JP3153319B2 - 形状測定用光源装置 - Google Patents

形状測定用光源装置

Info

Publication number
JP3153319B2
JP3153319B2 JP08184392A JP8184392A JP3153319B2 JP 3153319 B2 JP3153319 B2 JP 3153319B2 JP 08184392 A JP08184392 A JP 08184392A JP 8184392 A JP8184392 A JP 8184392A JP 3153319 B2 JP3153319 B2 JP 3153319B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
reference plane
light source
light
light beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP08184392A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05280944A (ja
Inventor
守央 村瀬
国良 岩田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokai Rika Co Ltd
Original Assignee
Tokai Rika Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokai Rika Co Ltd filed Critical Tokai Rika Co Ltd
Priority to JP08184392A priority Critical patent/JP3153319B2/ja
Publication of JPH05280944A publication Critical patent/JPH05280944A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3153319B2 publication Critical patent/JP3153319B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、形状測定用光源装置に
かかり、特に、スリット状の光ビームを被測定面に照射
し被測定面からの反射光を受光することにより被測定面
の形状を測定する形状測定装置の光源装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、非接触にて被測定面の凸凹等
の形状を三角測量法を用いて測定する形状測定装置があ
る(特公昭50−36374号公報、特開昭56−13
8204号公報、特開昭57−22508号公報、特開
昭58−52508号公報等)。
【0003】これらの形状測定装置は、スリット状のレ
ーザービーム(以下、スリット光線という)を被測定面
へ照射し、その照射した光の光軸と所定の角度をもって
設けられたセンサにおける被測定面の反射光の受光位置
によって表面形状等を測定する。詳細には、図11に示
すように、形状測定装置12は、半導体レーザー50、
コリメートレンズ52及び拡散レンズ54を備えた光源
装置10と、受光レンズ56及び受光素子58を備えた
受光装置と、受光素子58に接続された演算回路62と
から構成される。上記拡散レンズ54にはロッドレンズ
やシリンドリカルレンズが用いられている。また、受光
素子58には、CCDセンサやPSD素子が用いられて
いる。
【0004】この形状測定装置12によれば、半導体レ
ーザー50の射出光がコリメートレンズ52により被測
定面60Aに集束するようにされる。また、コリメート
レンズ52から射出されたレーザービームは、拡散レン
ズ54によってスリット光線として被測定面60Aへ照
射されるようになっている。そして、被測定面60Aに
おける輝線が受光レンズ56により集光され、受光素子
58へ照射される。従って、この受光素子58上には、
被測定面60A上の輝線の光の像(以下、スリット像と
いう)が結像される。受光素子58は結像されたスリッ
ト像の位置に応じた電気信号を演算回路62に出力す
る。
【0005】例えば、上記光源装置10は、図13に示
したように、鏡筒30を備えており、コリメートレンズ
52が鏡筒30の内部に固定されている。鏡筒30の図
13右方向には拡散レンズ54がレンズストッパー34
によって固定されている。また、鏡筒30の図13左方
向にはレーザーホルダー32に固定された半導体レーザ
ー50が設けられている。このレーザーホルダー32の
外周及び鏡筒30の内周はネジ状とされており、図13
矢印A方向にレーザーホルダー32を回転することによ
って、半導体レーザー50とコリメートレンズ52との
距離が小さくなるようになっている。このように、半導
体レーザー50とコリメートレンズ52との距離を変化
させることにより、所定の位置にある被測定面60Aに
スリット光線が集束するように調節する。
【0006】従って、上記のような、光源装置10を形
状測定装置12の本体に取り付けて光源装置10からの
光を被測定面へ照射することによって、表面形状等を測
定するための光源部分を形成することができる。
【0007】また、上記受光装置の光軸は光源装置10
の光軸と所定の角度θをもって取り付けられている。こ
のため、被測定面60Aが光源装置10の光軸方向に段
差がある場合には、被測定面60A上の光点の位置は、
段差に応じて光源装置10の光軸方向に変位することに
なり、受光素子58上での光像は、図12(1)に示し
たようになる。この受光素子58として2次元CCDセ
ンサを用いると、例えば、受光素子58の図12紙面水
平方向で任意のライン59A、59Bの出力信号は、図
12(2)、(3)のようになる。2次元CCDセンサ
は、このような信号を演算回路62に出力する。
【0008】演算回路62は、入力された信号に基づい
て、上記受光素子58上の全てのラインとスリット像6
4との交点位置(光点位置)を求めることによって、受
光素子58上におけるスリット像64の位置を求める。
求めた位置の各々の偏差を求めて、被測定面60Aの段
差を求める。この段差を受光素子58の全てに亘って求
