JPH05263126A - 保護雰囲気下に金属製品を熱処理する方法 - Google Patents

保護雰囲気下に金属製品を熱処理する方法

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JPH05263126A
JPH05263126A JP3058783A JP5878391A JPH05263126A JP H05263126 A JPH05263126 A JP H05263126A JP 3058783 A JP3058783 A JP 3058783A JP 5878391 A JP5878391 A JP 5878391A JP H05263126 A JPH05263126 A JP H05263126A
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JP
Japan
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gas
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helium
heat treatment
atmosphere
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JP3058783A
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English (en)
Inventor
Eric Duchateau
エリツク・デユシヤトー
Zumbrunn Jean-Pierre
ジヤン−ピエール・ジユムブラン
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LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude
Original Assignee
LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B11/00Bell-type furnaces
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D9/00Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
    • C21D9/52Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
    • C21D9/54Furnaces for treating strips or wire
    • C21D9/663Bell-type furnaces
    • C21D9/667Multi-station furnaces
    • C21D9/67Multi-station furnaces adapted for treating the charge in vacuum or special atmosphere

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  • Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 金属製品のバッチ式熱処理方法で、従来の窒
素ベースの雰囲気下での処理と比べて顕著に短縮された
時間で確実に行える。 【構成】 当初の温度上昇段階で高窒素含有量の掃気ガ
ス流が行われ、冷却段階が窒素より良好な熱伝導率をも
ったガスをあらかじめ定めた含有量で有するガス中で行
われる。窒素ベースの雰囲気は、温度上昇が実質的完了
するとすぐにヘリウムベースの雰囲気で置換される。高
ヘリウム含有量をもったガスは、ヘリウムと10%以下
の水素とを含む混合ガスである。密封シールの改善を条
件に、窒素を使用する従来のベル炉にも応用できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、バッチ式炉、例えばい
わゆるベル炉において保護雰囲気下に金属製品を熱処理
する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】金属製品、特にコイル巻き鉄板又はコイ
ル巻線材の、例えばベル式炉でのバッチ式熱処理は、鉄
板や線材の酸化を避けるために、いくらかの水素(10
%未満)を含んだ窒素ベースの雰囲気で主として行われ
る。この種の雰囲気は、現場に設置されたガス発生装置
により又は窒素及び水素の工業的混合ガスによって得る
ことができる。
【0003】この分野では数年前から、窒素ベースの雰
囲気を、純水素からなる雰囲気又はほぼ75%という高
水素含有率を有する雰囲気で置き換える傾向がある。
【0004】この置き換えは、水素が窒素よりも良好な
熱伝導性を有しており、処理サイクル時間が約20%短
縮されるので特に有利である。さらに熱処理の質も、金
属製品の加熱がより均質なので(処理された製品の中心
部と周縁部間の温度差の減少)改良される。
【0005】他方において、金属板の清潔さは、その光
輝性と同様に改善される(炭素を含んだ残渣の減少)。
これは亜鉛メッキのような表面後処理にとって非常に大
きな利益である。
【0006】しかしながら低水素含有量の窒素雰囲気で
操業するベル炉の水素雰囲気への転換は、水素が特に可
燃性のガスなので、密閉性及び安全の点から十分な改良
を必要とする。これらの改良は非常に重大なので、使用
者にとってはその目的用に特に提供される新しい炉を購
入する方が好ましいことがしばしばある。採用される解
決策にもかかわらず、必要な投資は非常に大きく、これ
がそれ自体非常に有利であるのにこれらの雰囲気の発展
を遅らせている。
【0007】ヨーロッパ特許第0,133,613号は
