JPH05267119A - 縮小投影露光装置 - Google Patents
縮小投影露光装置Info
- Publication number
- JPH05267119A JPH05267119A JP4063195A JP6319592A JPH05267119A JP H05267119 A JPH05267119 A JP H05267119A JP 4063195 A JP4063195 A JP 4063195A JP 6319592 A JP6319592 A JP 6319592A JP H05267119 A JPH05267119 A JP H05267119A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- suction
- vacuum
- vacuum pressure
- pressure sensors
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】原画パターンが描かれているレティクル，レテ
ィクルをのせるレティクル吸着台，レティクルを吸着す
るための真空を伝える溝のついたレティクル吸着部Ａ，
同じくレティクル吸着部Ｂ，真空を伝えるＯＮ／ＯＦＦ
制御のバルブＡ５，同じくバルブＢ６，真空吸着状態を
検出する真空圧力センサＡ７，同じく真空圧力センサＢ
８，これらを逐次適宜に制御するＣＰＵ９により構成さ
れている。 【効果】レティクルがずれて微動台上にあり、かつ１つ
をのこしていずれかの真空が漏れている場合、レティク
ルずれと判断できレティクルの有無に対する誤判定がな
くなり、レティクルの二重搬送などによる破損等の重大
事故を未然に防ぐことができる。
ィクルをのせるレティクル吸着台，レティクルを吸着す
るための真空を伝える溝のついたレティクル吸着部Ａ，
同じくレティクル吸着部Ｂ，真空を伝えるＯＮ／ＯＦＦ
制御のバルブＡ５，同じくバルブＢ６，真空吸着状態を
検出する真空圧力センサＡ７，同じく真空圧力センサＢ
８，これらを逐次適宜に制御するＣＰＵ９により構成さ
れている。 【効果】レティクルがずれて微動台上にあり、かつ１つ
をのこしていずれかの真空が漏れている場合、レティク
ルずれと判断できレティクルの有無に対する誤判定がな
くなり、レティクルの二重搬送などによる破損等の重大
事故を未然に防ぐことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＶＬＳＩを製造する縮
小投影露光装置に係り、特に真空によるレティクルの吸
着固定を行い、吸着状態の判定を正確に行える高信頼性
化を計った縮小投影露光装置に関する。
小投影露光装置に係り、特に真空によるレティクルの吸
着固定を行い、吸着状態の判定を正確に行える高信頼性
化を計った縮小投影露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レティクルの吸着，解除はＯＮ／ＯＦＦ
を行う１つのバルブで行っていた。また、レティクルの
吸着状態の判定を行う真空圧力センサは、１つで構成し
ていた。
を行う１つのバルブで行っていた。また、レティクルの
吸着状態の判定を行う真空圧力センサは、１つで構成し
ていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ＣＰＵはレティクルの
固定のため真空吸着動作指令を出し、かつレティクルの
有無，吸着状態の判定を真空圧力センサの値を読み込み
判断することによって行っている。従来技術はレティク
ルがレティクル吸着台に正確に搬送されなかった場合
（レティクルがずれて搬送され真空洩れにより真空吸着
が正常にできない状態の場合）レティクルがあるにも係
らず、レティクルが無いと判断してしまう。すなわちレ
ティクルが本当に無いのか、ずれているのか判断できな
い。
固定のため真空吸着動作指令を出し、かつレティクルの
有無，吸着状態の判定を真空圧力センサの値を読み込み
判断することによって行っている。従来技術はレティク
ルがレティクル吸着台に正確に搬送されなかった場合
（レティクルがずれて搬送され真空洩れにより真空吸着
が正常にできない状態の場合）レティクルがあるにも係
らず、レティクルが無いと判断してしまう。すなわちレ
ティクルが本当に無いのか、ずれているのか判断できな
い。
【０００４】この場合レティクル微動台上にレティクル
がないと判定してしまうため、レティクルをさらにもう
１枚レティクル微動台上に搬送してしまい、レティクル
を破損する等の重大な事故へつながるという問題があっ
た。
がないと判定してしまうため、レティクルをさらにもう
１枚レティクル微動台上に搬送してしまい、レティクル
を破損する等の重大な事故へつながるという問題があっ
た。
【０００５】本発明は、これら欠点を取り除くためにレ
ティクル吸着用バルブを２つ以上、真空圧力センサを２
