JPH05267452A - Manufacture of semiconductor device - Google Patents

Manufacture of semiconductor device

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Publication number
JPH05267452A
JPH05267452A JP6256192A JP6256192A JPH05267452A JP H05267452 A JPH05267452 A JP H05267452A JP 6256192 A JP6256192 A JP 6256192A JP 6256192 A JP6256192 A JP 6256192A JP H05267452 A JPH05267452 A JP H05267452A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
adhesive tape
mask
semiconductor wafer
light
Prior art date
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Pending
Application number
JP6256192A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuyoshi Ito
一義 伊藤
Takeshi Ichimaru
剛 一丸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Miyagi Electronics Ltd
Original Assignee
Fujitsu Miyagi Electronics Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Miyagi Electronics Ltd filed Critical Fujitsu Miyagi Electronics Ltd
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Abstract

PURPOSE:To prevent the scattering of the fragments by chipping, concerning the manufacture of a semiconductor device, which performs the dicing of a semiconductor wafer. CONSTITUTION:After dicing of a semiconductor wafer 11, a mask 16 for shielding a light between chips including the periphery of a chip 11a is positioned. And, chips 11a are picked up in the condition that the fragments generated at separation of the chips 11a are stuck to an UV tape 13 by applying an ultraviolet ray.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハのダイシ
ングを行う半導体装置の製造方法に関する。近年、半導
体装置の製造工程における半導体ウエハのタイシング工
程ではフルカット方式が主流になってきている。この場
合、ダイシング後にテープよりチップを分離する際に発
生するシリコン片による傷等の障害を防止する必要があ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device for dicing a semiconductor wafer. 2. Description of the Related Art In recent years, a full-cut method has become mainstream in a semiconductor wafer tying process in a semiconductor device manufacturing process. In this case, it is necessary to prevent damages such as scratches caused by silicon pieces that occur when the chips are separated from the tape after dicing.

【0002】[0002]

【従来の技術】図3は、従来のダイシング工程における
ウエハを示す図である。
2. Description of the Related Art FIG. 3 is a diagram showing a wafer in a conventional dicing process.

【0003】従来、半導体装置の製造工程中、半導体ウ
エハの所定の処理後ダイシングを行いチップ状にする工
程がある。この場合、図3に示すように、半導体ウエハ
11は、フレーム12に取着されている粘着テープ13
上に固着される。粘着テープ13は、主にUV(紫外
線)テープが使用され、紫外線を照射することで接着力
が弱くなるものである。
Conventionally, during the manufacturing process of a semiconductor device, there is a process in which a semiconductor wafer is subjected to predetermined processing and then diced into chips. In this case, as shown in FIG. 3, the semiconductor wafer 11 has the adhesive tape 13 attached to the frame 12.
Stuck on. The adhesive tape 13 is mainly a UV (ultraviolet) tape, and its adhesive strength is weakened by irradiating it with ultraviolet rays.

【0004】そこで、図4に、従来のダイシング工程図
を示す。図4において、まずフレーム12の粘着テープ
13上に固着された半導体ウエハ11は(図4
(A))、回転するブレード14により各チップ状にダ
イシングされる(図4(B))。ダイシングはフルカッ
ト方式が主流になっており、粘着テープ13の一部まで
切り込み、半導体ウエハ11をチップ状に完全に切断す
る方式である(図5(A)参照)。
Therefore, FIG. 4 shows a conventional dicing process diagram. In FIG. 4, first, the semiconductor wafer 11 fixed on the adhesive tape 13 of the frame 12 is shown in FIG.
(A)), and each chip is diced by the rotating blade 14 (FIG. 4B). The full-cut method is mainly used for dicing, and is a method of cutting a part of the adhesive tape 13 to completely cut the semiconductor wafer 11 into chips (see FIG. 5A).