混合処理方法について記載し、その方法では、温度上昇
を含む全熱処理段階が低水素含有量の窒素雰囲気で実施
され、一方冷却段階中は、この雰囲気は、圧力が確実に
維持されるように水素又は他の比重の小さいガスを補足
注入することによって変更させられ、そうでなければ冷
却の結果として望ましくない空気の導入を引起こすであ
ろう大気圧以下への急速な減圧傾向を示すであろう。そ
の結果、当初の低水素含有量(ほぼ5%)はそのとき、
比較的高い含有量(ほぼ68%)に達するまで上昇し、
残部は窒素である。
【0008】ヨーロッパ特許第0,133,613号に
よる提案は、冷却が促進されるので、短縮される熱処理
サイクル時間について、ある程度の改善を示している。
しかしながら爆発限界よりはるかに高い冷却段階中の高
水素含有量は、必然的に上記の不利益に導き、そのこと
は、爆発量の水素を安全に使用するに適した炉を備える
ことを使用者に要求する。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の窒素
ベースの雰囲気下における処理と比べて顕著に短縮され
た時間で確実に行える金属製品のバッチ式熱処理を目的
とし、公知の水素雰囲気で行う処理の質を保証している
が、窒素ベースの雰囲気を用いる従来の炉の全く小さな
特質の改良を含んだものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、当初の
温度上昇段階において高窒素含有量の掃気ガス流が確実
に注入され、他方では最終の冷却段階が、あらかじめ定
められた含有量の窒素以外の1種類のガスを含む雰囲気
で行われる種類の方法において、窒素以外のガスを含有
する雰囲気は、対応するガス流量を炉外に排出しなが
ら、わずかの水素含有量をもったヘリウムベースの混合
ガスを注入することによって得られる。
【0011】ヘリウムは、処理中の金属製品の中心部に
急速に良好な熱伝達を保証し、何の爆発の危険もない。
ヘリウムの比較的高いコストを考慮して、まずガス漏れ
を最少に低減することによって、すなわち窒素ベースの
雰囲気で行う従来の処理炉の気密度を改良することによ
ってこの新しい使用に炉を適合させることが適当であ
る。
【0012】本発明はまた、ヘリウムの損失を厳しく最
低限に減少できる対策をいくつか含むいろいろな対策を
提供する。これらの対策の一つによれば、低水素含有量
をもったヘリウム混合ガスの注入は、ヘリウム含有量が
50%以上になるまで少くとも継続される。
【0013】他の一つの対策によれば、低水素含有量を
もったヘリウムベースのガス混合物は、予備のヘリウム
及び水素によるプレミックス混合ガス又は処理の後で回
収され、実質的に窒素フリーに精製された装入ガスから
得られる。
【0014】さらに他の一つの対策によれば、高窒素含
有量をもった雰囲気を高ヘリウム含有量をもった雰囲気
に取換えることは、高ヘリウム含有量をもったガスの注
入及び例えば浸透膜式の窒素分離装置を通過後の雰囲気
ガスの循環によって行われ、前記雰囲気ガスの循環は、
窒素含有量が十分に低い閾値、好ましくは20%以下に
達するとすぐに終了し、その後高ヘリウム含有量をもっ
たガスの注入は、不測のガス漏れの補償のため及び/又
は冷却中の炉内圧力維持のための単なる注入である。
【0015】低水素含有量をもったヘリウムベース混合
ガスの注入は、処理された対象と結合した油の熱除去前
には開始しないが、作業温度が安定する前に始めるのが
好ましい。
【0016】これらの対策のさらに他の一つの対策によ
れば、冷却は、窒素での掃気による高ヘリウム含有量を
もったガス雰囲気の回収のためのパージ及び例えば浸透
膜式の窒素分離装置の通過による高ヘリウム含有量をも
ったガスの回収によって終り、この分離装置は高窒素含
有量をもった雰囲気を高ヘリウム含有量をもった雰囲気
によって置き換えるのに役立つものが有利である。
【0017】これらの対策の一つ及び/又は他を用いる
ことによって、また好ましくはこれらを組合せて用いる
ことによって、ヘリウムの損失は最少限に限定される。
特に石鹸及び油の除去は約600℃で終了するので、そ
の結果雰囲気の汚染は大きく低減され、そのとき窒素ベ
ース雰囲気からヘリウムベース雰囲気に移行することが
的確に認められる。
【0018】ヘリウムベース雰囲気に順次置き換えられ
る窒素ベース雰囲気の窒素分離装置への循環によって、
この置換時のヘリウム損失は、著しく低減され、これは
高ヘリウム含有量をもったガスによる炉の単なるパージ
と比べて著しい節約を示す。同様に処理終了時に高ヘリ
ウム含有量をもった雰囲気ガスの回収及びバッファー・
タンクへの貯蔵は、あり得るヘリウムの損失を著しく限
定する。本発明の一実施態様を、添付の図面を参照しな
がら以下に説明する。
【0019】
【実施例】図1の線図では、温度(℃)は、いろいろな
処理段階a,b,c,d及びe中の横座標の時間(h
r)の関数として縦座標に示される。ハッチングした区
画は、注入されたガス量を示す。実施された処理は、コ
イル巻きされた低炭素鋼板の焼なましに関し、装入量は
25t、焼なまし温度は700℃であった。
【0020】処理サイクルは次のようであった。 a.炉の雰囲気のN2 でのパージ:30m3 /hrで1
時間、 b.N2 +4%H2 での掃気:約600℃までの温度上
昇中に15m3 /hrで10時間、 c.N2 +4%H2 からHe+4%H2 への移行で、浸
透膜式窒素分離装置への循環流量:15m3 /hrで2
時間、 d.N2 +4%H2 での圧力維持で、流量は平均して
0.1m3 /hrで43時間、 e.N2 によるパージ及び窒素分離装置でのHe+4%
2 の回収:流量15m3 /hrで2時間、 これは全処理時間58時間に相当し、H2 での55時間
及びN2 +5%H2 での65時間と比較することができ
る。
