JPH05259604A - 電子回路基板及びその製造方法 - Google Patents

電子回路基板及びその製造方法

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JPH05259604A
JPH05259604A JP9159192A JP9159192A JPH05259604A JP H05259604 A JPH05259604 A JP H05259604A JP 9159192 A JP9159192 A JP 9159192A JP 9159192 A JP9159192 A JP 9159192A JP H05259604 A JPH05259604 A JP H05259604A
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JP
Japan
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circuit board
rod
electronic circuit
electronic
board
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JP9159192A
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Yasuhiro Tanaka
康▲廣▼ 田中
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 部品の薄型化、小型化を可能にできるととも
に、実装コストを低減する電子回路基板を提供すること
を目的とする。 【構成】 回路基板に電気的特性の異なる多数の電子部
品素子を配設してなる電子回路基板において、上記各電
子部品素子を構成する材料を多層化し、あるいは一体化
してなる素子ロッドを形成し、この各素子ロッドを絶縁
部材内に埋設して回路ブロックを形成し、該回路ブロッ
クの各素子ロッドを所定間隔ごとに切断することによ
り、上記電子回路基板を形成したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、コンデンサ、
コイル、抵抗器等の電子部品素子をプリント基板に配設
して電気回路を構成するようにした電子回路基板及びそ
の製造方法に関し、特に電子回路基板の薄型化、小型化
を可能にできるとともに、実装コストを低減できるよう
にした電子回路基板の構造及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、電子回路基板として、従来か
ら、図8及び図9に示す構造のものがある。この電子回
路基板は40は、例えばガラス、セラミックス等からな
る絶縁基板41上に配線42をパターン形成し、この絶
縁基板41の配線42にコンデンサ、抵抗器、IC、圧
電発振子等の電子部品素子43を実装して構成されてい
る。この電子回路基板40を製造する場合、上記絶縁基
板41にスクリーン印刷、スパッタリング、蒸着等によ
り配線42をパターン形成し、この絶縁基板41の配線
42上に上記各電子部品素子43を配置するとともに、
該部品素子43と配線42とを半田付け接続している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記電子回路基板にお
いては、できるだけ小型化、薄型化するとともに、部品
コストの低減が要請されている。しかしながら、上記従
来の電子回路基板では、絶縁基板上に各電子部品素子を
載置する構造であるから、この部品素子の分だけ高さ方
向の寸法が大きくなり、薄型化には限界がある。また、
上記絶縁基板上に各電子部品素子と配線との半田付けス
ペースを確保する必要があることから、それだけ基板面
積が大きくなり、この点からも小型化には限界がある。
さらに、上記従来の電子回路基板では、各電子部品素子
をそれぞれ1個づつ実装するという手間のかかる工程が
必要であることから、実装コストが上昇するという問題
点がある。
【0004】本発明は上記従来技術の有する実情に鑑み
てなされたもので、部品の薄型化、小型化を可能にする
とともに、実装コストを低減する電子回路基板を提供す
