JPH05272924A - 膜厚測定装置 - Google Patents

膜厚測定装置

Info

Publication number
JPH05272924A
JPH05272924A JP4066934A JP6693492A JPH05272924A JP H05272924 A JPH05272924 A JP H05272924A JP 4066934 A JP4066934 A JP 4066934A JP 6693492 A JP6693492 A JP 6693492A JP H05272924 A JPH05272924 A JP H05272924A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
oxide film
film thickness
thickness
spectral radiant
value
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4066934A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshihiko Ide
敏彦 井手
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chino Corp
Original Assignee
Chino Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chino Corp filed Critical Chino Corp
Priority to JP4066934A priority Critical patent/JPH05272924A/ja
Publication of JPH05272924A publication Critical patent/JPH05272924A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Radiation Pyrometers (AREA)
  • Heat Treatments In General, Especially Conveying And Cooling (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 熱処理などの高温雰囲気中にて金属の表面に
形成される酸化膜の厚さを連続的に計測する。 【構成】 互いに異なる3つの波長帯λ1 ,λ2 ,λ3
における各々の分光放射エネルギーE1 ,E2 ,E3
べき乗の比Rと酸化膜の厚さdとの関係を定めておき、
金属Wの各波長帯λ1 ,λ2 ,λ3 の分光放射エネルギ
ーE1 ,E2 ,E 3 を実測して検出し、この検出した分
光放射エネルギーE1 ,E2 ,E3 に基づいて2組の分
光放射エネルギーE1 ,E2 ,E3 の波長λ1 ,λ2
λ3 のべき乗の比R1 ,R2 を求め、2個以上の酸化膜
厚値d1 ,d1',d2 ,d2'が算出された時に、各組の
酸化膜厚の値d1 とd2 ,d1'とd2'を比較して一致ま
たは最小誤差の酸化膜厚値を選択し、この値を求める酸
化膜の厚さdとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高温雰囲気中に金属表
面に形成される酸化膜の厚さを非接触で連続的に測定す
る膜厚測定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】高輝度焼鈍炉などにおける金属の熱処理
工程では、高温雰囲気内にて処理が行われるが、この高
温雰囲気中において、前記金属の表面には酸化膜が形成
されてしまう。そして、この酸化膜が金属の表面に著し
く形成され、許容値を越えてしまう場合は、その金属は
不良品とされていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来で
は、上述のような状態での金属表面の酸化膜の測定を行
う計測器、すなわち炉内などの高温雰囲気中で熱処理が
行われている金属の表面に対し連続して測定し、この金
属の表面に形成される酸化膜の厚さを計測する測定装置
がなく、作業者の経験から判断し、操業している。
【0004】そこで本発明は、上記問題点を解消するた
めに、熱処理などの高温雰囲気中にて金属の表面に形成
される酸化膜の厚さを連続的に計測することができる膜
厚測定装置を提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】次に、上記の目的を達成
するための手段を、実施例に対応する図面を参照して説
明する。この発明の膜厚測定装置1は、互いに異なる二
つの波長帯における各々の分光放射エネルギーの波長の
べき乗の比Rと酸化膜の厚さdとの関係に基づいて、被
測定物体Wより実測した分光放射エネルギーEから前記
酸化膜の厚さdを求めることを特徴ととしている。ま
た、互いに異なる少なくとも3つ以上の波長帯のうちの