【0005】そこで、粘着テープ13の裏面より紫外線
を照射して、粘着テープ13と半導体ウエハ(チップ1
1a)との接着力を弱めさせる(図4(C))。そし
て、図示しないが、ピン等を粘着テープ13に差し込
み、チップを分離するものである。
Therefore, ultraviolet rays are radiated from the back surface of the adhesive tape 13 and the adhesive tape 13 and the semiconductor wafer (chip 1).
The adhesive force with 1a) is weakened (FIG. 4 (C)). Then, although not shown, a pin or the like is inserted into the adhesive tape 13 to separate the chip.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ここで、図5に、従来
のチップ分離を説明するための図を示す。図5(A)に
示すように、粘着テープ13の一部まで切り込むフルカ
ットにより形成されたチップ11aを、紫外線照射後、
図5(B)に示すように粘着テープ13より分離する
際、チップ背面側でチッピング等が生じ、シリコン片1
5が発生する。このシリコン片15が分離の際に飛散
し、チップへの付着による傷を発生させたり、組立に障
害を生じさせるという問題がある。
FIG. 5 is a diagram for explaining the conventional chip separation. As shown in FIG. 5 (A), after the chip 11a formed by full cutting to cut a part of the adhesive tape 13 is irradiated with ultraviolet rays,
As shown in FIG. 5B, when the adhesive tape 13 is separated, chipping or the like occurs on the back surface of the chip, and the silicon piece 1
5 occurs. There is a problem that the silicon pieces 15 scatter during the separation, causing scratches due to adhesion to the chip and causing an obstacle in assembly.

【0007】そこで、本発明は上記課題に鑑みなされた
もので、チッピングによる破片の飛散を防止する半導体
装置の製造方法を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor device which prevents scattering of fragments due to chipping.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】図1に、本発明の原理説
明図を示す。図1において、半導体ウエハの所定の処理
後、該半導体ウエハをフレームの粘着テープ上に固定し
てダイシングを行う半導体装置の製造方法において、第
1の工程では、前記フレームの粘着テープ上の前記半導
体ウエハを、チップ単位でダイシングを行う。第2の工
程では、該粘着テープの該チップが固着されている反対
面に、該チップの周辺を含むそれぞれのチップ間を遮光
するパターンが形成されたマスクを位置させる。
FIG. 1 shows the principle of the present invention. In FIG. 1, in a method of manufacturing a semiconductor device in which a semiconductor wafer is fixed on a pressure-sensitive adhesive tape of a frame and dicing is performed after a predetermined treatment, in a first step, the semiconductor on the pressure-sensitive adhesive tape of the frame is The wafer is diced in chip units. In the second step, a mask having a pattern for shielding light between the respective chips including the periphery of the chips is positioned on the opposite surface of the adhesive tape to which the chips are fixed.

【0009】また、第3の工程では、該マスク側より光
を照射して、該光照射部分の、該粘着テープと該チップ
との接着力を弱める。そして、第4の工程では、該粘着
テープ上の該マスクにより遮光された部分に、該チップ
より発生する破片を固着させた状態で、該粘着テープよ
りチップを分離する。
In the third step, light is irradiated from the mask side to weaken the adhesive force between the adhesive tape and the chip at the light irradiation portion. Then, in the fourth step, the chips are separated from the adhesive tape in a state where the fragments generated from the chips are fixed to the portions of the adhesive tape that are shielded from light by the mask.

【0010】[0010]

【作用】上述のように、所定の処理が終了した半導体ウ
エハをダイシングした後、粘着テープのチップ固着面の
反対面にマスクを位置させている。マスクは、チップの
周辺を含むそれぞれのチップ間を遮光するパターンが形
成されたもので、該マスクを介して光を照射する。
As described above, after dicing the semiconductor wafer which has been subjected to the predetermined processing, the mask is positioned on the surface of the adhesive tape opposite to the chip fixing surface. The mask has a pattern in which light is shielded between the chips including the periphery of the chip, and light is emitted through the mask.

