JPH05254085A - 印刷適性評価装置用インキ処理方法及び装置 - Google Patents

印刷適性評価装置用インキ処理方法及び装置

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JPH05254085A
JPH05254085A JP5553092A JP5553092A JPH05254085A JP H05254085 A JPH05254085 A JP H05254085A JP 5553092 A JP5553092 A JP 5553092A JP 5553092 A JP5553092 A JP 5553092A JP H05254085 A JPH05254085 A JP H05254085A
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ink
roll
kneading
roller
metal roll
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Akira Kimura
晃 木村
Hiroshi Tajima
洋 田島
Kura Tomita
蔵 富田
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Abstract

(57)【要約】 【目的】インキの分布が均一で,かつ作業負担の軽減さ
れた印刷適性評価装置用インキ処理方法及び装置を提供
する。 【構成】インキ練り用の第一のローラの表面にらせん状
にインキを定量供給した後,このローラと版胴となる第
二のローラとの接触回転により,インキ練りを行うよう
にした。またインキ供給工程,インキ練り工程,印刷適
性試験後のローラの洗滌工程を集中制御し,自動化し
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は,印刷適性評価装置,特
に紙の品質試験の一つである印刷適性試験装置のインキ
練りの方法及び装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の印刷適性試験装置の代表的なイン
キ練り機構としては,RIテスターのインキ練り機構
と,IGT印刷試験機の付属のインキ練り装置がある。
RIテスターのインキ練り機構は,例えば,軸方向に1
5mm,毎分500回転で動直径65mmの鋼ロール
と,鋼ロールに接触回転する同直径のゴムロールの一対
のロールで,インキ練りを行っており,手まわしのネジ
軸により,固定のゴムロールに対する金属ロールの着脱
及び両ロール間のニップ圧調整をする。
【0003】またインキ供給は人手でピペット,インキ
ゲージ等を用い,一定量計量し,人手でロール面に塗布
している。それ故RIテスターの特徴である幅広(25
0mm面長)のロール面に均一な塗膜を形成することは
困難で,それを補うためインキ練りの途中で停止し,ゴ
ムロールの左右反転を行っているが,不充分である。ま
たまたニップ圧も個人差がある。
【0004】IGT印刷試験機のインキ練り装置は,2
本の鋼ローラと1本のゴムローラでインキを練り,10
mm幅の版胴をインキ着肉用アームに装着し,ゴムロー
ラに接触させて版胴にインキをつける。インキは人手で
ゴムローラ上に塗布するが,版胴が幅狭であるため,幅
方向の塗膜の均一性は問題とならず,そのための機構も
ない。
【0005】即ち, 1)インキの計量供給については,インキ缶表層の皮張
を除去し,ヘラでインキピペットに充填計量しており,
ピストン押しでゴムロールに手塗りしていた。この方法
ではインキの取り出しやピペットの洗滌がわずらわし
く,またインキ量に個人差が生じ,さらにゴムロールの
幅方向にインキ量のムラが生じる等の問題があった。
【0006】2)インキ練りについては,インキが(ロ
ール)全面に引き延ばされるまで,ハンドルを手で廻
し,ロールを着脱する。途中で数回回転を停止し,ロー
ルの左右反転を行っている。これは操作が煩わしく,ま
