JPH0527100A - Ｘ線回折顕微装置 - Google Patents
Ｘ線回折顕微装置Info
- Publication number
- JPH0527100A JPH0527100A JP18655791A JP18655791A JPH0527100A JP H0527100 A JPH0527100 A JP H0527100A JP 18655791 A JP18655791 A JP 18655791A JP 18655791 A JP18655791 A JP 18655791A JP H0527100 A JPH0527100 A JP H0527100A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- ray
- crystal
- diamond plate
- frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 試料自体の重さによるたわみやねじれの発生
を防止する。 【構成】 Ｘ線回折顕微装置の試料保持具は、ダイヤモ
ンド板５を枠６に固定したものである。試料は、ダイヤ
モンド板５の表面７と枠６の上面８に試料結晶１５の表
面９と底面１０が密着するように置かれる。これによっ
て試料の自重によるたわみやねじれを防止できる。ま
た、ダイヤモンド板５は、Ｘ線に対する透過能が非常に
高いため、Ｘ線の進路を妨げない。
を防止する。 【構成】 Ｘ線回折顕微装置の試料保持具は、ダイヤモ
ンド板５を枠６に固定したものである。試料は、ダイヤ
モンド板５の表面７と枠６の上面８に試料結晶１５の表
面９と底面１０が密着するように置かれる。これによっ
て試料の自重によるたわみやねじれを防止できる。ま
た、ダイヤモンド板５は、Ｘ線に対する透過能が非常に
高いため、Ｘ線の進路を妨げない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、結晶学的評価に用いる
Ｘ線回折顕微装置の改良，改善に関するものである。
Ｘ線回折顕微装置の改良，改善に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】モノクロメータ結晶を備えた透過型Ｘ線
回折顕微装置は、格子歪を回折位置のずれ、反射率の変
化として検出するものである。格子歪の結晶内分布に関
する信頼性のある情報を知ることは、極めて重要な問題
であり、特に、大面積である材料を取り扱う現在の半導
体工業の分野においては、迅速、かつ非破壊で材料試験
を行う必要から、他の試験法に比較して、非常に有力な
試験，評価手段であるとして用いられている。
回折顕微装置は、格子歪を回折位置のずれ、反射率の変
化として検出するものである。格子歪の結晶内分布に関
する信頼性のある情報を知ることは、極めて重要な問題
であり、特に、大面積である材料を取り扱う現在の半導
体工業の分野においては、迅速、かつ非破壊で材料試験
を行う必要から、他の試験法に比較して、非常に有力な
試験，評価手段であるとして用いられている。
【０００３】モノクロメータ結晶を備えた透過型Ｘ線回
折顕微装置とは、二結晶法透過型Ｘ線回折顕微装置，三
結晶法透過型Ｘ線回折顕微装置というようなＸ線回折顕
微装置を意味するものである。
折顕微装置とは、二結晶法透過型Ｘ線回折顕微装置，三
結晶法透過型Ｘ線回折顕微装置というようなＸ線回折顕
微装置を意味するものである。
【０００４】以下、二結晶法透過型Ｘ線回折顕微装置に
ついて説明する。
ついて説明する。
【０００５】図２は、二結晶法透過型Ｘ線回折顕微装置
（以下、回折顕微装置と省略して用いる）を説明するた
めに用いた回折装置の正面図を模式的に表した図であ
る。
（以下、回折顕微装置と省略して用いる）を説明するた
めに用いた回折装置の正面図を模式的に表した図であ
る。
【０００６】Ｘ線焦点１１より発生したＸ線１８は、図
２の矢印で示した如く、スリット１２を通じ、モノクロ
メータ結晶１３で単色化及びビーム幅の拡大化がされた
後、スリット１４を通じ、回折を起こす幾何学的条件を
満足する入射角度θ3に保持された試料結晶１５に入射
される。
２の矢印で示した如く、スリット１２を通じ、モノクロ
メータ結晶１３で単色化及びビーム幅の拡大化がされた
後、スリット１４を通じ、回折を起こす幾何学的条件を
満足する入射角度θ3に保持された試料結晶１５に入射
される。
【０００７】ここで、モノクロメータ結晶の役割は、入
射Ｘ線１８を単色化し、その発散角を非常に小さくする
と共にビーム幅をｄ1からｄ2に拡大することにある。そ
のためには、Ｘ線の動力学的論理に基づき（アクタ・ク
リスタログラフィカ，Ａ２４，２００，１９６８）、図
２で示した如く、Ｘ線をモノクロメータ結晶で非対称反