つ以上に増やし二重，三重に真空吸着状態の確認，レテ
ィクルの有無およびレティクルのずれの判定を行う方法
を提供することを目的とする。
ティクル吸着用バルブを２つ以上、真空圧力センサを２
つ以上に増やし二重，三重に真空吸着状態の確認，レテ
ィクルの有無およびレティクルのずれの判定を行う方法
を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に真空吸着を行うバルブを１つから２つ以上に増やした
ものである。また、真空圧力センサを１つから２つ以上
に増やしたものである。さらにレティクルがずれていて
吸着ができないのか、レティクルが本当に無いのかを判
定するソフトウェアを付加したものである。
に真空吸着を行うバルブを１つから２つ以上に増やした
ものである。また、真空圧力センサを１つから２つ以上
に増やしたものである。さらにレティクルがずれていて
吸着ができないのか、レティクルが本当に無いのかを判
定するソフトウェアを付加したものである。
【０００７】
【作用】作用を図１，図２，図３，図５により説明す
る。
る。
【０００８】レティクル１を吸着するため、ＣＰＵ９
は、バルブＡ５，バルブＢ６を共にＯＮする。バルブが
ＯＮされると真空圧力がレティクル吸着部Ａ３，レティ
クル吸着部Ｂ４に伝わりレティクル１があれば、レティ
クル吸着部が真空圧力レベルとなる。また、真空圧力セ
ンサＡ７，Ｂ８も真空圧力レベルとなる。これをCPU9に
取り込み吸着状態を判定する。
は、バルブＡ５，バルブＢ６を共にＯＮする。バルブが
ＯＮされると真空圧力がレティクル吸着部Ａ３，レティ
クル吸着部Ｂ４に伝わりレティクル１があれば、レティ
クル吸着部が真空圧力レベルとなる。また、真空圧力セ
ンサＡ７，Ｂ８も真空圧力レベルとなる。これをCPU9に
取り込み吸着状態を判定する。
【０００９】次にレティクル１がレティクル吸着台２上
に無い場合について説明する。
に無い場合について説明する。
【００１０】ＣＰＵ１は、バルブＡ５，バルブＢ６をと
もにＯＮする。バルブがＯＮされてもレティクル吸着部
Ａ３，Ｂ４は、大気中圧力レベルなので真空圧力センサ
Ａ７，Ｂ８の出力は大気中圧力レベルとなり、ＣＰＵ９
は、レティクル無しと判断する。
もにＯＮする。バルブがＯＮされてもレティクル吸着部
Ａ３，Ｂ４は、大気中圧力レベルなので真空圧力センサ
Ａ７，Ｂ８の出力は大気中圧力レベルとなり、ＣＰＵ９
は、レティクル無しと判断する。
【００１１】次に、レティクル１がずれて吸着台２上に
ある場合（どちらか片方のレティクル吸着部がはずれて
いる場合）もＣＰＵ９は、バルブＡ５，Ｂ６を共にＯＮ
する。片方が吸着からはずれているので一方は真空吸着
状態、一方は大気中状態となりＣＰＵ９にてレティクル
１がずれておかれていると判断する。
ある場合（どちらか片方のレティクル吸着部がはずれて
いる場合）もＣＰＵ９は、バルブＡ５，Ｂ６を共にＯＮ
する。片方が吸着からはずれているので一方は真空吸着
状態、一方は大気中状態となりＣＰＵ９にてレティクル
１がずれておかれていると判断する。
【００１２】これにより、レティクル有無の判定，レテ
ィクルずれの判定ができるので装置の誤動作を未然に防
げる。
ィクルずれの判定ができるので装置の誤動作を未然に防
げる。
【００１３】
【実施例】以下本発明の一実施例を図１，図２，図３，
図４，図５により説明する。
図４，図５により説明する。
【００１４】原画パターンが描かれているレティクル
１，レティクル１をのせるレティクル吸着台２，レティ
クルを吸着するための真空を伝える溝のついたレティク
ル吸着部Ａ３，同じくレティクル吸着部Ｂ４，真空を伝
えるＯＮ／ＯＦＦ制御のバルブＡ５，同じくバルブＢ
６，真空吸着状態を検出する真空圧力センサＡ７，同じ
く真空圧力センサＢ８，これらを逐次適宜に制御するＣ
ＰＵ９により構成されている。
１，レティクル１をのせるレティクル吸着台２，レティ
クルを吸着するための真空を伝える溝のついたレティク
ル吸着部Ａ３，同じくレティクル吸着部Ｂ４，真空を伝
えるＯＮ／ＯＦＦ制御のバルブＡ５，同じくバルブＢ
６，真空吸着状態を検出する真空圧力センサＡ７，同じ
く真空圧力センサＢ８，これらを逐次適宜に制御するＣ
ＰＵ９により構成されている。
【００１５】次に動作を説明する。
【００１６】縮小投影露光装置内で、原画として使用さ
れてるレティクルは、適宜装置内を搬送され、高精度，
高速で位置決めされる。搬送後の位置決め時固定され、
粗位置合わせを行うが、その固定には、しばしば真空圧
力による吸着方法が用いられ、また、レティクルがその
位置にあるかどうかを圧力センサにて確認している。ま
ず、従来技術を図２，図３，図４により説明する。図２
は、レティクル１が正常にレティクル吸着台２に搬送さ
れ、吸着状態も良好な正常の場合である。
れてるレティクルは、適宜装置内を搬送され、高精度，