ることを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明に係る電子回路基
板は、回路基板に電気的特性の異なる多数の電子部品素
子を配設してなる電子回路基板において、上記各電子部
品素子を構成する材料を多層化し、あるいは一体化して
なる素子ロッドを形成し、この各素子ロッドを絶縁部材
内に埋設して回路ブロックを形成し、該回路ブロックの
各素子ロッドを所定間隔ごとに切断することにより、上
記電子回路基板を形成したことを特徴とする。上記電子
回路基板は、電子部品素子を構成する材料を多層化し、
あるいは一体化して素子ロッドを形成し、この各素子ロ
ッドを絶縁部材内に埋設して回路ブロックを形成し、該
回路ブロックの各素子ロッドを所定間隔ごとに切断して
製造することを特徴とする。
【0006】ここで、上記素子ロッドは、電子部品素子
の構成材料を棒状に形成し、これに予め電極や配線等を
形成し、これを切断することによって電気的特性を発現
するようにしたもの、又は上記電子部品素子の構成材料
を棒状に形成し、これを切断した後、これに電極等を形
成して電気的特性を発現するようにしたものをいう。ま
た、上記絶縁部材には、回路基板を構成する材料、例え
ばガラス、セラミックス、あるいは樹脂等を使用する。
【0007】
【作用】上記のように構成してなる電子回路基板によれ
ば、絶縁部材内にそれぞれ電気的特性の異なる素子ロッ
ドを埋設して回路ブロックを形成し、この回路ブロック
を切断することによって薄板状の電子回路基板を構成し
たので、各電子部品素子は回路基板内に埋設されること
となり、従来の基板上に載置する構造に比べて薄型化で
きる。また、各部品素子と配線とを接続する半田付けス
ペースを不要にできることから、それだけ基板面積を小
さくでき、この点からも小型化できる。さらに、本発明
の電子回路基板は、各素子ロッドが埋設された回路ブロ
ックを切断して製造する方法であるので、従来の各電子
部品素子を基板上に実装するという手間のかかる工程を
不要にでき、生産性を向上できるとともに、実装コスト
を低減できる。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1ないし図5は本発明の一実施例による電子回
路基板を説明するための図である。本実施例の電子回路
基板1は、図2に示すように、絶縁材料からなる回路基
板2とほぼ同一平面内にIC素子3、コンデンサ素子
4、抵抗素子5a,5b、コイル素子6、及び圧電発振
子7を埋設し、この電子部品の各素子3〜7を上記回路
基板2内に埋設されたスルーホール電極8、及び回路基
板2の上面、及び下面にパターン形成された配線9によ
り接続して構成されている。
【0009】上記電子回路基板1は、各素子及び電極3
〜8の構成材料を棒状の素子ロッド13〜18に形成
し、次いで、この各素子ロッド13〜18を絶縁部材2
0内の所定位置に埋設することにより回路ブロック10
を形成し、該ブロック10の各素子ロッド13〜18を
所定間隔ごとに切断し、これにより形成された回路基板
2の両表面に配線10をパターン形成して得られたもの
である。
【0010】以下、本実施例の電子回路基板1の製造方
法の一例を詳細に説明する。まず、図3に示すように、
IC素子3を構成する角柱状のシリコンロッド13、コ
ンデンサ素子4を構成する高誘電体ロッド14、コイル
素子6を構成する円筒状のフェライトロッド16、スル
ーホール電極8を構成する導電性ファイバー18、圧電
発振子7を構成する圧電体ロッド17、さらに抵抗素子
5a,5bを構成する抵抗ロッド15を形成する。ま
た、上記フェライトロッド16は、これの外周面、及び
内周面に軸方向に延び、かつ周方向に所定間隔ごとに金
属ファイバー19を貼着する。
【0011】次に、金型内に上記各素子ロッド13〜1
8をそれぞれ所定位置に配置するとともに、各素子ロッ
ド13〜18を同一方向に向けて配設する。次いで、こ
の金型内にガラス、セラミックス、樹脂、あるいはロウ
接材からなる絶縁部材20を注入してインジェクション
モールドする。これにより上記各素子ロッド13〜18
と絶縁部材20とを結合一体化してなる回路ブロック1
0を形成する。
【0012】次に、図1に示すように、上記回路ブロッ
ク10の各素子ロッド13〜18を、これの軸方向に所
定間隔ごとに切断(一点鎖線で示す厚さ方向で)して多