た練り圧力,着脱頻度,練り時間等に個人差が生じ,ま
た均一な練り条件が得られない。
【0007】3)ロールの洗滌については,ロールを手
で回転させながら,布でロール表面のインキを拭き取る
方法であり,操作が煩わしく,また拭く布の消耗も多
い。 4)0.1CC程度以下の微少量のインキの展色が不可
能であった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は,これらの問
題を解消し,作業負担の軽減並びに,操作性及び評価精
度の向上に有効な,印刷適性検査装置用インキ処理方法
及び装置を提供しようとするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は,インキ供給練
り作業において,インキ練りロール(金属ロール)の表
面にらせん状にインキを定量供給した後,インキ練りロ
ールとゴムロール(版胴)とを高速接触回転させること
により,ロール上に均一な塗膜を形成させることを特徴
とするものであり,具体的には,インキ練りロールを低
速(微速)で回転させながら,インキ供給ニードル先端
をインキ練りロール回転軸と平行に移動させて,インキ
練りロールの表面に螺旋状にインキを定量供給した後,
金属ロールを高速回転させ,版胴を接触回転させる動き
により,版胴上に均一な塗膜を形成する。
【0010】また洗滌作業のため,金属ロールを高速回
転させ,ゴムロールとを接触回転させながら,ロール表
面に洗滌液を供給する機構,金属ロール表面にゴムドク
ターを接触させてインキ,洗滌液を掻き落とす機構を備
えている。さらに本発明は,インキ供給動作,インキ練
り動作及び洗滌動作全体を制御する制御システムを備え
ている。
【0011】
【作用】インキ練りロール(金属ロール)に高速回転,
微速回転の切り替えができる駆動機構を設け,一軸テー
ブル上に取りつけられ,インキ供給ニードル先端がイン
キ練りロール表面に接近して金属ロール軸と平行に移動
できる,駆動機構を設け,インキ供給量を所定量にでき
るようにインキカートリッジに加える圧力をコントロー
ルできる空気圧制御器を設け,インキ供給時にはインキ
供給ニードルを平行移動させながら,インキ練りロール
を微速回転させて,インキ練りロールに螺旋状にインキ
を塗布する。
【0012】このときロール表面に対するカートリッジ
先端の相対速度(インキ供給速度)は,金属ロールの直
径をDとすると,図4に示されるように,軸方向速度
(カートリッジ移動速度)をVx,円周方向速度(接線
速度)をVyとすると,ノズル先端とロール表面との相
対速度Vは,次の(1)式で表すことができる。 V=(Vx2 +Vy2 1/2 ={(Vx2 +(πDN)2 1/2 (1) 但し,D:インキ練りロール(金属ロール)の外径 N:インキ練りロール(金属ロール)のインキ供給の際
の回転速度(rpm)
【0013】いま実施装置の金属ロールの直径を,D=
7cm,金属ロールの回転速度を,N=3.3rpm,
カートリッジ移動速度を60cm/分とすると, V={602 +(7π×3.3)2 1/2 = (3600+5270)1/2 =94.2cm/分 また金属ロールの微速度Nを3倍(10rpm)にする
と, V=(602 +(7π×10)2 1/2 =230cm/分 またN=15rpmにすると, V={(602 +(7π×15)2 1/2 =330cm/分 となる。
【0014】本発明の場合,インキ供給速度Vは,イン
キの種類にもよるが,330〜500cm以下で良い結
果が得られ,特に74〜145cm/分のとき優れた結
果が得られた。インキ供給速度V=74cm/分,14
5cm/分は,カートリッジ移動速度Vx=60cm/
分のとき,金属ロールの回転速度N=12rpm,6r
pmにそれぞれ該当する。
【0015】円周方向速度と軸方向速度比率Vy/Vx
は, 高粘度のためロール表面で展開するのが困難なイ
ンキの場合には,Vy/Vxの値を大きくして,しかも
(Vx2 +Vy2 1/2 が一定値以下になるように,V