めることによって測定対象物60の形状を測定すること
ができる。
【0009】上記光点位置は、以下の式(1)に示した
ように、受光素子58の任意のラインから出力される信
号の加重平均によって求めることができる。すなわち、
任意のラインにおけるスリット像の位置範囲から位置を
特定する場合、受光素子における位置に照射された光量
で重みを付けて平均を求める(図14(1)参照)。こ
れにより、受光素子58上の光点が所定の大きさになっ
ても、光点の位置を求めることができる。
【0010】 Za={Σ(Ii ・Zi )}/ΣIi −−−(1) 但し、i=0、1、・・・ Za:光点位置 Zi :受光素子における位置 Ii :位置Zi に照射された光量 また、予め設定されたしきい値Io以上のレーザービー
ムが受光素子に照射された位置について単純な平均を行
うことによって求めることもできる。すなわち、図14
(2)に示したように、出力信号のしきい値Ioの交点
Q1,Q2を求め、交点Q1,Q2に対応する受光素子
上の位置Zb,Zcを求める。求めた位置Zb,Zcの
中心値Zdを、受光素子58上におけるスリット像64
とラインとの交点の光点位置として求める。
【0011】なお、予め測定対象物60の基準面に対応
する受光素子58上の所定の位置を基準位置と定める
と、被測定面60Aの基準位置からの変位に応じて受光
素子58上に像点の変位となって表れるので、受光素子
58上の光像位置に応じて出力される信号に基づいて求
めたスリット像64の位置と予め設定された基準の光点
位置との偏差を求めることによって、基準面からの被測
定面の変位を求めることができる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】ところで、光源として
の半導体レーザー50は、その射出方向及び発光部50
Aの位置に個体差があることは周知である。このため、
光源装置10を形状測定装置12に取り付けた後に、被
測定面60Aにスリット光線が集束するように調節して
いる。また、他の光源を用いることでも、同様に被測定
面60Aにスリット光線を集束させる必要がある。
【0013】また、上記のような形状測定装置12は、
被測定面上に照射されたスリット光線による輝線の3次
元的な位置によって形状測定装置12と被測定面との距
離または被測定面の段差を測定している。従って、形状
測定装置12と被測定面との距離または被測定面の段差
を正確に測定するためには、スリット光線の集束する位
置が3次元的な所定の位置に位置するように調整しなけ
ればならない。
【0014】しかしながら、スリット光線の集束する3
次元的な位置は、専用の位置計測装置がないと正確に計
測することができない。これによって、形状測定装置1
2におけるスリット光線の集束する3次元的な位置を計
測するためには、光源装置10を形状測定装置12へ取
り付けた後に、スリット光線による輝線の3次元的な位
置を計測し調整することになる。従って、この調整毎に
位置計測装置を用いてスリット光線の集束する位置を計
測することになり、このような専用の位置計測装置が必
要になると共に調整作業が複雑になる。
【0015】また、光源には寿命等によって交換するこ
とがあるが、上記のような形状測定装置12は、光源装
置を交換する度かつ光源を形状測定装置12へ取り付け
た後にスリット光線の3次元的な位置を調整する複雑な
調整作業を行わなければならない。
【0016】本発明は、上記事実を考慮して、調整が簡
単であると共に高精度でかつ容易に取り付けることがで
きる形状測定用光源装置の提供を目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項1に記載の発明は、略中心に貫通穴が設けら
れ、該貫通穴の中心軸に平行な第1の基準面、該貫通穴
の中心軸に平行であると共に前記第1の基準面に直交す
る第2の基準面、及び前記第1の基準面及び前記第2の
基準面の各々に直交する第3の基準面を有し、入射光を
集束させるレンズが前記貫通穴の中心軸と該レンズの光
軸とが一致または平行になるように配設されたボデー
と、光ビームを射出する光源が配設されかつ、該光源か
ら射出される光ビームが前記貫通穴を通過するように前
記ボデーに取り付けられたマウントと、前記光ビームの
射出方向が前記第1の基準面に平行でかつ前記第2の基
準面に平行になるように、かつ前記レンズと前記光源と
の間隔を、前記光ビームの射出方向を略維持しつつ変化
させることによって前記第3の基準面から所定位置に前
記光ビームが集束されるように前記マウントの位置を調
整可能なマウント調整手段と、入射される光ビームを一
方に発散させかつ該発散させた方向と交差する方向の光
ビームはそのまま通過させる発散手段が配設され、該発
散手段によって発散される光ビームによって形成される
光ビーム面が前記第3の基準面に直角になるように前記
ボデーに取り付けられたレンズマウントと、前記発散手
段に入射される光ビームの光軸付近を中心軸として該発
散手段回転させることによって前記光ビーム面が前記
第1の基準面に平行または直交するように、かつ前記発
散手段と前記第3の基準面との距離を略維持しつつ前記
発散手段を移動させることによって前記レンズから射出
された光ビームの光軸と前記発散手段の光軸中心とが一
致するように前記レンズマウントの位置を調整可能なレ
ンズマウント調整手段と、を備えている。
【0018】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の形状測定用光源装置において、基準の可視光を射出す
る参照光源が該可視光の射出位置及び射出方向を変更可
能に配設された基準光源部と、前記貫通穴に配設されか
つ前記基準光源部から射出された可視光を前記貫通穴の
中心軸へ案内すると共に前記光ビームを透過する反射手
段と、を前記ボデーに更に加えたことを特徴としてい
る。
【0019】
【作用】請求項1に記載の形状測定用光源装置は、略中
心に貫通穴が設けられたボデーを備えている。このボデ
ーは貫通穴の中心軸に平行な第1の基準面、貫通穴の中
心軸に平行であると共に第1の基準面に直交する第2の
基準面、及び第1の基準面及び第2の基準面の各々に直
交する第3の基準面を有している。また、このボデーに
