JPH0526766A - 光学膜付プリズムの特性評価用装置 - Google Patents

光学膜付プリズムの特性評価用装置

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JPH0526766A
JPH0526766A JP3184787A JP18478791A JPH0526766A JP H0526766 A JPH0526766 A JP H0526766A JP 3184787 A JP3184787 A JP 3184787A JP 18478791 A JP18478791 A JP 18478791A JP H0526766 A JPH0526766 A JP H0526766A
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JP
Japan
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prism
optical film
measured
light
visible light
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Withdrawn
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JP3184787A
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English (en)
Inventor
Toshihiro Otani
俊博 大谷
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0526766A publication Critical patent/JPH0526766A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は光学膜付プリズムについて所定波長の
光に対する透過光強度等の特性を評価するのに用いる特
性評価用装置に関し、光学膜に対する入射角を容易に特
定し得るようにすることを目的とする。 【構成】微動台22と、ステージ24と、基準プリズム
26と、被測定プリズム2を支持する手段と、測定波長
の光及び可視光を被測定プリズム2に照射する手段と、
可視光の投射位置を確認するための互いに直交するよう
に配置された第1及び第2のスクリーン38,40とか
ら構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光学膜付プリズムにつ
いて所定波長の光に対する透過光強度等の特性を評価す
るのに用いる光学膜付プリズムの特性評価用装置に関す
る。
【0002】光通信システムその他の光学装置の分野に
おいては、偏光ビームスプリッタや光カプラを構成する
ために、プリズム表面に誘電体多層膜等の光学膜を形成
してなる光学膜付プリズムが使用される。
【0003】この種の光学膜付プリズムについて、例え
ばある波長の光に対する透過光強度等を測定するに際し
ては、入射角等の条件を高精度に特定しておくことが要
求される。
【0004】特に、光学膜付プリズムの使用形態が、光
学膜付プリズムの光学膜形成面を他のプリズムの一面に
密着させるものである場合であって、提供される光学膜
付プリズムの特性を、光学膜付プリズムと上記他のプリ
ズムとを組み合わせて評価する必要がある場合には、測
定に必要な諸条件を容易に設定し得る特性評価用装置が
必要とされる。
【0005】
【従来の技術】図5により光学膜付プリズムの特性評価
の例を説明する。この光学膜付プリズム2は、直角三角
形の上面及び底面を有する三角プリズム1の最も面積が
大きい長方形側面(斜面)に光学膜4を形成して構成さ
れる。
【0006】この光学膜付プリズムの透過率の測定を例
にとると、光学膜4の実用時の性能を考慮して、三角プ
リズム1と同一形状のダミープリズム6をその斜面が三
角プリズム1の斜面に密着するように支持して測定を行
う。この場合、屈折率のマッチングをとるために、ダミ
ープリズム6と光学膜4の間にはマッチング剤8を介在
させておく。
【0007】透過率測定時の調整に際しては、測定光の
光学膜4に対する入射角を特定しておく必要があるか
ら、一般的には調整の容易化の観点から、光が三角プリ
ズム1の側面に垂直に入射するようにする。測定光が三
角プリズムに対して垂直入射するようにするための光軸
調整方法を図6により説明する。
【0008】光通信において多用される光の波長は1.
3μm或いは1.55μmであるから、目視による光路
の確認を行うことができないので、光軸調整に際しては
可視光を用いる。
【0009】即ち、図6(A)に示されるように、He
−Neレーザ等の光源10からの光が光ファイバ12を
介して平行ビームとしてスクリーン14のピンホールか
ら出射するようにし、このビームを三角プリズム1の側
面で反射させて、スクリーン14上に投射されたビーム
スポットを目視により確認するようにする。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上述した光軸調整方法
において、可視光のプリズムに対する照射方向から見て
プリズムの前後の傾斜については、ビームスポットがス
クリーン14上で上下方向に移動するので、図6(A)
に示されるように、これを知ることができる。
【0011】また、三角プリズム1とダミープリズム6
の平行度については、図6(B)に示すように、ダミー
プリズム6の外側の表面で反射した光によるビームスポ
ットがスクリーン14上でピンホールからずれるので、
これを知ることができる。
【0012】しかしながら、プリズムに対する可視光の
照射方向から見てプリズムの左右方向の傾きについて
は、図6(C)に示すように、これを知ることができな
い。図6(C)に示すようにプリズムが傾斜している