高速で位置決めされる。搬送後の位置決め時固定され、
粗位置合わせを行うが、その固定には、しばしば真空圧
力による吸着方法が用いられ、また、レティクルがその
位置にあるかどうかを圧力センサにて確認している。ま
ず、従来技術を図２，図３，図４により説明する。図２
は、レティクル１が正常にレティクル吸着台２に搬送さ
れ、吸着状態も良好な正常の場合である。
【００１７】図３は、レティクル１がレティクル吸着台
２にずれてのっている異常の場合である。
２にずれてのっている異常の場合である。
【００１８】図４は、従来の構成で、バルブ１０は１
つ、真空圧力センサ１１も１つの構成を示している。
つ、真空圧力センサ１１も１つの構成を示している。
【００１９】今、図３のような異常の状態の場合、真空
はレティクル吸着部Ｂ４から漏れてしまい、真空圧力セ
ンサ１１の値は、大気中圧力レベルとなり、レティクル
吸着不能、つまりレティクル無しと同じ値を出力し、Ｃ
ＰＵ９はレティクル無しと誤判断してしまう。これによ
りレティクル二重搬送等によるレティクル破損などの重
大事故につながる可能性がある。
はレティクル吸着部Ｂ４から漏れてしまい、真空圧力セ
ンサ１１の値は、大気中圧力レベルとなり、レティクル
吸着不能、つまりレティクル無しと同じ値を出力し、Ｃ
ＰＵ９はレティクル無しと誤判断してしまう。これによ
りレティクル二重搬送等によるレティクル破損などの重
大事故につながる可能性がある。
【００２０】これを防止するための本発明の一実施例を
図１，図５で説明する。
図１，図５で説明する。
【００２１】本発明では、バルブを１つ追加してバルブ
Ｂ６を設けた。更に真空圧力センサを１つ追加して真空
圧力センサＢ８を設けた。これにより、各々独立したレ
ティクル固定用真空吸着システムが構成される。ＣＰＵ
９は、レティクル１をレティクル吸着台２に搬送後、吸
着固定を行うためバルブＡ５，バルブＢ６をＯＮし、真
空をレティクル吸着部Ａ３，Ｂ４に伝える。レティクル
があれば必然的に吸着を行い、圧力センサＡ７，Ｂ８の
真空値を読み込み、吸着状態を確認する。本発明は、こ
れらの構成で、以下に示した“レティクルずれ”が検出
できることが最大の特徴である。
Ｂ６を設けた。更に真空圧力センサを１つ追加して真空
圧力センサＢ８を設けた。これにより、各々独立したレ
ティクル固定用真空吸着システムが構成される。ＣＰＵ
９は、レティクル１をレティクル吸着台２に搬送後、吸
着固定を行うためバルブＡ５，バルブＢ６をＯＮし、真
空をレティクル吸着部Ａ３，Ｂ４に伝える。レティクル
があれば必然的に吸着を行い、圧力センサＡ７，Ｂ８の
真空値を読み込み、吸着状態を確認する。本発明は、こ
れらの構成で、以下に示した“レティクルずれ”が検出
できることが最大の特徴である。
【００２２】これを図３，図５により説明する。図５は
レティクルの状態（ずれ有無，レティクル有無）の場合
分けによる判定方法を示している。
レティクルの状態（ずれ有無，レティクル有無）の場合
分けによる判定方法を示している。
【００２３】レティクル１が無い状態で吸着動作を行う
と、真空圧力センサＡ７，Ｂ８は大気中の圧力値を出力
し、ＣＰＵ９でレティクル無しと判断する。次にレティ
クル１が有り、ずれがない状態で吸着動作を行うと、真
空圧力センサＡ７，Ｂ８は真空中圧力レベルの値を出力
し、ＣＰＵ９でレティクル有りと判断する。
と、真空圧力センサＡ７，Ｂ８は大気中の圧力値を出力
し、ＣＰＵ９でレティクル無しと判断する。次にレティ
クル１が有り、ずれがない状態で吸着動作を行うと、真
空圧力センサＡ７，Ｂ８は真空中圧力レベルの値を出力
し、ＣＰＵ９でレティクル有りと判断する。
【００２４】次に、図３のようにレティクル１がずれて
いる場合、レティクル吸着部Ａ３または、レティクル吸
着部Ｂ４の吸着がはずれ、一方が吸着できない。この場
合、レティクル１は、有るが、ずれておかれていると判
断でき、異常状態の確認が可能となり装置が誤動作する
ことがない。
いる場合、レティクル吸着部Ａ３または、レティクル吸
着部Ｂ４の吸着がはずれ、一方が吸着できない。この場
合、レティクル１は、有るが、ずれておかれていると判
断でき、異常状態の確認が可能となり装置が誤動作する
ことがない。
【００２５】以上により本実施例によれば、１．レティ
クル有無２．レティクル搬送や、搬送後の振動等による
レティクルの位置ずれに対し、正確に判断でき、ひいて
はレティクル破損等の重大事故を未然に防ぐという効果
がある。
クル有無２．レティクル搬送や、搬送後の振動等による
レティクルの位置ずれに対し、正確に判断でき、ひいて
はレティクル破損等の重大事故を未然に防ぐという効果
がある。
【００２６】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので以下に記載される効果を奏する。
ているので以下に記載される効果を奏する。