は、レンズが配置されており、このレンズは入射される
光ビームを集束させる。このレンズは貫通穴の中心軸と
レンズの光軸とが一致または平行になるように配設され
る。
【0020】ボデーには、光ビームを射出する光源を有
したマウントが配設されており、マウントはこの光源か
ら射出される光ビームが貫通穴を通過するように配置さ
れる。このマウントは、マウント調整手段によって、位
置調整が可能である。マウント調整手段は、光ビームの
射出方向が第1の基準面に平行でかつ第2の基準面に平
行、かつ前記レンズと前記光源との間隔を、光ビームの
射出方向を略維持しつつ変化させることによって第3の
基準面から所定位置に光ビームが集束されるように調整
できる。
【0021】またボデーには、レンズマウントが配設さ
れている。レンズマウントには発散手段が配設されてお
り、発散手段は入射される光ビームを一方に発散させか
つこの発散させた方向と交差する方向にはそのまま光ビ
ームを通過させる。このレンズマウントは、発散手段に
よって発散される光ビームによって形成される光ビーム
面が第3の基準面に直交するようにボデーに取り付けら
れ、レンズマウントは、レンズマウント調整手段によっ
て調整することがきる。このレンズマウント調整手段
は、発散手段に入射される光ビームの光軸付近を中心軸
として発散手段が回転させることによって光ビーム面が
第1の基準面に平行または直交するように、レンズマウ
ントの位置を調整できる。また、レンズマウント調整手
段は発散手段と第3の基準面との距離を略維持しつつ発
散手段を移動させる調整もできる。これによって、レン
ズから射出された光ビームの光軸と発散手段の光軸中心
とが一致するようにレンズマウントの位置を調整でき
従って、光源から射出された光ビームはレンズに照
射され、このレンズに入射された光ビームは集束されて
発散手段へ照射され、発散手段によって、一方へ発散さ
れる。この発散された光ビームの中心軸は、第1の基準
面に平行であると共に第2の基準面にも平行に調整され
る。従って、形状測定用光源装置を形状測定装置に取り
付けるときは、第1の基準面及び第2の基準面を形状測
定用光源装置の所定位置へ固定するのみで容易に光軸を
所定の位置に配設することができる。また、発散手段と
第3の基準面との距離が略維持されるため、第3の基準
面を形状測定用光源装置の所定位置へ固定するのみでス
リット光線の集束される位置を容易に所定の位置になる
ように、光源装置を配設することができる。
【0022】請求項2に記載の発明によれば、請求項1
に記載した形状測定用光源装置のボデーに、基準の可視
光を射出する参照光源が該可視光の射出位置及び射出方
向を変更可能に配設された基準光源部と、貫通穴に配設
されかつ基準光源部から射出された可視光を貫通穴の中
心軸へ案内すると共に光ビームを透過する反射手段と、
を更に加えている。これによって、スリット光線が目視
によって見えにくい光を用いても、参照用の光を被測定
面側に照射することができ、容易に調整するための位置
を調整することができる。
【0023】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の第1実施例
を詳細に説明する。なお、第1実施例では、光源装置1
0に配設する半導体レーザー50として、検出時の外来
可視光の影響を少なくするため、近赤外線に発光波長域
を有する半導体レーザー14を用い、かつ拡散レンズ5
4としては円柱状のロッドレンズ16を用い、この半導
体レーザー14及びロッドレンズ16により、レーザー
ビームをスリット状に拡散して被測定面へ照射するよう
にするものである。また、第1実施例に利用した形状測
定装置12は、図11に示した従来例と略同様のため、
同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【0024】図1に示したように、光源装置10は、略
立方体状のボデー20、このボデー20に取り付けられ
たレーザーマウント22及びレンズボックス24から構
成されている。
【0025】図2乃至図4に示したように、ボデー20
の外面には、各々直交する基準面P1、P2が形成さ
れ、各基準面P1、P2は高い平面度で研磨されてい
る。また、基準面P1、P2に直交する外面も高い平面
度で研磨された基準面P3とされる。
【0026】ボデー20の略中心には、貫通穴110が
設けられており、その貫通穴110の中腹部に球面レン
ズで構成されたコリメートレンズ52が取り付けられた
コリメートレンズホルダ120が接着剤等の固定部材に
よって固着されている。この貫通穴110の内面とコリ
メートレンズホルダ120の外面とは互いに高精度で嵌
合するように形成されかつ、貫通穴110の中心軸が基
準面P1及び基準面P2に平行になるように形成されて
いる。従って、コリメートレンズホルダ120に取り付
けられたコリメートレンズ52の光軸Lは基準面P1及
び基準面P2と平行になる。
【0027】ボデー20の一方の面(図4の紙面左側)
には、所定径の止め穴118が形成されており、この止
め穴118にはレーザーマウント22が配置される。レ
ーザーマウント22は、押板112、レーザー保持板1
14、レーザー止め板116から構成され、押板112
は、レーザー止め板116を介してレーザー保持板11
4に固定ネジ136によって固定されている。
【0028】押板112は、高さが低い円筒状とされ、
この押板112には、円筒の中心軸を中心とした所定の
半径Rの円周上に貫通穴134が合計6ヶ所形成される
と共に一方の面(図4の紙面右側)には、半導体レーザ
ー14のベース部14Aの外径より大きな径の止め穴1
28が設けられている。この止め穴128の内部には波
バネ132及び当て板130が収納され、当て板130
に半導体レーザー14が配置される。
【0029】レーザー保持板114は、高さが低い円筒
状とされ、その中空部122の端部(図4の紙面左側)
は、半導体レーザー14のベース部14Aの外径と嵌合
保持できるように中空部122の円周に沿って切りかか
れている。また、レーザー保持板114には、上記半径
Rと同径の円周上にコリメートレンズホルダ120度間
隔で3ヶ所にネジ穴124が設けられかつ、この半径R
の円周上で各ネジ穴124の間には貫通穴126が設け
られている。