【0011】これにより、粘着テープとチップとの間
で、マスクを介して光が照射された部分は接着力が弱め
られ、遮光された部分が接着力を保持する。すなわち、
チップは、その周辺では接着力が保持されており、周辺
内部では接着力が弱められる。従って、粘着テープより
チップを分離する際、チップ周辺部に割れ等が発生して
いる場合には、破片が粘着テープに固着されたまま分離
される。
As a result, between the adhesive tape and the chip, the adhesive force is weakened in the portion irradiated with light through the mask, and the light shielded portion retains the adhesive force. That is,
The chip retains its adhesive force around its periphery, and the adhesive force is weakened inside the periphery. Therefore, when the chip is separated from the adhesive tape, if a crack or the like is generated in the peripheral portion of the chip, the fragments are separated while being fixed to the adhesive tape.

【0012】すなわち、分離の際に破片の飛散が防止さ
れ、組立障害が回避されて品質向上を図ることが可能と
なる。
That is, it is possible to prevent scattering of fragments during separation, avoid assembly failure, and improve quality.

【0013】[0013]

【実施例】図2に、本発明の一実施例の主要製造工程を
説明するための図を示す。なお、図3〜図5と同一の構
成部分には同一の符号を付す。
FIG. 2 is a diagram for explaining the main manufacturing steps of one embodiment of the present invention. The same components as those in FIGS. 3 to 5 are designated by the same reference numerals.

【0014】半導体ウエハの所定処理後、フレームの粘
着テープ(UVテープ)上に半導体ウエハ11を固着
し、ブレートによりフルカットでダイシングする工程
は、図4と同様である。この場合、ダイシングは、半導
体ウエハ11上に形成されたスクライブラインに沿って
チップ単位で行う。
After the predetermined processing of the semiconductor wafer, the process of fixing the semiconductor wafer 11 on the adhesive tape (UV tape) of the frame and performing full-cut dicing by the plate is the same as in FIG. In this case, dicing is performed in chip units along the scribe lines formed on the semiconductor wafer 11.

【0015】そこで、図2(A),(B)に示すよう
に、UVテープ13のチップ11aが固着されている反
射面にマスク16が位置される。マスク16はガラス上
にそれぞれのチップ11aの周辺を含むそれぞれのチッ
プ間を遮光するパターン(斜線部分)が形成されたもの
である。例えば、スクライブライン(ダイシングライ
ン)のチップ内側の約50〜500μm程度までの部分
で遮光パターンが形成される。
Therefore, as shown in FIGS. 2A and 2B, the mask 16 is positioned on the reflection surface of the UV tape 13 to which the chip 11a is fixed. The mask 16 is formed by forming a pattern (hatched portion) that shields light between the respective chips including the periphery of the respective chips 11a on the glass. For example, the light-shielding pattern is formed in a portion of about 50 to 500 μm inside the chip of the scribe line (dicing line).

【0016】そして、マスク16側より紫外線を照射す
ると、照射された部分ではUVテープ13とチップ11
aとの接着力が弱められ、容易に剥がれる状態となる。
また、マスク16の遮光パターンにより紫外線が照射さ
れない部分はUVテープ13とチップ11aとの接着力
がそのまま保持される。
Then, when ultraviolet rays are radiated from the mask 16 side, the UV tape 13 and the chip 11 are radiated in the radiated portion.
The adhesive force with a is weakened, and the film is easily peeled off.
Further, the adhesive force between the UV tape 13 and the chip 11a is maintained as it is in the portion of the mask 16 which is not irradiated with ultraviolet rays due to the light shielding pattern.

【0017】そこで、図2(C)に示すように、UVテ
ープ13よりチップ11aを分離させる場合、ダイシン
グ時に発生する欠けた破片15は、UVテープ13に固
着された状態でチップ11aが分離される。
Therefore, as shown in FIG. 2C, when the chips 11a are separated from the UV tape 13, the chipped pieces 15 generated during dicing are separated from the chips 11a while being fixed to the UV tape 13. It

【0018】すなわち、ダイシング時に発生するチップ
11aの欠け(シリコンの破片15)等は、チップ11
aのUVテープ13との接着面の縁端部に生じることか
ら、この部分で破片15をUVテープ13に固着させた
ままでチップ11aを分離するもので、破片15の飛散
を防止することができる。
That is, the chip 11a chips (silicon fragments 15) and the like that occur during dicing are not
Since it occurs at the edge of the adhesive surface of a of the UV tape 13 to the UV tape 13, the chip 11a is separated at this portion while the fragment 15 is fixed to the UV tape 13, and scattering of the fragment 15 can be prevented. .