x,Vyを設定する。黒インキの場合には,粘度が低い
ので,0.1cc程度の微少のインキを使用し,インキ
供給速度は遅くする。
【0016】いずれにしても,カートリッジの移動速度
を変えなくても,金属ロールの微回転速度を変えること
により,インキ供給速度を任意に精確に制御できるが,
インキの性状によりVx,Vy両者を変えるか,V=
(Vx2 +Vy2 1/2 を一定として,Vy/Vxの比
率を変える等の選択が可能である。次にインキ練り練り
ロールを高速回転させた状態で,ゴムロールをインキ練
りロールに近接接触させ,ゴムロールをインキ練りロー
ルと接触回転させる。
【0017】これにより,インキ供給工程で,インキ供
給の均一度が,インキ練りロールの軸方向及び円周方向
におけるインキ供給の均一度が,大幅に向上し,従っ
て,ロール(ゴムロール,金属ロール)の表面に均一性
の高いインキ塗膜が形成される。軸方向のインキの均一
性をさらに良くするため,ゴムロールを軸方向に所定速
度で若干距離(例えば10mm程度)摺動させる。
【0018】また洗滌作業においては,金属ロールを高
速回転させ,ゴムロールと接触回転させながら,ロール
表面に洗滌液を供給し,金属ロール表面にゴムドクター
を接触させて,インキ,洗滌液を掻き落した後,微回転
に切り替え,布を押し当てて仕上げの拭き取りを行うこ
とにより,洗滌作業を容易にし,全体の作業負担を軽減
する。
【0019】これらのインキ供給動作,インク練り動作
及び洗滌動作のシーケンスは,所定のプログラムに応じ
て,CPUにより制御され,自動化されているので,作
業負担はさらに軽減され,時間的効率も大幅に向上する
ことができる。
【0020】
【実施例】図1は本発明の1実施の印刷評価装置の外観
図であり,(a)は正面図,(b)は左側面図である。
図1において,(1)はインキ練りロールで,例えば金
属ロール(鋼ロール等)で構成され,70mm程度の外
径を有する。
【0021】(2)はロール(1)と平行に設けられた
ゴムロール(版胴)であり,金属ロールとほぼ同程度の
外径,例えば65mmの外径を有し,後述のように,そ
の軸方向の移動及び軸と直角方向の前後移動が可能であ
り,インキ練りの際や洗滌の際,金属ロール(1)と接
触し,接触回転する。(3)はインキ練りロールの表面
にインキを供給するためのインキカートリッジである。
【0022】インキ練りロール(1)は一対の軸受(1
1)及び軸受支持脚(9)により基台(4)上に回転可
能に保持され,伝動機構,例えば駆動ベルト(12),
プーリ(13),(14)を介して高速回転用モータ
(15)(M6)に結合されている。モータ(15)
は,基台(4)上に固定保持されている。ロール(1)
の軸の他端は,一方向クラッチ(16)を介してプーリ
(17)に結合され,プーリ(17)は駆動ベルト(1
8),プーリ(19)を介して,微回転用モータ(2
0)(M4)に結合されている。モータ(20)は軸受
支持脚(39)け11)に保持されている。
【0023】インキカートリッジ(3)は,金属ロール
(1)の真上に配置され,ロール(1)の上面に近接し
たインキ供給ニードル(30)を有し,インキ供給時,
内部のインキの上面は空気圧制御器(31)により制御
された所定の空気圧が負荷され,ロール(1)の表面に
所定の流量でインキを供給することができる。(32)
はインキ供給カートリッジ取り付けスタンドであり,ロ
ール(1)の軸に平行な方向(図のX方向)に前後に移
動可能な第一の可動テーブル(33)上に取りつけられ
ている。
【0024】可動テーブル(33)の下面には,摺動ブ
ロック(34)(341,342,343)が固定され
ており,両側の一対の摺動ブロック(341),(34
2)は,基台(4)上に固定された一対の案内軸(3
5)(351,352)により,ロール(1)の軸と平
行摺動できるようにに保持されている。一方真中の摺動
ブロック(343)はねじ軸(36)を介して,インキ
カートリッジ移動用モータ(37)(M3)により,ロ