【0030】従って、押板112をレーザー保持板11
4へ固定ネジ136によって固定することにより、ベー
ス部14Aの上部はレーザー保持板114に嵌合しかつ
ベース部14Aの下部は押板112へ嵌合される。ま
た、押板112の内部には波バネ132及び当て板13
0が収納されることによって、半導体レーザー14がレ
ーザー保持板114側へ付勢されることになる。
【0031】また、レーザー止め板116は、薄板状の
円板でその中心付近に半導体レーザー14のベース部1
4Aが嵌合するように穴が形成され、かつ半導体レーザ
ー14のベース部14Aに形成された切欠(図示省略)
に嵌合するように凸部(図示省略)が設けられている。
また、レーザー止め板116は、押板112に形成され
た貫通穴134と同位置でかつ同径の貫通孔が形成され
る。これによって、押板112及びレーザー保持板11
4の内部に配置される半導体レーザー14の回転が阻止
される。
【0032】上記レーザーマウント22は、ボデー20
へ調整ネジ138によって3ヶ所で固定される。すなわ
ち、ボデー20には、上記半径Rと同径の円周上にコリ
メートレンズホルダ120度間隔で3ヶ所にネジ穴14
2が設けられており、ネジ穴142に配置される各々の
調整ネジ138のボデー20とレーザーマウント22と
の間にはバネ140が配設される。このバネ140によ
って、ボデー20とレーザーマウント22とは、互いに
離間する方向に付勢され、がたつくことなく所定の間隔
を有することになる。従って、調整ネジ138の締め付
け量に応じてボデー20とレーザーマウント22との間
隔を変更することによって、半導体レーザー14とコリ
メートレンズ52との間隔を変更することができる。
【0033】ボデー20の貫通穴110の他方(図4の
紙面右側)には、所定径の止め穴150が形成されてお
り、この止め穴150側の基準面P3上にレンズボック
ス24が配置される。レンズボックス24は、レンズマ
ウンタ152、ロッドレンズホルダ154から構成さ
れ、レンズマウンタ152は、ボデー20に固定ネジ1
62によって固定される。
【0034】レンズマウンタ152は、直方体状のブロ
ックとされ、このレンズマウンタ152の対角方向(図
3参照)の端部付近の2ヶ所に、固定ネジ162のねじ
部分の外径より大きな径の貫通穴156が形成されると
共に一方の面(図4の紙面左側)には、矩形状の角穴1
58が設けられている。この角穴158の内部にはロッ
ドレンズホルダ154が収納され、角穴158はロッド
レンズ16の円筒中心軸と直交する方向にロッドレンズ
ホルダ154が移動可能なように形成されると共にこの
移動のための調整ネジ160が対向して配置される。な
お、このレンズマウンタ152及びロッドレンズホルダ
154の接触面は摺動可能なように研磨されている。こ
の対向した調整ネジ160のねじ込み量に応じてロッド
レンズホルダ154が、調整ネジ160のねじ込み方向
(図4紙面に水平方向)に移動される。
【0035】ボデー20の止め穴150には、内側(図
4の紙面左側)から順に波バネ166、カラー164が
配設される。このカラー164は、高さが低い円筒状と
され、レンズマウンタ152がボデー20の基準面P3
に接触するときに波バネ166のバネ力がカラー164
を介してロッドレンズホルダ154をレンズマウンタ1
52方向へ付勢することになる。これによって、調整ネ
ジ160によってロッドレンズホルダ154の位置を移
動するときでも、光軸L方向へロッドレンズ16が変化
することはない。
【0036】従って、上記レンズボックス24に対向す
る調整ネジ160のねじ込み量に応じてロッドレンズ1
6の円筒中心位置を、光軸Lと交差する方向に調整でき
る。また、レンズボックス24をボデー20へ固定ネジ
162によって固定するときに、レンズマウンタ152
の貫通穴156と固定ネジ162との隙間の量の範囲で
光軸Lの周りを回転する方向にレンズボックス24を回
転させることによって、ロッドレンズ16の円筒中心軸
を回転させることができる。
【0037】以下、第1実施例の作用を、光源装置10
の光軸調整と共に説明する。先ず、半導体レーザー14
から射出されるレーザービームの射出方向、及び結像位
置の調整について説明する。
【0038】レーザーマウント22は、調整ネジ138
によって、ボデー20へ3ヶ所で固定されている。この
レーザーマウント22とボデー20とは、バネ140に
よって離間する方向に付勢されており、ボデー20とレ
ーザーマウント22との間隔は、レーザーマウント22
が当接した調整ネジ138の頭部とボデー20との間隔
で決定される。これによって、コリメートレンズ52と
半導体レーザー14との間隔が決定される。また、レー
ザーマウント22は、各調整ネジ138の締め付け量に
応じてボデー20に対する調整ネジ138の頭部の位置
が変化することによって、レーザーマウント22のボデ
ー20に対する向きを変化できる。これによって、レー
ザーマウント22に配設された半導体レーザー14のレ
ーザービームの射出方向が変更できる。従って、3つの
調整ネジ138の締め付け量を変更することによって、
ボデー20に対する半導体レーザー14のレーザービー
ムの射出方向、及び発光位置を調整する。
【0039】例えば、平面度の高い定盤等の上面にボデ
ー20の基準面P1を当接し、所定の距離を隔てた位置
で、半導体レーザー14から射出されたレーザービーム
の定盤等の上面からの高さを計測する。次に3つの調整
ネジ138の締め付け量を変更することによって、レー
ザービームの高さが基準面P1と光軸Lとの距離になる
まで調整する。基準面P2に対しても同様に調整を行
い、この基準面P1、P2の各々に対して調整が終了す
ると、半導体レーザー14から射出されたレーザービー
ムは基準面P1、P2に平行な光線になる。
【0040】ここで、形状測定装置12に光源装置10
を取り付けた場合に、より正確な計測値を得るため、被
測定面に照射されるレーザービームの結像位置、すなわ
ち、スリット光線の厚み(幅)を調整する必要がある。
この場合、上記基準面P1、P2に対する調整時に、レ
ーザービームのビーム径を計測しながら調整を行うこと
によって、半導体レーザー14から射出されたレーザー
ビームをコリメートまたは結像位置を調整することがで
きる。すなわち、コリメートレンズ52から射出される