射させ、試料結晶へ入射する必要がある。
射Ｘ線１８を単色化し、その発散角を非常に小さくする
と共にビーム幅をｄ1からｄ2に拡大することにある。そ
のためには、Ｘ線の動力学的論理に基づき（アクタ・ク
リスタログラフィカ，Ａ２４，２００，１９６８）、図
２で示した如く、Ｘ線をモノクロメータ結晶で非対称反
射させ、試料結晶へ入射する必要がある。
【０００８】非対称反射とは、モノクロメータ結晶の結
晶表面（直線ＡＢで示した）と入射Ｘ線１８とがなす角
θ1と、結晶表面と反射Ｘ線１９間のなす角θ2とが異な
る反射を言い、モノクロメータとして用いる場合はθ1
＜θ2の条件で用いられる。この条件下では、Ｘ線は、
そのビーム幅が拡大されて試料結晶１５に入射され、出
射Ｘ線は、試料結晶１５の広い部分から回折され、写真
乾板１６に回折強度分布として記録される。１７はスリ
ットである。
晶表面（直線ＡＢで示した）と入射Ｘ線１８とがなす角
θ1と、結晶表面と反射Ｘ線１９間のなす角θ2とが異な
る反射を言い、モノクロメータとして用いる場合はθ1
＜θ2の条件で用いられる。この条件下では、Ｘ線は、
そのビーム幅が拡大されて試料結晶１５に入射され、出
射Ｘ線は、試料結晶１５の広い部分から回折され、写真
乾板１６に回折強度分布として記録される。１７はスリ
ットである。
【０００９】この強度分布がいわゆる回折顕微像と呼ば
れるもので、格子歪に非常に敏感であるため、試料結晶
の格子歪分布を評価することが可能である。しかし、こ
の測定法では、試料結晶を無歪で保持することができ、
かつ、回折Ｘ線を遮らない試料保持具が必要である。
れるもので、格子歪に非常に敏感であるため、試料結晶
の格子歪分布を評価することが可能である。しかし、こ
の測定法では、試料結晶を無歪で保持することができ、
かつ、回折Ｘ線を遮らない試料保持具が必要である。
【００１０】従来、この試料保持具としては、図３に断
面図を示すような、丈夫な枠２６に固定された厚さ数１
０μｍのマイラー膜２５で試料結晶１５をはさんで保持
するものが知られている。
面図を示すような、丈夫な枠２６に固定された厚さ数１
０μｍのマイラー膜２５で試料結晶１５をはさんで保持
するものが知られている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】以上述べた試料保持具
を用いた場合でも、大きな試料結晶を使用する場合、マ
イラー膜２５が柔らかいため、試料自体の重さによるた
わみやねじれの発生を避けることはできなかった。
を用いた場合でも、大きな試料結晶を使用する場合、マ
イラー膜２５が柔らかいため、試料自体の重さによるた
わみやねじれの発生を避けることはできなかった。
【００１２】本発明の目的は、このような従来の欠点を
解決したモノクロメータ結晶を備えた透過型Ｘ線回折顕
微装置を提供することにある。
解決したモノクロメータ結晶を備えた透過型Ｘ線回折顕
微装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によるＸ線回折顕微装置においては、試料保
持具を有し、Ｘ線を照射して格子歪を回折位置のずれ、
反射率の変化として検出するモノクロメータ結晶を備え
た透過型Ｘ線回折装置であって、試料保持具は、被測定
試料をたてかけるものであり、ダイヤモンド板と枠とを
有し、ダイヤモンド板は、被測定試料の表面を密着させ
てＸ線を透過させるものであり、枠は、ダイヤモンド板
の外縁に取付けられ、ダイヤモンド板に密着させた被測
定試料を支えるものである。
め、本発明によるＸ線回折顕微装置においては、試料保
持具を有し、Ｘ線を照射して格子歪を回折位置のずれ、
反射率の変化として検出するモノクロメータ結晶を備え
た透過型Ｘ線回折装置であって、試料保持具は、被測定
試料をたてかけるものであり、ダイヤモンド板と枠とを
有し、ダイヤモンド板は、被測定試料の表面を密着させ
てＸ線を透過させるものであり、枠は、ダイヤモンド板
の外縁に取付けられ、ダイヤモンド板に密着させた被測
定試料を支えるものである。
【００１４】
【作用】本発明においては、硬くて、Ｘ線に対する透過
能が高い材料であるダイヤモンドを試料保持具の試料と
接触する部分に使用することにより、回折Ｘ線を遮るこ
となく試料結晶の自重によるたわみやねじれを防止して
いる。また、試料をはさんで固定せずに、たてかけて置
くことにより、試料を無歪のまま保持できる。
能が高い材料であるダイヤモンドを試料保持具の試料と
接触する部分に使用することにより、回折Ｘ線を遮るこ
となく試料結晶の自重によるたわみやねじれを防止して
いる。また、試料をはさんで固定せずに、たてかけて置
くことにより、試料を無歪のまま保持できる。
【００１５】
【実施例】以下、一実施例を示す図面を用いて説明す