【0021】ガスの消費は、 −N2 +5%H22 185m32 7m3 −H2 2 150m32 35m3 −He+5%H22 180m32 6m3 He 8m3 に上った。
【0022】ヘリウムの消費が少くなっているのは、ベ
ルのパッキングによるわずかなヘリウムの漏れ(0.1
3 /hr)及び窒素分離装置の浸透膜を通過する雰囲
気の循環時と処理終了に際してのベル開放時とのわずか
なヘリウム損失によるものである。
【0023】水素を用いる方法と経済性で競争できるに
は、本発明による提案は、すでに述べたように、良質な
密閉パッキングを有する炉を必要とする。この場合、操
業コストは比較できるが、ヘリウム法が低水素含有量を
もった窒素混合ガスを用いる従来の炉に、安全性に全く
問題なしに適用できるので、ヘリウム法は大きな投資に
はつながることはない。
【0024】さらに窒素ベースのガスを用いる方法と比
べて生産性及び品質の向上は、水素によって得られるそ
れらと近い。窒素分離装置をもった雰囲気循環装置は、
時間的にずらされて操業する複数の炉に順次用いること
ができ、これは本方法の実施のための投資をさらに制限
する。
【0025】本方法は、バッチ式で操業するあらゆる種
類の炉に適用される。サンドシールを用いる炉又は低級
の炉は、ヘリウムの漏れを制限するように小さな変更を
加えて適合させねばならない。ヘリウムと含有量10%
以下の水素との混合ガス雰囲気は不燃性なので、その他
の炉はこのようにして使用される。
【図面の簡単な説明】
【図1】いろいろな処理段階を示す温度−時間グラフ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジヤン−ピエール・ジユムブラン フランス国.38640・クレイ.オート・ ド・ジヤイエル.シユマン・ド・サボイエ ル(番地その他表示なし)

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 当初の温度上昇段階において高窒素含有
    量の掃気ガス流が確実に注入され、他方では最終の冷却
    段階が、あらかじめ定められた含有量の窒素以外の1種
    類のガスを含む雰囲気で行われる種類の、バッチ式で操
    業する炉で保護雰囲気下に金属製品を熱処理する方法に
    おいて、窒素以外のガスを含有する雰囲気が、対応する
    ガス流量を炉外に排出しながら、わずかの水素含有量を
    もったヘリウムベースの混合ガスの注入によって得られ
    ることを特徴とする熱処理方法。
  2. 【請求項2】 低水素含有量をもったヘリウム混合ガス
    の注入が、ヘリウム含有量が50%以上になるまで少く
    とも継続されることを特徴とする請求項1記載の熱処理
    方法。
  3. 【請求項3】 注入されたヘリウムベースと水素との混
    合ガスの水素含有量が20%以下であることを特徴とす
    る請求項1又は2記載の熱処理方法。
  4. 【請求項4】 低水素含有量をもったヘリウムベースの
    混合ガスが、予備のヘリウム及び水素によるプレミック
    ス混合ガスから得られることを特徴とする請求項1ない
    し3のいずれか1項に記載の熱処理方法。
  5. 【請求項5】 低水素含有量をもったヘリウムベースの
    混合ガスが、処理の後で回収され、実質的に窒素フリー
    に精製された装入ガスから得られることを特徴とする請
    求項1ないし3のいずれか1項に記載の熱処理方法。
  6. 【請求項6】 温度上昇中に用いる高窒素含有量をもっ
    た掃気ガスが、窒素及びほぼ3〜5%の含有量の水素の
    混合ガスであることを特徴とする請求項1ないし5のい
    ずれか1項に記載の熱処理方法。
  7. 【請求項7】 高窒素含有量をもった雰囲気を高ヘリウ
    ム含有量をもった雰囲気に置き換えることが、高ヘリウ
    ム含有量をもったガス注入及び例えば浸透膜式の窒素分
    離装置を通過後の雰囲気ガスの循環によって行われ、前
    記雰囲気ガスの循環が、窒素含有量が十分に低い閾値、
    好ましくは20%以下に達するとすぐに終了し、その後
    高ヘリウム含有量をもったガスの注入が、不測のガス漏
    れの補償のため及び/又は冷却中の炉内圧力維持のため
    の単なる注入であることを特徴とする請求項1ないし3
    のいずれか1項に記載の熱処理方法。
  8. 【請求項8】 低水素含有量をもったヘリウムベース混
    合ガスの注入が、処理された対象物と結合した油の熱的
    除去前には開始されないことを特徴とする請求項1ない
    し7のいずれか1項に記載の熱処理方法。
  9. 【請求項9】 低水素含有量をもったヘリウムベース混
    合物の注入が、作業温度が安定する前に開始されること
    を特徴とする請求項1ないし8のいずれか1項に記載の
    熱処理方法。
  10. 【請求項10】 冷却が、窒素での掃気による高ヘリウ
    ム含有量をもったガス雰囲気の回収のためのパージ及び
    例えば浸透膜式の窒素分離装置の通過による高ヘリウム
    含有量をもったガスの回収によって終了することを特徴
    とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の熱処理
    方法。
JP3058783A 1990-04-04 1991-03-22 保護雰囲気下に金属製品を熱処理する方法 Pending JPH05263126A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9004306A FR2660744B1 (fr) 1990-04-04 1990-04-04 Four a cloches.
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