レーザービームの射出方向(角度)はコリメートレンズ
52と半導体レーザー14との間隔によって決定され、
コリメートされたレーザービームは、距離を隔てた位置
でビーム径を計測してもビーム径が変化することはな
い。一方、コリメートレンズ52から射出されたレーザ
ービームが集束するときは、所定の位置で結像する。従
って、3つの調整ネジ138の締め付け量を変更しコリ
メートレンズ52と半導体レーザー14との間隔を変更
することによって所定位置でビーム径が最小になるよう
に調整する。
【0041】なお、上記結像位置を調整するときには、
基準面P3と結像位置との距離を計測することによっ
て、光源装置10の結像位置を測定することができる。
【0042】このように、上記3つの調整ネジ138の
締め付け量を変更することによって、基準面P1、P2
に平行な光線にすることができ、かつコリメートレンズ
52と半導体レーザー14との間隔を変更することによ
ってレーザービームを所定位置に結像させることができ
る。
【0043】次に、スリット光線の長さ方向の調整につ
いて説明する。レンズボックス24は、固定ネジ162
によって、ボデー20へ2ヶ所で固定されている。この
レンズボックス24のレンズマウンタ152に設けられ
た貫通穴156と固定ネジ162の外周とは、隙間を有
しており、レンズマウンタ152の貫通穴156と固定
ネジ162との隙間の量の範囲で光軸Lの周りを回転す
る方向にレンズボックス24を僅かに回転させることが
できる。これによって、レンズマウンタ152に配設さ
れた16の円筒中心軸を回転させることができ、ロッド
レンズ16から射出されるスリット光線の方向を変更
(回転)させることができる。すなわち、カラー164
をガイドとして回転できる程度に軽く締め付けた状態
で、レーザー光の広がり方向(スリット方向)をレンズ
ボックス24の回転により調整する。
【0044】この場合、上記半導体レーザー14から射
出されるレーザービームの射出方向等の調整と同様にし
て、基準面P2(P1)を定盤等の上面に当接し、所定
の距離を隔てた位置で、スリット光線の傾きを計測し、
定盤等の上面と平行(垂直)になるようにする。これに
よって、スリット光線の長さ方向の向きを調整すること
ができる。この調整の後、固定ネジ162を固定状態ま
で締め付ける。従って、スリット光線の長さ方向は基準
面P2に対して平行かつ基準面P1に対して垂直にな
る。
【0045】次に、スリット光線の強度分布の調整につ
いて説明する。コリメートレンズ52から射出されるレ
ーザービームの光軸L上にロッドレンズ16の円筒軸の
中心がないときは、ロッドレンズ16から射出されるレ
ーザービームの強度分布が光軸Lを中心として対象にな
らずに偏ってしまう。形状測定装置12に光源装置10
を取り付けた場合に、より正確な計測値を得るために
は、被測定面に照射されるレーザービームの強度分布は
均一であることが好ましい。そこで、均一な強度分布を
得るため、ロッドレンズ16の円筒軸の中心と光軸Lと
を一致させる。すなわち、対向する調整ネジ160のね
じ込み量を変更することによってロッドレンズ16をロ
ッドレンズ16の円筒軸と交差する方向へ微動し、ロッ
ドレンズ16の円筒軸の中心と光軸Lとを一致させる。
これによって、ロッドレンズ16から射出されるレーザ
ービーム(スリット光線)は、ロッドレンズ16の円筒
軸を中心とした対称な光強度分布となる。
【0046】これらの調整によって、光源装置10は、
ボデー20上の基準面P1、P2、P3に対してレーザ
ービームの射出方向、結像位置及びスリット光線の方向
が定められると共に、スリット光線は高密度で均一な強
度分布となる。
【0047】この調整された光源装置10を形状測定装
置12へ基準面P1、P2、P3を基準として取り付け
ることによって、形状測定装置12は計測するための良
好なスリット光線を形成することができる。従って、形
状測定装置12では、半導体レーザー14からレーザー
ビームが射出されると、コリメートレンズ52及びロッ
ドレンズ16を介して被測定面60Aに照射される。ロ
ッドレンズ16から射出されるレーザービームは、スリ
ット状に発散されて被測定面60A上に照射される。被
測定面60Aに照射されたレーザービーム(スリット光
線)の反射光は、受光レンズ56により集光されて、受
光素子58上に照射される。受光素子58は照射された
レーザービームの位置及び光強度に応じた信号を演算回
路62へ出力する。演算回路62は、入力された信号の
基づいて加重平均を行うことによってスリット像64の
位置に対応する値(重心値)、または、単純平均を行う
ことによってスリット像64の位置に対応する値(平均
値)を求め、受光素子58上におけるスリット像の位置
を求める。求めたスリット像の位置の偏差を求めること
によって、被測定面の段差を求めることができる。
【0048】以上説明したように、第1実施例では、基
準面P1、P2、P3を設けることによって、スリット
光線の線幅やスリット光線の結像位置の調整を、実際に
形状測定装置12に設置した後に行うことなく、予めス
リット光線の調整を行うことができると共に、調整され
た光源装置10を形状測定装置12に取り付けるのみで
良好なスリット光線を形成することができる。
【0049】次に、第2実施例を説明する。第2実施例
は、可視光を射出する半導体レーザー18のレーザービ
ームを参照光として用い、この参照光を計測するための
レーザービームに重畳することによって、明室において
も目視で容易に測定部位が確認できるようにしたもので
ある。なお、第2実施例は第1実施例と略同様の構成の
ため、同一部分は同一符号を付し、詳細な説明は省略
し、異なる部分のみを説明する。
【0050】図5に示したように、光源装置10は、略
立方体状のボデー40、このボデー40に取り付けられ
たレーザーマウント22、このレーザーマウント22と
同一構成にされた参照光源マウント42、ミラーマウン
ト44及びレンズボックス46から構成されている。
【0051】図6乃至図8に示したように、ボデー40
の外面には、上記第1実施例と同様に、各々直交する基
準面P1、P2が形成され、各基準面P1、P2は高い
平面度で研磨されている。また、基準面P1、P2に直
交する外面も高い平面度で研磨された基準面P3とされ