と、測定光がプリズムに垂直入射しているときの透過光
強度を測定するに際しては問題が生じないが、実用時の
条件を考慮してプリズムに対する入射角を0°以外のあ
る値に設定して透過率を測定する場合には、光学膜に対
する入射角がプリズムの傾斜に応じて変化するので、測
定条件を特定し得ないという問題があった。
【0013】本発明はこのような点に鑑みて創作された
もので、光学膜に対する入射角を容易に特定することが
できる光学膜付プリズムの特性評価用装置の提供を目的
としている。
【0014】
【課題を解決するための手段】上述した技術的課題を解
決するために創作された本発明の光学膜付プリズムの特
性評価用装置は、鉛直方向のZ軸並びに水平面上の互い
に直交するX軸及びY軸を中心として回動可能な微動台
と、該微動台上に載置固定されたステージと、該ステー
ジ上に固定された基準プリズムと、被測定プリズムを上
記基準プリズムに対して着脱可能に密着して支持する手
段と、第1の光源からの測定波長の光及び第2の光源か
らの可視光を合波すると共に平行ビームにして上記被測
定プリズムに照射する手段と、上記被測定プリズム及び
上記基準プリズムの外側表面で反射した上記可視光が投
射する第1のスクリーンと、上記被測定プリズム及び上
記基準プリズムの密着面で反射した上記可視光が投射す
る第2のスクリーンとを備えて構成される。
【0015】
【作用】本発明の構成によると、被測定プリズム及び基
準プリズムの密着面で反射した可視光が投射する第2の
スクリーンを備えているので、前述したプリズムの左右
方向の傾きについてもこれを排除するように調整するこ
とができ、微動台により任意の入射角を設定したときに
この入射角を容易に特定することができる。
【0016】
【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。図1は本発明の実施例を示す光学膜付プリズムの特
性評価用装置の全体構成図である。22は直交3軸を中
心として回動可能な微動台であり、この微動台22上に
は、被測定プリズム2をセットすることができるステー
ジ24が載置固定されている。26はステージ24上に
固定された基準プリズムであり、これは従来のダミープ
リズムに相当している。即ち測定に際しては、基準プリ
ズム26の斜面に被測定プリズム2の斜面が密着するよ
うにされる。
【0017】28は測定波長(例えば1.3μm,1.
55μm)の光を出力する第1の光源、30は可視光を
出力するHe−Neレーザ等からなる第2の光源であ
る。第1の光源28及び第2の光源30の出力は光カプ
ラ32に接続されており、測定波長の光又は可視光を選
択的に使用し得るようになっている。
【0018】光カプラ32からの測定波長の光又は可視
光は、光ファイバ34を介してコリメータ36に導か
れ、この光は平行ビームとされて第1のスクリーン38
のピンホールを介して被測定プリズム2に照射される。
【0019】40はステージ24に取り付けられた第2
のスクリーンであり、この第2のスクリーンには、被測
定プリズム2及び基準プリズム26の密着面で反射し
た、即ち光学膜4で反射した可視光が投射する。
【0020】図2は被測定プリズムを基準プリズムに対
して着脱可能に密着して支持する手段を説明するための
ステージ近傍の斜視図である。ステージ24の上面に
は、基準プリズム26の断面と相似形で且つこれよりも
大きい断面を有する三角柱形状の溝42が形成されてお
り、この溝42を画成している三角柱の斜面と基準プリ
ズム26の斜面は同一平面上に位置している。
【0021】被測定プリズムはこの溝42内に挿入され
て、基準プリズム26と平行で且つ斜面同士が密着する
ように支持される。44,46は溝42に挿入された被
測定プリズムの位置の確定をなすとともに斜面同士の密
着状態を維持するための弾性体等からなるブロックであ
り、これらブロック44,46はそれぞれ調節ネジ4
8,50により移動可能に構成されている。
【0022】次にこの装置の使用方法について説明す
る。尚、説明に際して、被測定プリズムに対する可視光
等の照射方向をY軸とし、Y軸と水平面上で直交する方
向をX軸とし、鉛直方向をZ軸として、これら3軸を中
心として微動台22が回動可能であるとする。
【0023】まず、ブロック44,46及び調節ネジ4
8,50を用いて被測定プリズム2をステージ24にセ
ットする。次いで、第2の光源30から可視光を出力し
て、コリメータ36から可視光のビームが被測定プリズ
ム2に照射されるようにする。
【0024】そして、被測定プリズム2の表面で反射し
た可視光と、被測定プリズム2の表面から入射して光学
膜4を透過し基準プリズム26の表面で反射してもう一
度光学膜4を透過し被測定プリズム2の表面から再び出
射した可視光とが、第1のスクリーン38に投射したと
きに、それらのビームスポットがピンホールに一致する
ように調節を行う。
【0025】この調節は図3に示されるように、ステー
ジ24をX軸及びZ軸を中心として回動させること並び
に被測定プリズム2の基準プリズム26に対する相対位
置関係を調節ネジ48,50を緩めながら調整すること
とによりなされる。
【0026】しかる後、図4に示すように、被測定プリ
ズム2の表面から入射して光学膜4で反射しさらに被測
定プリズム2のもう一つの表面から出射した可視光が第
2のスクリーン40に投射されたときに、光学膜4に対
する入射光路と出射光路が互いに直交するように予め設
定されたスクリーン40上の所定位置に投射ビームスポ
ットが位置するように、Y軸を中心としてステージ22
を回動調整する。
【0027】以上の一連の調整を行うと、光学膜4に対
する入射角は正確に45°となっているので、この状態
でZ軸を中心として微動台22を回動したときに、この
回動角を45°に加えるか或いは45°から減ずること
により、微動台回動後における光学膜4に対する入射角
を容易に特定し得る。