【００２７】レティクルがずれて微動台上にあり、かつ
１つをのこしていずれかの真空が漏れている場合、レテ
ィクルずれと判断できレティクルの有無に対する誤判定
がなくなり、レティクルの二重搬送などによる破損等の
重大事故を未然に防ぐことができる。
１つをのこしていずれかの真空が漏れている場合、レテ
ィクルずれと判断できレティクルの有無に対する誤判定
がなくなり、レティクルの二重搬送などによる破損等の
重大事故を未然に防ぐことができる。
【図１】本発明の一実施例のブロック図である。
【図２】本発明の一実施例のレティクル１が正常にレテ
ィクル吸着台２におかれた状態図である。
ィクル吸着台２におかれた状態図である。
【図３】本発明の一実施例のレティクル１がずれてレテ
ィクル吸着台２に置かれた状態図である。
ィクル吸着台２に置かれた状態図である。
【図４】従来技術のブロック図である。
【図５】レティクルずれ判定方法を示す図である。
１…レティクル、２…レティクル吸着台、３…レティク
ル吸着部Ａ、４…レティクル吸着部Ｂ、５…バルブＡ、
６…バルブＢ、７…真空圧力センサＡ、８…真空圧力セ
ンサＢ、９…ＣＰＵ、１０…バルブ、１１…真空圧力セ
ンサ。
ル吸着部Ａ、４…レティクル吸着部Ｂ、５…バルブＡ、
６…バルブＢ、７…真空圧力センサＡ、８…真空圧力セ
ンサＢ、９…ＣＰＵ、１０…バルブ、１１…真空圧力セ
ンサ。
Claims (1)
- 【請求項１】レティクル上の原画パターンを縮小レンズ
を通して縮小し、ウェハ上に高精度で焼き付ける機能を
有し、かつ前工程でウェハ上に焼かれたウェハ粗位置合
わせ用マーク（プリアライメントマーク）を検出し、粗
位置合わせ終了後、露光ステージへウェハを高精度搬送
する機能、さらに露光ステージへ搬送されたウェハ位置
を精検出し、前記レティクル上の原画パターンとウェハ
上パターンを相対合わせする機能を有し、かつレティク
ル原画を真空吸着による固定と真空圧力センサによる吸
着確認を行う機能を有し、真空のＯＮ／ＯＦＦを行う複
数のバルブを有し、被測定部の真空圧力が測定できる複
数の真空圧力センサを有し、それらを制御するＣＰＵ，
コントローラ，ドライバより成ることを特徴とする縮小
投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4063195A JPH05267119A (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | 縮小投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4063195A JPH05267119A (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | 縮小投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05267119A true JPH05267119A (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=13222201
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4063195A Pending JPH05267119A (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | 縮小投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05267119A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017215451A (ja) * | 2016-05-31 | 2017-12-07 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
| JP2021081549A (ja) * | 2019-11-18 | 2021-05-27 | キヤノン株式会社 | 保持装置、露光装置、及び物品の製造方法 |
-
1992
- 1992-03-19 JP JP4063195A patent/JPH05267119A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017215451A (ja) * | 2016-05-31 | 2017-12-07 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
| JP2021081549A (ja) * | 2019-11-18 | 2021-05-27 | キヤノン株式会社 | 保持装置、露光装置、及び物品の製造方法 |
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