数の回路基板2を形成する。この場合、回路基板2の厚
さは、電子回路基板の用途、あるいは各電子部品素子の
目標とする特性値に応じて適宜設定する。これにより上
記回路基板2の両表面にはこれに埋め込まれたチップ状
の各素子ロッド13a〜17aの上面、下面が露出する
とともに、スルーホール電極8の両端面が露出すること
となる。
【0013】そして、このようにして得られたチップ状
の各素子ロッド13a〜17aに電気的特性を発現させ
るための機能を付与する。まず、ウェーハ状のシリコン
ロッド13aの表面にいわゆるフォトリソグラフィーに
よりIC回路(図示せず)をパターン形成してIC素子
3を構成する。このIC素子3の各電極と各スルーホー
ル電極8とを例えばボンディングワイヤー又は直接配線
パターンで接続する。
【0014】次いで、図5に示すように、上記高誘電体
ロッド14aの両面に電極14b,14bを形成してコ
ンデンサ素子4を構成する。また上記一方の抵抗ロッド
15aの表面に一対の抵抗膜15b,15bを近接させ
て形成して抵抗素子5aを構成するとともに、他方の抵
抗ロッド15aの両面に抵抗膜15c,15cを形成し
て抵抗素子5bを構成する。さらに、上記圧電体ロッド
17aの両面に楕円状の対向電極17b,17bを形成
して圧電発振子7を構成する。
【0015】また、図4に示すように、上記フェライト
ロッド16aの両面の内側の各金属ファイバー19aと
外側の各金属ファイバー19aとを電極16bで接続す
る。これによりフェライトロッド16aの外周にファイ
バー19aと電極16bとがコイル状に巻回されたコイ
ル素子6を構成する。
【0016】さらに、上記回路基板2の両表面に、例え
ばスパッタリング法、蒸着法、スクリーン印刷法により
配線9をパターン形成して、上記各素子3〜7、及びス
ルーホール電極8を接続する。これにより本実施例の電
子回路基板1が製造される。なお、上記回路基板2の両
表面に必要に応じてラップポリシング等を行ってもよ
い。また、上記配線9と各電極14b〜16b等は別々
に形成してもよく、同時に形成してもよい。
【0017】このように本実施例によれば、各素子ロッ
ド13〜18をそれぞれ金型内に配置するとともに、絶
縁部材20でモールドして回路ブロック10を形成し、
この回路ブロック10を切断して回路基板2を形成した
ので、この回路基板2の各チップ状の素子ロッド13a
〜17aに上述の電気的特性を発現させるための機能を
付与することによって電子回路基板1を容易に製造でき
る。その結果、従来のように回路基板上に電子部品素子
を1個づつ実装するという手間のかかる工程を不要にで
き、それだけ実装コストを低減できるとともに、生産性
を向上できる。
【0018】また、本実施例では、上記回路基板2内に
各電子部品素子3〜8が埋設された構造であるから、従
来の基板上に載置する構造に比べて厚さ寸法を小さくで
き、薄型化が可能である。さらに各部品素子3〜8と配
線9とを直接接続することから、従来の半田付けスペー
スを不要にでき、その分だけ基板を小型化できる。しか
も各素子ロッド13〜18を高密度に配置できるので、
この点からも小型化できる。
【0019】なお、上記実施例では、IC素子、コンデ
ンサ素子等の電子部品素子を例にとったが、本発明は他
の電子部品、例えばフィルタ、バリスタ等にも適用で
き、特に限定するものではない。また上記実施例で説明
した電子回路基板1は一つの具体例であり、本発明はこ
れに限られるものではない。例えば、上記電子回路基板
1を多層に重ねてチップモジュールとしてもよく、ある
いは電子回路基板1にリード端子を接続し、これをデュ
ップ保護することによりハイブリッドICを構成しても
よい。
【0020】また、上記実施例では、各素子3〜7の構
成材料を一体化してなる素子ロッド13〜17を切断し
た後、これらに電極を形成して機能を付与させた場合を
例にとって説明したが、本発明は上記構成材料に予め電
極や配線等を一体形成して素子ロッドを構成し、これを
切断することによって電気的特性を発現するようにして
もよい。例えば、図6(a)に示す素子ロッド30は、
シリコンロッド13の外表面に外部導体21を形成して
構成した例である。また、図6(b)に示す素子ロッド
31は、誘電体22と金属薄膜、又は金属板23とを交
