａの最後のａを終点
としてプラズマエッチング装置に出力する。
【００１２】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、プラズ
マ光のサンプリング光強度データの変化分を範囲により
パターン化しデータに幅を持たせ冗長性を持たせること
により、プラズマエッチングを行う反応室の雰囲気やエ
ッチング膜の状態によって信号強度レベル，変化率が変
わった場合や、信号強度レベルの任意の変化点での終点
検出の場合においても、プラズマエッチングの終点検出
の信頼度を向上させる効果がある。
マ光のサンプリング光強度データの変化分を範囲により
パターン化しデータに幅を持たせ冗長性を持たせること
により、プラズマエッチングを行う反応室の雰囲気やエ
ッチング膜の状態によって信号強度レベル，変化率が変
わった場合や、信号強度レベルの任意の変化点での終点
検出の場合においても、プラズマエッチングの終点検出
の信頼度を向上させる効果がある。
【図１】本発明の方法のフローチャート
【図２】その実施に使用する装置のブロック図
【図３】光強度信号の時間的変化の特性曲線図
【図４】信号の変化分の範囲によるパターン化の概念図
【図５】信号の変化分の範囲によるパターン化の概念図
【図６】信号の変化分の範囲によるパターン化の概念図
【図７】光強度信号の時間的変化の特性曲線図
【図８】光強度信号の時間的変化の特性曲線図
１ キーボード ２ 制御部 ３ メモリ ４ 入力部 ５ センサ
Claims (1)
- 【請求項１】 プラズマ光のある波長の光強度を入力す
るセンサ入力部と、上記センサ入力部からの信号の変化
を範囲で分割する分割手段と、この分割のためその範囲
を保持する範囲保持部と、この範囲保持部に範囲を設定
する範囲設定手段と、信号の時間的変化を上記範囲によ
るパターンとして記憶しておく記憶部と、予め信号の範
囲による時間的変化パターンが保持されているパターン
保持部と、パターン保持部にそのパターンを設定するパ
ターン設定手段と、記憶部の時間的変化と上記設定部の
時間的変化パターンとを比較しエッチングの終点を検出
する比較手段とを備えたことを特徴とするプラズマエッ
チング終点検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7646592A JPH05283373A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | プラズマエッチング終点検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7646592A JPH05283373A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | プラズマエッチング終点検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05283373A true JPH05283373A (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=13605918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7646592A Pending JPH05283373A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | プラズマエッチング終点検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05283373A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2351349A (en) * | 1999-06-21 | 2000-12-27 | Nec Corp | Adaptive plasma etching end-point detection |
| KR100295700B1 (ko) * | 1995-07-13 | 2001-10-24 | 조셉 제이. 스위니 | 화학증착장치로부터잔류물을세척하기위한방법및장치 |
| US11440287B2 (en) | 2018-06-07 | 2022-09-13 | Honeywell International Inc. | Hybrid fiber multi-axial prepreg |
-
1992
- 1992-03-31 JP JP7646592A patent/JPH05283373A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100295700B1 (ko) * | 1995-07-13 | 2001-10-24 | 조셉 제이. 스위니 | 화학증착장치로부터잔류물을세척하기위한방법및장치 |
| GB2351349A (en) * | 1999-06-21 | 2000-12-27 | Nec Corp | Adaptive plasma etching end-point detection |
| GB2351349B (en) * | 1999-06-21 | 2001-09-19 | Nec Corp | Method for detecting an end point of etching in a plasma-enhanced etching process |
| US6537460B1 (en) | 1999-06-21 | 2003-03-25 | Nec Corporation | Method for detecting an end point of etching in a plasma-enhanced etching process |
| US11440287B2 (en) | 2018-06-07 | 2022-09-13 | Honeywell International Inc. | Hybrid fiber multi-axial prepreg |
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