る。
【0052】ボデー40には、基準面P1、P2と平行
な方向に貫通穴210が設けられ、この貫通穴210と
交差しかつ基準面P2と垂直な方向に貫通穴208が設
けられている。この貫通穴210に沿ったボデー40の
一方の面(図8の紙面左側)には、所定径の止め穴11
8が形成されており、この止め穴118にはレーザーマ
ウント22が配置される。レーザーマウント22の構成
は、上記第1実施例と同様のため、説明を省略する。貫
通穴210に沿った止め穴118方向の端部には、球面
レンズで構成されたコリメートレンズ52が取り付けら
れたコリメートレンズホルダ120が接着剤等の固定部
材によって固着されている。この貫通穴210の内面と
コリメートレンズホルダ120の外面とは互いに高精度
で嵌合するように形成されかつ、貫通穴210の中心軸
が基準面P1及び基準面P2に平行になるように形成さ
れている。従って、コリメートレンズホルダ120に取
り付けられたコリメートレンズ52の光軸L2は基準面
P1及び基準面P2と平行になる。
【0053】また、貫通穴208に沿ったボデー40の
一方の面(図8の紙面上側)には、所定径の止め穴21
8が形成されており、この止め穴218には参照光源マ
ウント42が配置される。参照光源マウント42は、レ
ーザーマウント22と同一の構成にされている。すなわ
ち、参照光源マウント42は、レーザーマウント22の
押板112、レーザー保持板114、レーザー止め板1
16と同一形状をした押板212、参照レーザー保持板
214、参照レーザー止め板216から構成され、押板
212は、参照レーザー止め板216を介して参照レー
ザー保持板214に固定ネジ236によって固定されて
いる。
【0054】押板212の内部には波バネ232及び当
て板230が収納され、当て板230に可視光を射出す
る半導体レーザー18が配置される。従って、第1実施
例と同様に、押板212を参照レーザー保持板214へ
固定ネジ236によって固定することにより、半導体レ
ーザー18が固定され、参照レーザー止め板216によ
って半導体レーザー18の回転が阻止されるようになっ
ている。また、押板212の内部には波バネ232及び
当て板230が収納されることによって、半導体レーザ
ー18が参照レーザー保持板214側へ付勢される。
【0055】上記参照光源マウント42は、ボデー40
へ調整ネジ238によって3ヶ所で固定されるが、調整
ネジ238に通された240によって、ボデー40と参
照光源マウント42とは、互いに離間する方向に付勢さ
れ、がたつくことなく所定の間隔を有することになる。
従って、調整ネジ238の締め付け量に応じてボデー4
0と参照光源マウント42との間隔を変更することによ
って、半導体レーザー18とコリメートレンズ52との
間隔を変更することができる。
【0056】貫通穴208と貫通穴210とが交差する
位置には、基準面P2、P3と平行な方向に貫通穴27
0が設けられ、この貫通穴270の周囲、基準面P2と
45度傾斜された方向でかつ貫通穴270を中心として
対向した2ヶ所の位置にネジ穴276(図9参照)が設
けられている。この貫通穴270には、ミラーマウント
44が挿入される。ミラーマウント44は円筒状とさ
れ、胴体274及び胴体274の一方の端部(図9右
側)が胴体274の外径より大きな径のツバ部272を
有している。このツバ部272には、ネジ穴276に対
応した2ヶ所にネジ280のネジ径より大きな貫通穴2
78が設けられている。また、貫通穴270の内面と胴
体274の外面とは互いに高精度で嵌合するように形成
されている。従って、ネジ280によってミラーマウン
ト44をボデー40に固定するとき、ミラーマウント4
4の貫通穴278とネジ280との隙間だけ、ミラーマ
ウント44を回転させることができる。
【0057】ミラーマウント44の胴体274の先端付
近(図9左側)でかつ、ミラーマウント44をボデー4
0へ配置したときの光軸L2付近は、コリメートレンズ
52から射出されたレーザービームが通過するに充分な
大きさの長孔282が設けられている。また、この長孔
282を中心として、ミラーマウント44のツバ部27
2と対向する端部は、矩形状のダイクロイックミラー4
8を取り付けるための段差(図示省略)が設けられ、ダ
イクロイックミラー48を接着剤等によってミラーマウ
ント44に接着する。ミラーマウント44をネジ280
によりボデー40へ取り付けることによって、ダイクロ
イックミラー48は光軸L2と略45度の角度を有した
位置に配置される。なお、このダイクロイックミラー4
8は、可視光域の波長を反射すると共に近赤外または赤
外域の波長を透過するものである。
【0058】ボデー40の貫通穴210に沿ったボデー
40の他方の面(図8の紙面右側)には、所定径の止め
穴150が形成されており、この止め穴150側の基準
面P3上にレンズボックス46が配置される。レンズボ
ックス46は、レンズマウンタ252、ロッドレンズホ
ルダ154から構成され、レンズマウンタ252は、ボ
デー40に固定ネジ262によって固定される(図10
参照)。
【0059】レンズマウンタ252は、直方体状のブロ
ックとされ、このレンズマウンタ252の対角方向の端
部付近の2ヶ所は、基準面P3方向へ段差を有しかつ固
定ネジ262のねじ部分の外径より大きな径の貫通穴2
56が形成される(図10参照)。また一方の面(図8
の紙面左側)には、矩形状の角穴258が設けられてい
る。この角穴258の内部にロッドレンズホルダ154
が収納され、角穴258はロッドレンズ16の円筒中心
軸と直交する方向にロッドレンズホルダ154が移動可
能なように形成される。なお、このレンズマウンタ25
2及びロッドレンズホルダ154の接触面は摺動可能な
ように研磨されている。
【0060】ボデー40の止め穴150には、第1実施
例と同様に、内側(図8の紙面左側)から順に波バネ1
66、カラー164が配設され、レンズマウンタ252
がボデー40の基準面P3に接触するときに波バネ16
6のバネ力がカラー164を介してロッドレンズホルダ
154をレンズマウンタ252方向へ付勢するようにな
っている。なお、レンズマウンタ252のロッドレンズ
ホルダ154上部(図8上方)には、固定ネジ260に
よってロッドレンズホルダ154を固定するためのねじ