ール(1)の軸方向に平行に駆動できるように構成され
ている(特に図1(b)参照)。
【0025】結局モータ(37)(M3)により,イン
キ供給ニードルの先端が金属ロール(1)に近接した状
態で,金属ロール(1)の軸に平行に移動するように,
インキカートリッジを金属ロールの一端から他端に前後
に駆動することができる。(38)は,ロール洗滌機構
であり,先端のゴムブレード部分を金属ロール(1)に
対して近接・後退させる機構,洗滌液供給制御機構(図
示せず)が設けられている。
【0026】ゴムロール(2)の駆動部の概略構成は,
主として図1(b)に示されている。ゴムロール(2)
は,一対のゴムロール軸受(21)により保持され,軸
受(21)は第二の可動テーブル(22)に固定されて
いる。テーブル(22)は,摺動ガイドブロック(2
3)を有し,クランクディスク(24)を介して,摺動
用モータ(25)(M2)により,ロール(1)の軸と
平行な方向に移動可能である。摺動モータ(24)は,
第三の可動テーブル摺動機構保持台(26)上に固定さ
れている。
【0027】(27)は,ゴムロール(2)を金属ロー
ル(1)に対して着脱するための一軸テーブル,(2
8)は基台(4)上に回転可能に保持されたねじ送り
軸,(29)は 基台(4)上に固定されたゴムロール
着脱用モータ(M5)であり,インキ練りのニップ圧を
コントロールできるトルク制御モータである。(38)
は,ロール洗滌機構であり,洗滌液供給制御機構を有す
る(図2参照)。
【0028】図2は,本発明装置の制御系統の概略図で
あり,(50)はデータバスライン,(51)はCPU
である。(52)は動作制御に必要な各種のプログラム
を格納した制御プログラム格納部であり,固定メモリ
(例えばROM)また半固定メモリ(例えばEP−RO
M)等で構成される。(53)は印刷評価装置として必
要な各種の情報を記憶するためのデータ格納部であり,
可変メモリ,例えばRAMで構成される。
【0029】(54)はインキカートリッジに負荷する
空気圧を制御するインキカートリッジ与圧制御部であ
り,例えばカートリッジ(3)と空気圧源との接続路の
途中に設けた圧力制御弁を制御する。(55)は,装置
動作に必要な各種のモータ駆動部を制御するための駆動
制御部であり,高速回転モータ(15)(M6),微回
転モータ(20)(M4),カートリッジ移動モータ
(37)(M3),ゴムロール摺動モータ(25)(M
2),ゴムロール着脱モータ(29)(M5)の駆動を
制御する。 (56)は,洗滌液の供給の制御を行う洗
滌制御部であり,ブレード着脱や洗滌液ポンプの動作を
制御する。
【0030】図3は本発明装置によるインク練り・洗滌
動作の工程図であり,この工程を自動化するためのプロ
グラムは,上記制御プログラム格納部(52)に記憶さ
れている。図3を中心にして,本発明装置の動作を説明
する。
【0031】A)インキ練り工程では,まずゴムロール
を所定位置一取りつけ,インキ練りロールを微速度,例
えば3rpm程度で回転させながら(モータ20,M
4),同時にインキ供給ニードルを金属ロールの頂部表
面に,両者の間隙が2mm程度以下になるように近接さ
せた状態で,一定の速度でロールの軸方向に移動させな
がら(モータ37,M3),インキを所定の流量で供給
する。 これにより,金属ロールの円筒面上に螺旋状に
インキが付着される。設定ロール幅の移動を検知した時
点で,インキ供給が停止され,インキ供給ニードルが金
属ロールから退避位置に移動される。
【0032】B)金属ロールを,例えば500rpm程
度で高速回転させながら(モータ15,M6),ゴムロ
ールをインキ練りロールを幅方向に摺動させながら(モ
ータ25,M2),金属ロールに近接接触させ(モータ
29,M5),ニップ圧を制御しながら,ゴムロールを
接触回転させる。ゴムロールは,設定幅範囲で,所定回
数金属ロールに対して往復摺動させる。所定動作後ゴム
ロールを金属ロールから離脱させ(モータM5),金属
ロールが停止される(モータM6)。ゴムロールの自然
停止後,ゴムロールを取り出す。
【0033】C)インキの展色されたゴムロールによ
り,印刷を行い,印刷の評価を行う。 D)洗滌工程では,使用後のゴムロールを取りつけ,洗
滌動作を開始させる。即ち金属ロールを高速回転し,ゴ
ムロールを摺動させながら,ゴムロールを金属ロールに
近接して接触回転させた状態で,洗滌液を供給し,ブレ
ードを接触させ,所定時間時間洗滌を行う動作が自動的
に行われる。
【0034】以上のように,本発明は,RIテスターの
ように複数枚のサンプルを同時印刷し,相対評価する印
刷適性評価装置において,人手により計量,供給するこ
とによるわずらわしさ,インキ塗布ムラ,インキ量等の
個人差を除去し,インキ供給方法とインキ練り機構の組
み合わせにより,版胴表面に均一な塗膜を形成し,評価
精度を高めるとともに,印刷適性評価試験における主な
作業である(イ)圧胴へのサンプルセット,(ロ)イン
キ供給,(ハ)インキ練り,(ニ)印刷,(ホ)洗浄の
うち(ロ),(ハ),(ホ)の3つの作業機能を一体化
した装置を提供することにより,作業負担を軽減し,か
つインキ練りの均一度を高め,印刷適性評価の精度向上
にも有効なインキ処理方法,装置を実現することが出来
た。
【0035】
【発明の効果】従来の人手による,わずらわしく,イン
キ量に個人差が生じ,ゴムロール上で幅方向にムラがで
きるインキ計量,供給方法から,わずらわしさと個人差
が除去され,ロール上に幅方向に均一に供給されるの
で,塗りムラが減少し,熟練度が不要になる。
【0036】練りロール上にらせん状にインキを供給し
た後,ロールを高速接触回転させながらロールを摺動さ
せるので,流れ方向,幅方向とも均一な塗膜を版胴上に
形成することができるので,RIテスターのように幅広
の版胴でサンプルを複数枚同時印刷する場合に精度の高
い評価が可能で,熟練度を要しない。洗滌時にも高速回
転と微速回転とを切り替えられるので,従来高速回転の
ため手が出せず,停止した状態で拭きとっていた作業に
対し,本願では高速回転でドクターブレードで掻き落し
た後,微速回転にして回しながら手で仕上げ拭きができ
るので,作業が容易になった。また各工程,全体の作業
効率が大幅に向上し,インキ供給,インキ練り,洗滌を
含め,従来の数分の1程度で,処理することができる。
【0037】さらに説明を付加すれば, a)例えば20CCシリンジ(1週間分)にインキを充
填し,ディスペンサーとインキ供給機構で,定量のイン
キを金属ロール上に螺旋状に供給するので,わずらわし
さと個人差が除去され,熟練が不要となる。また計量精
度が向上し,塗りムラが減少する。
【0038】b)インキ供給が螺旋状で幅方向均等であ
るため,ゴムロールの摺動,自動着脱との組み合わせに
より,インキ皮膜の形成が幅方向均等になり,ゴムロー
ルの左右反転が不要である。全自動なので,わずらわし
さと個人差が除去され,均一な練り条件が得られる。 c)例えば,手作業のインキ供給方法では,不可能な領
域(0.1cc以下)の0.05CCの微少インキ量で
も展色可能である。 d)ロールニップ部に洗滌液を供給し,ドクターで掻き
落とすので,簡単に洗滌できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のインキ練り装置の機械的概略構成図で
あり,(a)は正面図であり,(b)は左側面図であ
る。
【図2】図2は,本発明装置の制御系のシステム構成図
である。
【図3】図3は,本発明装置の動作プログラムのフロー
である。
【図4】図4は,本発明装置の動作説明用図である。
【符号の説明】
1 インキ練りロール(金属ロール) 2 ゴムロール(版胴) 3 インキカートリッジ 4 基台 9 軸受支持脚 11 金属ロール軸受 12 駆動ベルト 13 プーリ 14 プーリ 15 高速回転用モータ 16 一方向クラッチ 17 プーリ 18 駆動ベルト 19 プーリ 20 微速回転用モータ 21 ゴムロール用軸受 22 ゴムロール保持台(第二可動テーブル) 23 摺動ガイドブロック 24 クランクディスク 25 ゴムロール摺動用モータ 26 摺動機構保持台(第三可動テーブル) 27 ゴムロール着脱用一軸テーブル 28 ゴムロール着脱用ねじ軸 29 ゴムロール着脱用モータ 30 インキ供給ニードル 31 空気圧制御器 32 インキカートリッジ取り付けスタンド 33 インキカートリッジ移動用テーブル(第一可動