互に積層して構成した例であり、さらに図6(c)に示
す素子ロッド32は、絶縁膜をコーティングしてなる導
体ファイバー24を多数束ねて構成した例である。
【0021】図7は、各素子ロッド13〜18の寸法を
規格化し、これを碁盤目状に形成した金型、又は絶縁部
材20内に配置して回路ブロック10を構成した例を示
す。このようにした場合は、各ロッド間の無駄をなくす
ことができ、配置密度をさらに向上できる。
【0022】上記においては、各素子ロッドだけを絶縁
部材に埋設して回路ブロックを形成した場合を例にとっ
て説明したが、本発明の目的である電子回路基板は、電
子回路を構成する部品と絶縁部材とを一体化するという
技術思想であることから、この観点にたてば、以下のこ
とも考えられる。即ち、配線パターンに応じた形状の配
線ロッドを形成し、この配線ロッドと各素子ロッドとを
絶縁部材でモールドして回路ブロックを構成することも
可能であり、このようにした場合は回路ブロックを切断
するだけで電子回路基板を形成でき、ひいては配線の形
成を不要にできることから、製造コストをさらに低減で
きる。
【0023】
【発明の効果】以上のように本発明に係る電子回路基板
によれば、各素子ロッドを絶縁部材内に埋設して回路ブ
ロックを形成し、この回路ブロックの各素ロッドを切断
することによって電子回路基板を形成したので、各電子
部品素子は回路基板内に埋設されており、しかも各部品
素子と配線とを直接接続できることから基板面積を小さ
くでき、その結果薄型化、小型化できる効果があり、ま
た多数の電子部品素子をまとめて製造するので製造工程
が少なくできるとともに、従来の各電子部品素子を基板
上に実装する工程を不要にでき、それだけ実装コストを
低減できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による電子回路基板を説明す
るための製造方法を示す分解斜視図である。
【図2】上記実施例の電子回路基板の斜視図である。
【図3】上記実施例の素子ロッドを示す斜視図である。
【図4】上記実施例のコイル素子の形成方法を示す斜視
図である。
【図5】上記実施例のコンデンサ素子及び抵抗素子を示
す断面図である。
【図6】上記実施例の他の例の素子ロッドを示す斜視図
である。
【図7】上記実施例のさらに他の例を示す平面図であ
る。
【図8】従来の電子回路基板を示す斜視図である。
【図9】従来の電子回路基板を示す正面図である。
【符号の説明】
1 電子回路基板 2 回路基板 3〜8 電子部品素子 10 回路ブロック 13〜18,30〜32 素子ロッド 20 絶縁部材

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回路基板に電気的特性の異なる多数の電
    子部品素子を配設してなる電子回路基板において、上記
    各電子部品素子を構成する材料を多層化し、あるいは一
    体化してなる素子ロッドを形成し、この各素子ロッドを
    絶縁部材内に埋設して回路ブロックを形成し、該回路ブ
    ロックの各素子ロッドを所定間隔ごとに切断することに
    より、上記電子回路基板を形成したことを特徴とする電
    子回路基板。
  2. 【請求項2】 電子部品素子を構成する材料を多層化
    し、あるいは一体化して素子ロッドを形成し、この各素
    子ロッドを絶縁部材内に埋設して回路ブロックを形成
    し、該回路ブロックの各素子ロッドを所定間隔ごとに切
    断して形成することを特徴とする電子回路基板の製造方
    法。
JP9159192A 1992-03-16 1992-03-16 電子回路基板及びその製造方法 Pending JPH05259604A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6618916B1 (en) * 1997-01-08 2003-09-16 Jomed Inc. Method for manufacturing a high resolution intravascular ultrasound transducer assembly having a flexible substrate

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