る。
る。
【００１６】図１は、本発明の一実施例において使用さ
れる試料及び試料保持具の断面を模式的に示した図面で
ある。試料保持具は、ダイヤモンド板５が枠６に固定さ
れたものであり、ダイヤモンド板５の周囲に枠６を取付
けたものである。
れる試料及び試料保持具の断面を模式的に示した図面で
ある。試料保持具は、ダイヤモンド板５が枠６に固定さ
れたものであり、ダイヤモンド板５の周囲に枠６を取付
けたものである。
【００１７】試料結晶１５は、ダイヤモンド板５の表面
７と枠６の上面８に試料結晶１５の表面９と底面１０と
が密着するように置き、試料の自重によるたわみやねじ
れを防止している。また、ダイヤモンド板５は、Ｘ線に
対する透過能が非常に高いため、Ｘ線の進路を妨げない
ようにできている。
７と枠６の上面８に試料結晶１５の表面９と底面１０と
が密着するように置き、試料の自重によるたわみやねじ
れを防止している。また、ダイヤモンド板５は、Ｘ線に
対する透過能が非常に高いため、Ｘ線の進路を妨げない
ようにできている。
【００１８】本実施例で得られた結果の一例を示す。試
料に入射するＸ線としては、モノクロメータ結晶により
発散角を０．２秒（１秒は１度の３６００分の１）以下
にしたＡｇＫα1（波長０．０５５９４ｎｍ）を使用し
た。厚さ３６０μｍで３ｃｍ角のＳｉ単結晶試料に対し
Ｘ線照射領域全体からの回折顕微像が得られた。
料に入射するＸ線としては、モノクロメータ結晶により
発散角を０．２秒（１秒は１度の３６００分の１）以下
にしたＡｇＫα1（波長０．０５５９４ｎｍ）を使用し
た。厚さ３６０μｍで３ｃｍ角のＳｉ単結晶試料に対し
Ｘ線照射領域全体からの回折顕微像が得られた。
【００１９】比較のために、従来のマイラー膜からなる
試料保持具に保持した同じ試料について測定したところ
Ｘ線照射領域の３分の１以下の領域からしか回折顕微像
が得られなかった。
試料保持具に保持した同じ試料について測定したところ
Ｘ線照射領域の３分の１以下の領域からしか回折顕微像
が得られなかった。
【００２０】このように本発明によれば、試料結晶の自
重等によるたわみやねじれの防止が達成され、試料結晶
の広い領域からの回折顕微像を得ることが可能になっ
た。
重等によるたわみやねじれの防止が達成され、試料結晶
の広い領域からの回折顕微像を得ることが可能になっ
た。
【００２１】
【発明の効果】以上の如く、本発明によればＸ線回折顕
微像測定の改良，改善が達成され、大口径材料の薄い材
料の試験，評価等に与える効果は大きく、その経済的効
果は大きい。
微像測定の改良，改善が達成され、大口径材料の薄い材
料の試験，評価等に与える効果は大きく、その経済的効
果は大きい。
【図１】本発明の一実施例における試料保持具の断面図
の模式図である。
の模式図である。
【図２】従来のＸ線回折顕微装置の正面図の模式図であ
る。
る。
【図３】従来の試料保持具の断面図の模式図である。
５ ダイヤモンド板 ６ 枠 ７ ダイヤモンド板の表面 ８ 枠の上面 ９ 試料結晶の表面 １０ 試料結晶の底面 １１ Ｘ線焦点 １２，１４，１７ スリット １３ モノクロメータ結晶 １５ 試料結晶 １６ 写真乾板 １８，１９ Ｘ線ビーム ２５ マイラー膜
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 試料保持具を有し、Ｘ線を照射して格子
歪を回折位置のずれ、反射率の変化として検出するモノ
クロメータ結晶を備えた透過型Ｘ線回折装置であって、 試料保持具は、被測定試料をたてかけるものであり、ダ
イヤモンド板と枠とを有し、 ダイヤモンド板は、被測定試料の表面を密着させてＸ線
を透過させるものであり、 枠は、ダイヤモンド板の外縁に取付けられ、ダイヤモン
ド板に密着させた被測定試料を支えるものであることを
特徴とするＸ線回折顕微装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18655791A JPH0527100A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | Ｘ線回折顕微装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18655791A JPH0527100A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | Ｘ線回折顕微装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0527100A true JPH0527100A (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=16190610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18655791A Pending JPH0527100A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | Ｘ線回折顕微装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0527100A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0977463A3 (en) * | 1998-07-30 | 2004-06-09 | OpenHeart Ltd. | Processing method for localization of acoustic image for audio signals for the left and right ears |
-
1991
- 1991-07-25 JP JP18655791A patent/JPH0527100A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0977463A3 (en) * | 1998-07-30 | 2004-06-09 | OpenHeart Ltd. | Processing method for localization of acoustic image for audio signals for the left and right ears |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4653723B2 (ja) | 光応力発生器及び検出器 | |
| US8767918B2 (en) | X-ray scattering measurement device and X-ray scattering measurement method | |
| TW396274B (en) | Method and apparatus for the nonuniformity inspection of the transparent material and method of selecting the transparent substrate | |
| JP2008177579A (ja) | 動的ウエハ応力処理装置 | |
| JP7053683B2 (ja) | 偏光レティクル検査方法及び装置 | |
| JP2003329617A5 (ja) | ||
| JP6230618B2 (ja) | 面内斜入射回折を用いた表面マッピングのための装置、および、方法 | |
| JPS63124942A (ja) | 特に半導体スライスの表面性状を測定するための方法と装置 | |
| JP2001305072A (ja) | 基板の欠陥検出方法及び装置 | |
| JPH11173946A (ja) | 光学的特性測定装置 | |
| JP4909480B2 (ja) | 層および表面特性の光学測定方法およびその装置 | |
| JP4104924B2 (ja) | 光学的測定方法およびその装置 | |
| JP2006284210A (ja) | Ｘ線単結晶評価装置 | |
| JP2002267418A (ja) | 膜厚測定装置 | |
| US4928294A (en) | Method and apparatus for line-modified asymmetric crystal topography | |
| JPH0527100A (ja) | Ｘ線回折顕微装置 | |
| JP2001033406A (ja) | Ｘ線位相差撮像方法及びｘ線位相差撮像装置 | |
| US20070247623A1 (en) | Polarization measuring devices, ellipsometers and polarization measuring methods | |
| JP2005274173A (ja) | ウエハー基板、液晶ディスプレイ用透明ガラス等の被検査物の表面上の異物・表面検査方法およびその装置 | |
| JP4367820B2 (ja) | Ｘ線反射率測定装置 | |
| JPH06258238A (ja) | 結晶欠陥検査方法 | |
| JP6984860B2 (ja) | 欠陥を検査する方法および欠陥検査装置 | |
| JPH04160400A (ja) | Ｘ線回折顕微装置 | |
| JP2001272355A (ja) | 異物検査装置 | |
| JP2004251866A (ja) | Ｘ線回折測定装置およびｘ線回折測定方法 |