【0028】従って、第2の光源30を用いて測定波長
の光に対する透過強度測定等を行うに際して、光学膜に
対する任意の入射角について容易に特性評価を行うこと
ができる。
【0029】本実施例においては、図4で説明したY軸
調整に際して、第2のスクリーン40に投射された可視
光のビームスポットを目視により確認するようにしてい
るが、このビームスポットが第2のスクリーン40上の
所定の位置にあることを、該所定の位置にフォトダイオ
ード等の受光素子を設けておき、これにより検知を行う
ことも可能である。
【0030】本実施例によると、ブロック44,46及
び調節ネジ48,50により、ステージの溝42に挿入
された被測定プリズム2を着脱可能に固定するようにし
ているので、被測定プリズムと基準プリズムの相対位置
関係の調整が容易である。
【0031】また、光カプラ32を用いて第1の光源2
8及び第2の光源30からの光が共通の出射ポート(コ
リメータ36)から出射するようにしているので、複数
回透過率測定等の測定を繰り返す場合に、基準強度(レ
ファレンス)を毎回測定する必要がなく、測定が容易化
される。
【0032】尚、測定精度を高めるために、基準プリズ
ム26の表面に反射防止膜を形成しておくことが望まし
い。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
光学膜に対する入射角を容易に特定し得る光学膜付プリ
ズムの特性評価用装置の提供が可能になるという効果を
奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す光学膜付プリズムの特性
評価用装置の全体構成図である。
【図2】本発明実施例におけるステージ近傍の斜視図で
ある。
【図3】本発明実施例におけるX,Z軸調整の説明図で
ある。
【図4】本発明実施例におけるY軸調整の説明図であ
る。
【図5】光学膜付プリズムの特性評価の例を示す図であ
る。
【図6】従来技術における光軸調整の説明図である。
【符号の説明】
2 被測定プリズム 22 微動台 24 ステージ 26 基準プリズム 28 第1の光源 30 第2の光源 38 第1のスクリーン 40 第2のスクリーン

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 鉛直方向のZ軸並びに水平面上の互いに
    直交するX軸及びY軸を中心として回動可能な微動台(2
    2)と、 該微動台(22)上に載置固定されたステージ(24)と、 該ステージ(24)上に固定された基準プリズム(26)と、 被測定プリズム(2) を上記基準プリズム(26)に対して着
    脱可能に密着して支持する手段と、 第1の光源(28)からの測定波長の光及び第2の光源(30)
    からの可視光を合波すると共に平行ビームにして上記被
    測定プリズム(2) に照射する手段と、 上記被測定プリズム(2) 及び上記基準プリズム(26)の外
    側表面で反射した上記可視光が投射する第1のスクリー
    ン(38)と、 上記被測定プリズム(2) 及び上記基準プリズム(26)の密
    着面で反射した上記可視光が投射する第2のスクリーン
    (40)とを備えたことを特徴とする光学膜付プリズム特性
    評価用装置。
JP3184787A 1991-07-24 1991-07-24 光学膜付プリズムの特性評価用装置 Withdrawn JPH0526766A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4886519A (en) * 1983-11-02 1989-12-12 Petroleum Fermentations N.V. Method for reducing sox emissions during the combustion of sulfur-containing combustible compositions
USRE36983E (en) * 1983-11-02 2000-12-12 Petroferm Inc. Pre-atomized fuels and process for producing same
US6417896B1 (en) 1995-02-15 2002-07-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Active matrix display device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4886519A (en) * 1983-11-02 1989-12-12 Petroleum Fermentations N.V. Method for reducing sox emissions during the combustion of sulfur-containing combustible compositions
USRE36983E (en) * 1983-11-02 2000-12-12 Petroferm Inc. Pre-atomized fuels and process for producing same
US6417896B1 (en) 1995-02-15 2002-07-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Active matrix display device
US6914642B2 (en) 1995-02-15 2005-07-05 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Active matrix display device

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Effective date: 19981008