任意の2つの波長帯を1組とし、これら波長帯における
被測定物体Wの各々の分光放射エネルギーの波長のべき
乗の比Rと酸化膜の厚さdとの関係に基づいて、前記被
測定物体Wより実測した少なくとも2組の分光放射エネ
ルギーによる酸化膜厚値を求め、2個以上の酸化膜厚値
が算出された時に、各組の酸化膜厚の値を比較して一致
若しくは最小誤差の酸化膜厚値を選択する構成になるこ
とを特徴としている。
【0006】
【作用】互いに異なる少なくとも3つ以上の波長帯のう
ちの任意の2つの波長帯を1組とし、これら波長帯にお
ける被測定物体Wの各々の分光放射エネルギーの波長の
べき乗の比Rと酸化膜の厚さdとの関係を予め定める。
前記被測定物体Wより少なくとも2組の分光放射エネル
ギーを検出し、この検出した各分光放射エネルギーの波
長のべき乗の比を求め、この比と対応する酸化膜厚値を
定めた前記関係から酸化膜厚値dを求める。そして、2
個以上の酸化膜厚値が算出された時には、各組の酸化膜
厚の値を比較して一致若しくは最小誤差の酸化膜厚値d
を選択する。
【0007】
【実施例】はじめに、被測定物体である金属の表面に形
成される酸化膜厚の測定の原理、およびこの原理に基づ
く測定の方法について説明する。まず、図2に示すよう
に、金属Wに対して光が入射されると、この光は金属W
の表面に成長した酸化膜Oの表面で反射するとともに、
光の一部が酸化膜Oを透過して金属Wの表面で反射する
ことになり、酸化膜中において光の干渉現象が生じる。
すなわち、金属表面の酸化膜の反射率は、光の干渉現象
として説明することができる。この光の干渉現象は、酸
化膜Oの成長とともに、複雑に揺れ動くが、金属と酸化
膜の各々の屈折率および消衰係数によって一義的に決ま
るものである。
【0008】すなわち、金属表面に形成された酸化膜の
厚さをd,同屈折率をn2 ,同消衰係数をχ2 、また、
金属の屈折率をn3 ,同消衰係数をχ3 としたときの表
面反射率γは、干渉理論により次式で与えられる。
【0009】
【数1】
【0010】但し、上記各式における、A,B,C,
D,E,F,G,H,及びηを下記のようにする。な
お、λは波長である。
【0011】
【数2】
【0012】一方、放射率εは反射率γから次式で求め
られる。
【0013】
【数3】
【0014】このことから、上記(1),(2)式から
放射率εは、光学定数すなわち屈折率(n2 ,n3 )お
よび消衰係数(χ2 ,χ3 )が既知であるとき、酸化膜
の厚さdと波長λのみの関数となっていることがわか
る。
【0015】一方、2つの波長λ1 ,λ2 に対応する分
光放射エネルギーをE1 ,E2 、分光放射率をε1 ,ε
2 とした場合、ウィーンの式より、次式が求められる。
なお、Tは温度、C2 は物理定数(放射の第2定数=
0.014388m・K)である。
【0016】
【数4】
【0017】そして、この(3),(4)式より次式が
得られる。
【0018】
【数5】
【0019】この(5)式より、Rは、温度Tに関係な
く分光放射率εのみの関数となっている。従って、波長
λ1 ,λ2 が既知であれば、(5)式の左辺、すなわち
分光放射エネルギーEの波長λのべき乗の比からRは測
定可能な値となり、(5)式の右辺、すなわち分光放射
率εの波長λのべき乗の比から膜厚dを求めることがで
きる。
【0020】さて、以上の関係から分光放射エネルギー
Eと波長λのべき乗の比Rと、酸化膜の厚さdの関係を
表す特性グラフを描いてみると、図3に示すようにな
る。なお、この図3を描くための各値、すなわち波長
は、λ1 =0.9μm,λ2=1.2μmの2波長と
し、光学定数は、n2 =3,χ2 =0.8,n3 =6,
χ3 =4としたときの計算例を示したものである。
【0021】この図3に示されるグラフからわかるよう
に、酸化膜厚値dがある程度、このグラフではおよそ5
0nmより厚くなると、測定値Rと酸化膜厚値dは一義
的に決まるが、この値よりも薄い領域(d<50nm)
では測定値Rに対し、膜厚dが2値を取ってしまう。
(図中d1 ,d1') そこで、この測定値Rと酸化膜厚値dとを一義的に決定
するために、前述した1組の2つの波長λ1 ,λ2 の他
に波長λ3 を用い、これら互いに異なる3つの波長にお
ける組合せで、前記の組合せと異なる組合せの2つの波
長、例えばλ1とλ3 の場合の分光放射エネルギーEと
波長λのべき乗の比R2 と、酸化膜の厚さd2 の関係を
表す特性グラフを描く。本実施例では、λ1 は前記同様
0.9μmとし、λ3 =1.8μmとして計算し、図4
に示す。そして、測定値Rに対し、酸化膜厚dが2値を
取ってしまった場合に、この図4と前記図3とを用い、
これら2値のうちの一方の値を選択決定する。
【0022】ここで、例えば実際の酸化膜厚dが10n
mであった場合、図3の特性グラフよりR1 =1.36
(図中XA線)が計算値より求められる。そして、この
1に対応する膜厚値としてd1 =10nmとd1'=5