穴が設けられている。また、第1実施例のように、ロッ
ドレンズホルダ154の位置を調整するようにしてもよ
い。
【0061】レンズマウンタ252の基準面P3と対向
する方向(図8右方向)の面には、光軸L2を中心とし
て対向する位置に長尺状のスリット板290の一端が固
定ネジ292によって固定される(図7参照)。このス
リット板290は、ロッドレンズ16の円筒中心軸と略
平行になるように、長手方向がロッドレンズ16から射
出されるスリット光線の長さ方向と平行に配設され、各
々のスリット板290の隙間を変更することができる。
これによってスリット板290はロッドレンズ16から
射出されるスリット状のレーザービームの余分な光を遮
断する。
【0062】以下、第2実施例の作用を説明する。な
お、半導体レーザー18から射出されるレーザービーム
の射出方向、及び結像位置等の調整については、上記第
1実施例と同様のため、省略する。
【0063】半導体レーザー14からレーザービームが
射出されると、コリメートレンズ52及びロッドレンズ
16を介して被測定面60Aに照射される。第2実施例
では、この半導体レーザー14側に配設されたコリメー
トレンズ52とロッドレンズ16との間にはダイクロイ
ックミラー48が配設され、半導体レーザー18から射
出されるレーザービームを半導体レーザー14から射出
されたレーザービームに重畳する。これによって、光源
装置10から射出されるレーザービームは、半導体レー
ザー14から射出される近赤外波長のレーザービーム
と、半導体レーザー18から射出される可視波長のレー
ザービームと、が重畳された1つのレーザービームとな
ると共に、集束位置(結像位置)が一致している。従っ
て、光源装置10から射出されるレーザービームは可視
光域の波長を含んでいるため、明室においても、形状測
定装置12の測定部位を目視によって確認することがで
きる。以上説明したように、第2実施例では、測定部位
が目視でき、スリット光線を被測定面60Aの適正な位
置に照射することができるので、測定部位がずれること
により測定値がずれるようなことはなく、測定対象物の
形状や距離等を最適に測定することができる。
【0064】なお、上記実施例では、ロッドレンズの回
転はレンズボックスを回転させることによって行い、ロ
ッドレンズの中心軸と入射光軸との光軸合わせはコリメ
ートレンズホルダを移動させることによって行ったが、
本発明はこれに限定されるものではなく、各々の調整を
別個の調整機構を設けて行ってもよく、レンズボックス
にロッドレンズを取り付けた状態でレンズボックスを移
動することによって調整を行ってもよい。
【0065】なお、上記実施例ではロッドレンズを利用
してスリット状の光を得る例について説明したが、スリ
ット状の光を得る他の素子としてシリンドリカルレンズ
やシリンドリカルミラー等を用いることもでき、回転多
面鏡等のレーザービームをスキャンすることによりスリ
ット状の光を得ることもできる。
【0066】
【発明の効果】以上説明したように請求項1に記載の発
明によれば、各々が直交する基準面によって、容易に被
測定面に照射するレーザービームを調整することができ
る、という優れた効果を有する。
【0067】請求項2に記載の発明によれば、可視光の
光ビームによって、測定部位を容易に目視で確認するこ
とができる、という優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例にかかる形状測定用光源装
置を上部後方から見た斜視図である。
【図2】第1実施例の形状測定用光源装置の左側面図及
び一部断面を含む正面図である。
【図3】第1実施例の形状測定用光源装置の右側面図で
ある。
【図4】図2のI−I断面図である。
【図5】第2実施例の形状測定用光源装置を上部後方か
ら見た斜視図である。
【図6】第2実施例の形状測定用光源装置の左側面図及
び正面図である。
【図7】第2実施例の形状測定用光源装置の右側面図で
ある。
【図8】図6のII−II断面図である。
【図9】図6のIII−III断面図である。
【図10】図7のIV−IV断面図である。
【図11】本発明の実施例にかかる形状測定用光源装置
が適応可能な形状測定装置の概略構成を示す斜視図であ
る。
【図12】(1)は、形状測定装置の受光素子(受光
面)上におけるレーザービームの照射状態を示す線図で
ある。(2)、(3)は受光素子の出力信号の例を示す
線図である。
【図13】従来の形状測定装置の光源装置の構成を示す
断面図である。
【図14】(1)、(2)は、受光素子の任意のライン
における位置と照射される光量との関係を示す線図であ
る。
【符号の説明】
P1 第1の基準面 P2 第2の基準面 P3 第3の基準面 10 光源装置(形状測定装置用光源装置) 12 形状測定装置 14 半導体レーザー(光源) 16 ロッドレンズ(発散手段) 18 半導体レーザー(参照光源) 20 ボデー(ボデー) 22 レーザーマウント(マウント) 24 レンズボックス(レンズマウント) 42 参照光源マウント(基準光源部) 48 ダイクロイックミラー(反射手段) 52 コリメートレンズ(レンズ)
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01B 11/00 - 11/30 102 G01C 5/00 G01C 15/00

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 略中心に貫通穴が設けられ、該貫通穴の
    中心軸に平行な第1の基準面、該貫通穴の中心軸に平行
    であると共に前記第1の基準面に直交する第2の基準
    面、及び前記第1の基準面及び前記第2の基準面の各々
    に直交する第3の基準面を有し、入射光を集束させるレ
    ンズが前記貫通穴の中心軸と該レンズの光軸とが一致ま
    たは平行になるように配設されたボデーと、 光ビームを射出する光源が配設されかつ、該光源から射
    出される光ビームが前記貫通穴を通過するように前記ボ
    デーに取り付けられたマウントと、 前記光ビームの射出方向が前記第1の基準面に平行でか
    つ前記第2の基準面に平行になるように、かつ前記レン
    ズと前記光源との間隔を、前記光ビームの射出方向を略