【0019】これにより、破片15によるチップ11a
への傷等を生じさせることが防止され、組立障害となる
要因を排除することができ、品質を向上させることがで
きる。
As a result, the chip 11a formed of the fragments 15 is formed.
It is possible to prevent scratches and the like from occurring, to eliminate a factor that causes an assembly failure, and to improve quality.

【0020】なお、上記実施例では、マスク16をガラ
ス上に遮光パターンを形成した場合を示したが、紫外線
の透過部分を開口させたものであってもよい。
In the above embodiment, the mask 16 has a light-shielding pattern formed on glass. However, the mask 16 may have an opening for the ultraviolet light transmitting portion.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、半導体ウ
エハのダイシング後にマスクによりチップの周辺を含む
チップ間を遮光して光を照射させることにより、チップ
分離時に発生した破片を粘着テープに固着させた状態と
なり、破片の飛散を防止することができ、品質の向上を
図ることができる。
As described above, according to the present invention, after the dicing of the semiconductor wafer, the mask is shielded from the light including the periphery of the chips to irradiate the light so that the debris generated at the time of the chip separation is applied to the adhesive tape. It becomes a fixed state, and it is possible to prevent the scattering of fragments and improve the quality.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の原理説明図である。FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of the present invention.

【図2】本発明の一実施例の主要製造工程を説明するた
めの図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining a main manufacturing process of one embodiment of the present invention.

【図3】従来のダイシング工程におけるウエハを示す図
である。
FIG. 3 is a diagram showing a wafer in a conventional dicing process.

【図4】従来のダイシング工程図である。FIG. 4 is a diagram of a conventional dicing process.

【図5】従来のチップ分離を説明するための図である。FIG. 5 is a diagram for explaining conventional chip separation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 半導体ウエハ 11a チップ 12 フレーム 13 粘着テープ(UVテープ) 15 破片 16 マスク 11 Semiconductor Wafer 11a Chip 12 Frame 13 Adhesive Tape (UV Tape) 15 Fragment 16 Mask

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体ウエハ(11)の所定の処理後、
該半導体ウエハ(11)をフレーム(12)の粘着テー
プ(13)上に固定してダイシングを行う半導体装置の
製造方法において、 前記フレーム(12)の粘着テープ(13)上の前記半
導体ウエハ(11)を、チップ(11a)単位でダイシ
ングを行う工程と、 該粘着テープ(13)の該チップ(11a)が固着され
ている反対面に、該チップ(11a)の周辺を含むそれ
ぞれのチップ間を遮光するパターンが形成されたマスク
(16)を位置させる工程と、 該マスク(16)側より光を照射して、該光照射部分
の、該粘着テープ(13)と該チップ(11a)との接
着力を弱める工程と、 該粘着テープ(13)上の該マスク(16)により遮光
された部分に、該チップ(11a)より発生する破片
(15)を固着させた状態で、該粘着テープ(13)よ
りチップ(11a)を分離する工程と、 を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
1. After predetermined processing of a semiconductor wafer (11),
A method for manufacturing a semiconductor device in which the semiconductor wafer (11) is fixed on an adhesive tape (13) of a frame (12) and dicing is performed, wherein the semiconductor wafer (11) on the adhesive tape (13) of the frame (12) is ) Is diced on a chip (11a) unit basis, and between the chips including the periphery of the chip (11a) on the opposite surface of the adhesive tape (13) to which the chip (11a) is fixed. A step of arranging a mask (16) on which a light-shielding pattern is formed, and irradiating light from the mask (16) side so that the adhesive tape (13) and the chip (11a) in the light irradiation portion The step of weakening the adhesive strength, and the adhesive tape (13) with the debris (15) generated from the chip (11a) fixed to the portion shielded from light by the mask (16) A step of separating the chip (11a) from the tape (13);
JP6256192A 1992-03-18 1992-03-18 Manufacture of semiconductor device Pending JPH05267452A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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