0nmの2値が得られる。同様に、図4の特性グラフよ
りR2 =2.49(図中XB線)が求められ、これに対
応する膜厚値d2 =10nmとd2'=60nmの2値が
得られる。
【0023】そして、図3,図4より得られたそれぞれ
対応する膜厚の値d1 ,d2 、及びd1',d2'を各々比
較すると、d1 =d2 となり、d1'≠d2'となる。これ
により、膜厚の値としてd1 若しくはこのd1 と等しい
2 を採用すれば良いことがわかる。
【0024】なお、上記した膜厚値の比較にあたって、
測定誤差や検量線の誤差のために互いに一致する値が得
られない場合には、各値の比較の際に、Δ=|d1 −d
2 |,Δ’=|d1'−d2'|の演算を行い、Δ<Δ’の
関係が成立することから、各々の差を取り、差が小さい
ほうを採用し、下記に示す式(6)より膜厚を求めれば
よい。
【0025】
【数6】
【0026】次に、本実施例による膜厚測定装置につい
て説明する。図1は本発明による膜厚測定装置の一実施
例を示すブロック構成図である。この実施例による膜厚
測定装置1は、各々の分光放射エネルギーの波長のべき
乗の比Rと金属などの被測定物体の表面に形成される酸
化膜の厚さdとの関係を示すデータに基づいて、実測し
た分光放射エネルギーから誤差を自動補正して被測定物
体の酸化膜の厚さを計測するもので、筐体本体内に検出
手段2、記憶手段3、演算手段4、照合手段5、決定手
段6、出力手段7が設けられている。なお、記憶手段
3、演算手段4、照合手段5、決定手段6、等はマイク
ロコンピュータ等で構成されている。
【0027】検出手段2は、予め定められた透過波長を
もつフィルタを有する回転セクタ21と、検出素子22
等から構成され、被測定物体Wである例えば鉄、アルミ
ニウム、黄銅などの金属からの互いに異なる波長帯とし
て本実施例では3つの波長帯λ1 ,λ2 ,λ3 における
各分光放射エネルギーE1 ,E2 ,E3 を検出してい
る。
【0028】記憶手段3には、図3および図4に示すよ
うに、予め計算または実測により求められた互いに異な
る前記3つの波長λ1 ,λ2 ,λ3 における各々の分光
放射エネルギーをE1 ,E2 ,E3 としたときのこれら
のうちの二組の分光放射エネルギーEの波長λのべき乗
の比Rと酸化膜厚dとの関係を示すデータ、あるいはこ
の関係を示すデータを近似する複数の検量線のデータ
(図示せず)が記憶されている。本実施例では、波長λ
1 とλ2 の組合せと、波長λ1 とλ3 の組合せとし、そ
れぞれの比をR1 ,R2 としている。
【0029】演算手段4は、前記検出手段2によって検
出された異なる3つの波長帯λ1 ,λ2 ,λ3 における
分光放射エネルギーE1 ,E2 ,E3 に基づいて、これ
ら3つの各データのうちの2組の分光放射エネルギーE
の波長λのべき乗の比R1 ,R2 を演算して照合手段5
に入力している。本実施例では、前記記憶手段3に合わ
せた組合せとしており、波長λ1 とλ2 の組合せと、波
長λ1 とλ3 の組合せにおける演算を行っている。
【0030】照合手段5は、前記記憶手段3に記憶され
たデータに基づいて演算手段4が演算した2組の分光放
射エネルギーの波長のべき乗の比R1 ,R2 に対応する
酸化膜厚値d1 ,d2 を読み出して決定手段6に入力し
ている。なお、照合手段5において読み出された2組の
分光放射エネルギーの波長のべき乗の比R1 ,R2 に対
応する酸化膜厚値d1 ,d2 が同値の場合には、この酸
化膜厚値を求める値として選択する。
【0031】決定手段6は比較手段61と選択手段62
を備えて構成されている。比較手段61は照合手段5が
読み出した各組の分光放射エネルギーの波長のべき乗の
比R1 ,R2 に対応する酸化膜厚値dが複数存在する場
合に、各々の酸化膜厚値d1 とd2 およびd1'とd2'を
比較し、その比較結果を選択手段62に入力している。
選択手段は62比較手段61の比較結果に基づいて一致
または最小誤差の酸化膜厚値を求める値として選択して
いる。
【0032】出力手段7は、前記決定手段6にて決定さ
れた酸化膜厚値を図示しない表示装置や印刷装置に出力
する。
【0033】次に、上記のように構成された膜厚測定装
置1により被測定物体Wの酸化膜厚Oを計測する方法を
説明する。なお、この方法において前述した測定の原理
に基づく測定の方法で述べた各数値を用いる。
【0034】まず、予め、図3および図4に示すように
互いに異なる3つの波長λ1 ,λ2,λ3 における各々
の分光放射エネルギーをE1 ,E2 ,E3 としたときの
各々の分光放射エネルギーの波長のべき乗の比R1 ,R
2 と酸化膜厚d1 ,d2 との関係を予め計算または実測
により求めておき、このデータを記憶手段3に記憶させ
る。なお、各波長の組合せはλ1 とλ2 ,λ1 とλ3
2組とし、λ1 =0.9μm,λ2 =1.2μm,λ3
=1.8μmとする。
【0035】次に、三つの波長λ1 ,λ2 ,λ3 におけ
る各々の分光放射エネルギーE1 ,E2 ,E3 を検出手
段2によって検出する。検出された各々の分光放射エネ
ルギーE1 ,E2 ,E3 の値は、演算手段にてこれら分
光放射エネルギーとこれに対応する前記波長を前述した
ように2組に組合せ、各々の分光放射エネルギーの波長
のべき乗の比R1 ,R2 を求める。そして、照合手段5
にて、この求めた各々の分光放射エネルギーの波長のべ
き乗の比R1 ,R2 に対応する酸化膜厚値d1 ,d2
記憶手段3のデータから読み出す。
【0036】読みだされた酸化膜厚値dが決定手段6の
比較手段61にて一義的に決まれば、この値を酸化膜厚
と決定し出力手段7に送られる。
【0037】一方ここで、記憶手段3から読み出された
酸化膜厚値dが、各組の分光放射エネルギーの波長のべ
き乗の比R1 ,R2 毎に複数存在した場合(例えば図3
および図4におけるXA,XBの点の酸化膜厚値d1
1',d2 ,d2')、比較手段61にてこれら読み出し
た各組の分光放射エネルギーの波長のべき乗の比R1
2 に対応する酸化膜厚値d1 とd2 およびd1'とd2'
を各々比較する。そして、比較された酸化膜厚値におい
て、選択手段62にて一致する酸化膜厚(図ではd1
2 =10nm)を酸化膜厚値として選択決定する。
【0038】なお、比較手段61における上述した複数
の酸化膜厚値の比較にあたって、検量線の近似誤差等に
より一致する酸化膜厚値がない場合には、各組の分光放
射エネルギーの波長のべき乗の比R1 ,R2 に対応する
酸化膜厚値d1 とd2 およびd1'とd2'を各々比較し
て、選択手段62にて差演算(Δ=|d1 −d2 |,
Δ’=|d1'−d2'|)を行い、Δ<Δ’の関係が成立
することから、各々の差を取り、差が小さいほうを採用
し、前述した式(6)より求まる最小誤差の酸化膜厚値
を選択し決定する。そして、出力手段7にこの酸化膜厚
値が送られる。
【0039】従って、この実施例による膜厚測定装置1
によれば、被測定物体Wより検出される分光放射エネル
ギーを、予め記憶された互いに異なる三つの波長λ1
λ2,λ3 の各々の分光放射エネルギーE1 ,E2 ,E
3 の波長のべき乗の比R1 ,R2 と酸化膜厚dとの関係
と照合して、対応する酸化膜厚を読み出し、読み出され
た酸化膜厚が複数存在する場合、各組の酸化膜厚を比較
し、一致または最小誤差の酸化膜厚を求める値として決
定しているので、酸化膜厚を一義的に決定でき、被測定
物体に形成された酸化膜の厚さの計測を高精度に行うこ
とができる。また、被測定物体である金属などに対し、
非接触でかつ連続して測定が可能となり、許容値内の膜
厚が形成された製品を得ることが可能となる。
【0040】本実施例では、3つの波長について分光放
射エネルギーの波長のべき乗の比と酸化膜厚との関係を
定め、1つの波長を共通として2組の波長の各々の分光
放射エネルギーの波長のべき乗の比Rと酸化膜厚dとの
関係に基づいて被測定物体Wに形成される酸化膜の厚さ
の計測を行う例について述べたが、4個以上の波長を用
いて計測を行ってもよい。また、2組以上の分光放射エ
ネルギーの波長のべき乗の比と酸化膜厚との関係を利用
して測定を行うようにしてもよい。
【0041】
【発明の効果】以上説明したように本発明による膜厚測
定装置では、被測定物体より検出される分光放射エネル
ギーを、予め記憶された互いに異なる複数の波長の各々
の分光放射エネルギーの波長のべき乗の比と酸化膜の厚
さとの関係と照合して対応する酸化膜厚値を読み出し、
読み出された酸化膜厚値が複数存在する場合には、各組
の酸化膜厚値を比較し、一致または最小誤差の酸化膜厚
値を求める値として決定しているので、最終的に酸化膜
の厚さは一義的に決定され、被測定物体に形成される酸
化膜の厚さの測定を高精度に行うことができるという効
果がある。また、被測定物体である金属などに対し、非
接触でかつ連続して測定が可能となるので、高温雰囲気
内でも人手によることなく酸化膜の計測が行え、この酸
化膜が許容値内に形成された製品を容易に、かつ確実に
得ることが可能となり、不良品の発生を抑えることがで
きるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による膜厚測定方法が適用される膜厚測
定装置の一実施例を示すブロック構成図
【図2】同実施例による酸化膜厚の測定原理の説明図
【図3】異なる2つの波長λ1 ,λ2 における各々の分
光放射エネルギーの波長のべき乗の比R1 と酸化膜厚値
1 との関係を示す特性グラフ
【図4】異なる2つの波長λ1 ,λ3 における各々の分
光放射エネルギーの波長のべき乗の比R2 と酸化膜厚値
2 との関係を示す特性グラフ
【符号の説明】
1…膜厚測定装置 2…検出手段 3…記憶手段 4…演算手段 5…照合手段 6…決定手段 7…出力手段 O…酸化膜 W…金属(被測定物体)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 互いに異なる二つの波長帯における各々
    の分光放射エネルギーの波長のべき乗の比と酸化膜の厚
    さとの関係に基づいて、被測定物体より実測した分光放
    射エネルギーから前記酸化膜の厚さを求めることを特徴
    とする膜厚測定装置。
  2. 【請求項2】 互いに異なる少なくとも3つ以上の波長
    帯のうちの任意の2つの波長帯を1組とし、これら波長
    帯における被測定物体の各々の分光放射エネルギーの波
    長のべき乗の比と酸化膜の厚さとの関係に基づいて、前
    記被測定物体より実測した少なくとも2組の分光放射エ
    ネルギーによる酸化膜厚値を求め、2個以上の酸化膜厚
    値が算出された時に、各組の酸化膜厚の値を比較して一
    致若しくは最小誤差の酸化膜厚値を選択する構成になる
    ことを特徴とする膜厚測定装置。
JP4066934A 1992-03-25 1992-03-25 膜厚測定装置 Pending JPH05272924A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4066934A JPH05272924A (ja) 1992-03-25 1992-03-25 膜厚測定装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4066934A JPH05272924A (ja) 1992-03-25 1992-03-25 膜厚測定装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05272924A true JPH05272924A (ja) 1993-10-22

Family

ID=13330326

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4066934A Pending JPH05272924A (ja) 1992-03-25 1992-03-25 膜厚測定装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05272924A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0285730A (ja) 表面状態が変化する物体に対する放射測温法及び放射測温装置
US8353626B2 (en) Emissivity independent non-contact high temperature measurement system and method
Lindermeir et al. Calibration of a Fourier transform spectrometer using three blackbody sources
US6016190A (en) Method and apparatus for true temperature determination
US5314249A (en) Surface condition measurement apparatus
RU2083961C1 (ru) Способ измерения температуры и коэффициента излучения поверхности
JPH05272924A (ja) 膜厚測定装置
JPH07270130A (ja) 酸化膜厚さ測定方法
JPH05164615A (ja) 放射測温装置
CN116888457A (zh) 用于确定液态的冶金产品的化学成分的系统和方法
JPH05126642A (ja) 放射測温方法およびその装置
JPH06331447A (ja) 放射温度計の精度評価方法および装置
JPH08219891A (ja) 鋼板の表面性状測定方法及び鋼板温度測定方法
KR0159954B1 (ko) 표면상태측정장치
JPH05142052A (ja) プロセス材料の物性値・表面温度測定装置
JPH09504370A (ja) マルチチャンネル高温計のチャンネル信号を評価する方法
JPH05273045A (ja) 透明性薄膜に被覆された物体の温度測定装置
Zhukov et al. Indirect, with Respect to the Nonlinearity Equation, Measurement of the Radiating Capacity and Temperature of Opaque Materials
JP4011754B2 (ja) 表面温度測定方法及び表面温度測定装置
CN114088238A (zh) 基于宽辐射谱的皮秒时间分辨冲击温度测量系统及方法
JPH0682044B2 (ja) 酸化膜計測装置及び薄鋼板の連続加熱バーナー制御装置
JPH08254502A (ja) 鋼材のスケール性状測定方法及び装置
JPH07146179A (ja) 測温方法および放射温度計
KR20230101914A (ko) 강 제품의 온도의 추정
JPH05231944A (ja) 多波長を用いた放射測温方法