    維持しつつ変化させることによって前記第3の基準面か
    ら所定位置に前記光ビームが集束されるように前記マウ
    ントの位置を調整可能なマウント調整手段と、 入射される光ビームを一方に発散させかつ該発散させた
    方向と交差する方向の光ビームはそのまま通過させる発
    散手段が配設され、該発散手段によって発散される光ビ
    ームによって形成される光ビーム面が前記第3の基準面
    に直角になるように前記ボデーに取り付けられたレンズ
    マウントと、 前記発散手段に入射される光ビームの光軸付近を中心軸
    として該発散手段回転させることによって前記光ビー
    ム面が前記第1の基準面に平行または直交するように、
    かつ前記発散手段と前記第3の基準面との距離を略維持
    しつつ前記発散手段を移動させることによって前記レン
    ズから射出された光ビームの光軸と前記発散手段の光軸
    中心とが一致するように前記レンズマウントの位置を調
    整可能なレンズマウント調整手段と、 を備えた形状測定用光源装置。
  2. 【請求項2】 基準の可視光を射出する参照光源が該可
    視光の射出位置及び射出方向を変更可能に配設された基
    準光源部と、 前記貫通穴に配設されかつ前記基準光源部から射出され
    た可視光を前記貫通穴の中心軸へ案内すると共に前記光
    ビームを透過する反射手段と、 を前記ボデーに更に備えたことを特徴とする請求項1に
    記載の形状測定用光源装置。
JP08184392A 1992-04-03 1992-04-03 形状測定用光源装置 Expired - Fee Related JP3153319B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP08184392A JP3153319B2 (ja) 1992-04-03 1992-04-03 形状測定用光源装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP08184392A JP3153319B2 (ja) 1992-04-03 1992-04-03 形状測定用光源装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05280944A JPH05280944A (ja) 1993-10-29
JP3153319B2 true JP3153319B2 (ja) 2001-04-09

Family

ID=13757759

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP08184392A Expired - Fee Related JP3153319B2 (ja) 1992-04-03 1992-04-03 形状測定用光源装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3153319B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102147371B1 (ko) * 2018-12-04 2020-08-24 주식회사 로투보 광원을 이용한 비축대칭 렌즈 광축 조정장치

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05280944A (ja) 1993-10-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6825923B2 (en) Laser alignment system with plural lasers for impingement on a single target
US10234265B2 (en) Distance measuring device and method for measuring distances
US5325177A (en) Optical, interferometric hole gauge
EP1134548A2 (en) Laser alignment system with plural lasers for impingement on a single target
US9243898B2 (en) Positioning device comprising a light beam
US4976543A (en) Method and apparatus for optical distance measurement
JP2839784B2 (ja) 形状測定用光源装置
JPH09304036A (ja) 立体部品の角度測定装置
TWI747289B (zh) 成像裝置及成像方法
JPH083576B2 (ja) 光学式結像装置及びマスクパタ−ン結像装置
JP3153319B2 (ja) 形状測定用光源装置
US5276497A (en) Measuring apparatus of mirror surface
JP2002244018A (ja) ミラーの距離、角度調整機構
JP2020501135A (ja) フォーカシング・レベリング装置
JP4508433B2 (ja) 複眼カメラの調整方法及び調整装置
JP3491464B2 (ja) レーザビーム拡がり角測定装置
KR100657562B1 (ko) 원뿔홈을 갖는 원통프리즘을 이용한 거리측정장치
US4571084A (en) Tube end squareness projector apparatus
EP0003828A1 (en) Photometric testing apparatus
CN214407476U (zh) 一种光学元件的平行度校准工装
JPH0650243B2 (ja) 光波干渉装置
JP2985687B2 (ja) 非接触平行調整方法
US5497228A (en) Laser bevel meter
JP2754069B2 (ja) レーザ干渉装置
JP2567698Y2 (ja) 測距機能を有するレーザースキャンニング装置

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees