JPH05263101A - タンタル粉末及びその製造方法 - Google Patents
タンタル粉末及びその製造方法Info
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- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 13
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 5
- -1 fluorine ions Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 40
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 30
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 30
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 30
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 6
- APLLYCDGAWQGRK-UHFFFAOYSA-H potassium;hexafluorotantalum(1-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[Ta+5] APLLYCDGAWQGRK-UHFFFAOYSA-H 0.000 abstract description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 abstract 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 abstract 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011276 addition treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- YRGLXIVYESZPLQ-UHFFFAOYSA-I tantalum pentafluoride Chemical compound F[Ta](F)(F)(F)F YRGLXIVYESZPLQ-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
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- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
加を抑制し、電気特性に優れた微細なコンデンサ用タン
タル粉末を提供する。 【構成】 タンタル粉末をフッ素イオンを含む水溶液中
に浸漬し、タンタル粉末表面に50〜1,000ppmのフ
ッ素を含む皮膜を形成する。
Description
て用いるタンタル粉末に関する。
高いことからコンデンサ用電極として多用されている。
ム(K2TaF7)をナトリウム還元する方法で製造し、
数段の化学処理及び熱処理を経て粉末を得ている。得ら
れたタンタル粉末は圧縮成型してペレットとし、高真空
中で高温で熱処理して多孔質の焼結体となし、さらに化
成処理により酸化皮膜を形成してコンデンサ陽極として
いる。
複雑な外形を有し、極めて多孔質な海綿状を呈してお
り、実効表面積は外見よりもはるかに大きい。この大き
な表面積を利用して、表面に酸化皮膜を形成して単位容
積あたりの静電容量を大きくしている。このようにタン
タルコンデンサの容量はタンタル表面に形成される誘電
体である酸化皮膜の面積に比例する。従って単位容積あ
たりの容量を増大させるには、さらに大きな重量あたり
の表面積(比表面積)が要求されることから、粉末粒径は
細かい方が良いとされている。しかし、タンタルは活性
な金属であり、空気中で安定に存在するためには表面に
極く薄い表面酸化膜を有する必要がある。この表面酸化
膜は誘電体としては不適当であり、化成処理により表面
皮膜を形成している。この際タンタル中の酸素含有量が
高いと良質の皮膜が形成できなくなる。従ってタンタル
粉末粒度があまり細か過ぎると酸素含有量が過剰にな
り、得られるコンデンサの性能が低くなる。タンタル中
の酸素濃度が4,000ppmを超えると、コンデンサの電
気特性、特に洩れ電流が悪化することが知られている。
そこで適当な粉末粒度が要求される。たとえば特開昭5
3−147664公報には、粉末粒径を3.8〜4.5μ
(FSSS:フィッシャー・サブシーブ寸法)が適当であ
る旨開示されている。しかし、近年の高容量化の要求に
伴い、タンタル粉末の粒度が細かくなり比表面積が格段
に大きくなったため、表面酸化膜として含まれる酸素の
量も多くなり、このようなタンタル粉末を焼結して陽極
としたコンデンサは、満足できる電気特性を有するもの
は得られない。
しては、Mgを添加して還元する方法(特開昭58−2
7903,特開昭61−284501等)、pH値が
2.5〜5.0に保持された水で処理する方法(特開昭
52−107212)、アルカリ金属ハロゲン化物を接
触させて減圧下で熱処理する方法(特開昭60−217
622)等がある。これらの方法によって酸素量を大幅
に低下することが可能である。特開平2−310301
には粉末粒度と酸素量との関係が開示してある。
酸素を少くするためには、表面酸化膜をできるかぎり薄
くするのが効果的である。
トリウム還元により得たタンタル粉末を洗浄して乾燥処
理後、熱処理をして、粉末の微粉化特性や成形性を向上
させる際に増加すると考えられる。さらにはタンタル粉
末を輸送したり保存する際にも増加する。
ル粉末を得たのち、輸送並びに保存中の酸素の増加を防
ぐと同時に、粉末を圧縮成形して電極に加工する際の酸
素の増加を防止する手段を提供することを目的とするも
のである。これにより表面積の大きな微細な粉末であっ
ても、粉末取得後の酸素増加を抑制することができる。
をフッ素イオンを含む水溶液中に浸漬しフッ素の被覆を
作って酸素との接触を断ち酸素の増加を防止する手段を
採用した。
浄、脱ガスを終了した後で良い。すなわち、一般にタン
タル粉末はフッ化タンタルカリウムをナトリウムで還元
した後解砕し、酸洗と水洗をしてアルカリ金属を除去
し、真空中で1,400〜1,550℃で熱処理して脱水
素ガスし、次いでマグネシウムを加えて850℃以上に
加熱して脱酸し、過剰のマグネシウム及びMgO等の反
応生成物を除去するため無機酸洗と水洗を経て目的とす
るタンタル粉末を得ている。
水溶液中に浸漬及び純水にて洗浄し、乾燥して目的とす
る粉末とする。
な微細粒でも輸送保管中やその後の陽極ペレットへの加
工中での酸素の増加を防ぐことができる。
があり、ペレットに加工する焼結過程で完全に除去でき
るので、コンデンサの性能に悪影響を及ぼすことはな
い。
フッ化水素酸の水溶液を使用するのが確実な方法であ
る。濃度としては0.005%〜5%(重量)程度が使用
可能であるが、HNO3 と共用してNOFを共存させた
方がTaの水素吸蔵を防止する上で有効である。HNO
3 は20〜70%が好ましい。
させた後、純水で酸を除去して乾燥すると粉末表面にフ
ッ素が残留する。フッ素はTaに吸着しており水洗によ
って完全に流れ去ることはなく、Ta中にフッ素濃度で
50ppm 〜1,000ppm 程度の含有量を得ることがで
きる。50ppm 以下では酸化防止の効果があがらず、
1,000ppm以上では酸化防止の効果も飽和し、かえっ
て真空焼成工程に支障をきたす。従来のタンタル粉末は
還元生成後の脱ガス、脱酸工程で原料から入るフッ素は
ほとんど揮散してしまい、タンタル中のフッ素濃度は5
ppm 以下である。
物の皮膜を形成し酸素とTaの接触を断ち、酸素がTa
と化合する機会を減らす効果を利用したものである。
て得られたタンタル粉末を解砕し水及び酸によって塩類
を除去したのち10-4Torrの真空下で1,400℃で3
0分熱処理して凝集体とした。これを解砕して粉末とし
たものを粉末Aとした。Aの酸素量は3,400ppm、比
表面積は4,300cm2/g(BET法)であった。
℃で1時間加熱して酸素を除去し、30%硝酸で洗浄
し、水で酸の除去を行った後乾燥した。この粉末をBと
した。Bの酸素量は1,600ppm、比表面積は4,60
0cm2/g(BET法)であった。
硝酸30%(重量)、フッ化水素酸0.5%(重量)、
残部水よりなる混酸にて15分洗浄した。さらに粉末重
量の10倍の水を用いて酸の除去を行ったのち乾燥し
た。これらの粉末を粉末C及び粉末Dとした。このよう
にして得たA〜Dの4種の粉末をそれぞれ2分し、一方
の4種類の粉末を空気中で220℃で3時間曝露試験を
し、Ta粉の酸素含有量の増加量を測定した。この試験
は粉末の長期保存における酸素量変化の加速テストとし
ての意味をもつものである。これらの粉末をそれぞれ
E,F,D,Hとした。それぞれについて酸素、比表面
積、フッ素含有量を測定した。さらにこれら8種類のタ
ンタル粉末を用いて電極ペレットを作り、電気特性を測
定した。各粉末0.15gをプレス密度5.0g/ccに圧縮
し真空中で1,500℃で30分間焼結した。このペレ
ットを0.02wt%H3PO4液中で印加電圧50Vで陽
極酸化処理し誘電体皮膜を形成した。このようにして作
った電極につき静電容量(CV値)と洩れ電流(LC
値、測定電圧35V)を測定した。
下であった。表1よりわかるように、フッ化処理を行う
ことによって保存中及び使用中における空気に対する曝
露に対してフッ化処理を行った粉末(G,H)は、フッ化
処理を行わない粉末(E,F)と比べて酸素の増加が約1
/5に減少しており、本発明による処理が顕著な効果を
もつことが実証されている。
から以下の特性が期待できる。 長時間の保存による酸素の増加が起きなくなる。 高温でのバインダー添加及び除去の操作による酸素の
増加が少なくなる。 コンデンサ用陽極体とした時の酸素が低下することに
より洩れ電流を大幅に改善できる。 粉末取り扱い中の着火等の危険性が減少する。
が無い。このため、あらゆる有機被覆と比較して、有利
である。 フッ素は真空中約1,100℃で完全に除去されるた
め焼結陽極中に残留する心配は皆無である。
Claims (2)
- 【請求項1】 フッ素を50〜1,000ppm含有するこ
とを特徴とするコンデンサ電極用タンタル粉末。 - 【請求項2】 フッ素イオンを含む水溶液中でタンタル
粉末を浸漬処理することを特徴とするコンデンサ電極用
タンタル粉末の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4060615A JP2505343B2 (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | タンタル粉末及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4060615A JP2505343B2 (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | タンタル粉末及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05263101A true JPH05263101A (ja) | 1993-10-12 |
JP2505343B2 JP2505343B2 (ja) | 1996-06-05 |
Family
ID=13147362
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4060615A Expired - Lifetime JP2505343B2 (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | タンタル粉末及びその製造方法 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2505343B2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60217622A (ja) * | 1984-03-19 | 1985-10-31 | スプラグ・エレクトリツク・カンパニー | タンタルの酸素含有量を減少させる方法 |
-
1992
- 1992-03-17 JP JP4060615A patent/JP2505343B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60217622A (ja) * | 1984-03-19 | 1985-10-31 | スプラグ・エレクトリツク・カンパニー | タンタルの酸素含有量を減少させる方法 |
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JP2505343B2 (ja) | 1996-06-05 |
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