テーブル) 34(341〜343) 摺動ブロック 35 案内軸 36 ねじ軸 37 インキカートリッジ移動用モータ 38 ロール洗滌機構

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】インキ練り用の第一のローラの表面に螺旋
    状にインキを付着させる工程と,該第一のローラと第二
    のローラを接触回転させローラの表面にインキを分布さ
    せる工程を含むことを特徴とする,印刷適性評価装置の
    インキ処理方法。
  2. 【請求項2】第一のローラと,第一のローラを低速回転
    させる手段と,インキを供給ニードルから所定の流量で
    供給するインキ定量供給手段と,インク供給ニードルを
    第一のローラの表面に沿ってその長さ方向に所定の速度
    で移動させる手段と,第一のローラと接触回転し第一の
    ローラ表面に付着されたインキを第一のローラとの間で
    円周方向及び幅方向に展開する第二のローラを備えたこ
    とを特徴とする,印刷適性評価装置用インキ処理装置。
  3. 【請求項3】印刷試験の前処理であるインキ供給・練り
    作業において,インキ練りロールを微回転させながら,
    インキ供給ニードル先端をインキ練りロール回転軸と平
    行に移動させ,インキ練りロール表面にらせん状にイン
    キを定量供給することを特徴とする印刷適性評価装置用
    インキ処理装置。
  4. 【請求項4】ロール表面とニードル先端との相対速度が
    330cm/分以下で,かつ,その隙間を2mm以下と
    したことを特徴とする,請求項3記載の印刷適性評価装
    置用インキ処理装置。
  5. 【請求項5】インキ定量供給機構が一軸スライドテーブ
    ルと駆動モータ,その上に固定されるインキカートリッ
    ジ取りつけ用スタンドと,インキカートリッジと,イン
    キカートリッジに吐出圧を加える空気圧制御器で構成さ
    れることを特徴とする請求項3記載の印刷適性評価装置
    用インキ処理装置。
  6. 【請求項6】インキ練り機構が、金属ロール,版胴とな
    るゴムロール,金属ロール軸の一端に接続される高速回
    転用モータ,金属ロール軸の他端にクラッチを介して接
    続され,金属ロールに微回転を与えるモーター,ゴムロ
    ールを取り外し可能に支持する2個の軸受,軸受で支持
    されたゴムロールを軸方向に往復動させる摺動機構と,
    その駆動用モータやゴムロールを含む摺動機構全体を摺
    動方向と直角方向に往復動させ,金属ロールと,ゴムロ
    ールを着脱させるとともにインキ練りニップ圧を調整で
    きる着脱機構と,その駆動モータで構成されることを特
    徴とする請求項3記載の印刷適性評価装置用インキ処理
    装置。
  7. 【請求項7】金属ロール,ゴムロールの洗浄手段とし
    て,金属ロールとゴムロールを接触回転させながら金属
    ロールに着脱させるゴムブレード,その着脱機構,ゴム
    ブレード上に取り付けられ,ゴムブレードでかき落とし
    た洗浄液を吸い取る吸収材,手動または自動による洗浄
    液供給器で構成される洗浄機構を有することを特徴とす
    る請求項3記載の印刷適性評価装置用インキ処理装置。
  8. 【請求項8】前記のインキ供給,インキ練り,洗浄動作
    を一元的に制御する制御器を有することを特徴とする請
    求項3記載の印刷適性評価装置用インキ処理装置。
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