JPH05250745A - 光ディスク媒体の製造方法 - Google Patents
光ディスク媒体の製造方法Info
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- JPH05250745A JPH05250745A JP4852492A JP4852492A JPH05250745A JP H05250745 A JPH05250745 A JP H05250745A JP 4852492 A JP4852492 A JP 4852492A JP 4852492 A JP4852492 A JP 4852492A JP H05250745 A JPH05250745 A JP H05250745A
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- layer
- recording layer
- substrate
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高温での熱処理が必要なＣｏフェライト、Ｂ
ａフェライト又は磁性ガーネット等の磁性体からな記録
層を有し、高密度記録が可能な光ディスク媒体を得るこ
とを目的とする。 【構成】 先ず、カーボン等の耐熱性が高い材質からな
る基板４上に例えばＴａ2 Ｏ5 からなる断熱層５を形成
し、この断熱層５上にＣｏフェライト、Ｂａフェライト
及び磁性ガーネット等の磁性体からなる記録層６を形成
して所定の温度で熱処理を施す。次に、記録層６上に、
ＳｉＮ、Ｔａ2 Ｏ5 又はＳｉＯ2 等の透明誘電体からな
る誘電体層７を形成する。その後、所定の溝パターンに
形成されたフォトレジストをマスクとして、誘電体層７
をイオンエッチングする。次いで、フォトレジストを除
去した後、誘電体層７上に透明保護層９を形成する。
ａフェライト又は磁性ガーネット等の磁性体からな記録
層を有し、高密度記録が可能な光ディスク媒体を得るこ
とを目的とする。 【構成】 先ず、カーボン等の耐熱性が高い材質からな
る基板４上に例えばＴａ2 Ｏ5 からなる断熱層５を形成
し、この断熱層５上にＣｏフェライト、Ｂａフェライト
及び磁性ガーネット等の磁性体からなる記録層６を形成
して所定の温度で熱処理を施す。次に、記録層６上に、
ＳｉＮ、Ｔａ2 Ｏ5 又はＳｉＯ2 等の透明誘電体からな
る誘電体層７を形成する。その後、所定の溝パターンに
形成されたフォトレジストをマスクとして、誘電体層７
をイオンエッチングする。次いで、フォトレジストを除
去した後、誘電体層７上に透明保護層９を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光により情報の記録、
再生又は消去を行なうことが可能な光ディスク媒体の製
造方法に関する。
再生又は消去を行なうことが可能な光ディスク媒体の製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の光ディスク媒体においては、予め
基板にトラッキング用の溝が設けられていると共にアド
レス情報が記録されている。
基板にトラッキング用の溝が設けられていると共にアド
レス情報が記録されている。
【０００３】図５は、従来の光ディスク媒体を示す断面
図である（特公昭52-32931）。この光ディスク媒体は、
ディスク面に光（例えば、レーザービーム）を照射し、
ディスクから反射された光の変調により情報を再生する
ものである。
図である（特公昭52-32931）。この光ディスク媒体は、
ディスク面に光（例えば、レーザービーム）を照射し、
ディスクから反射された光の変調により情報を再生する
ものである。
【０００４】基板１は射出成形された有機樹脂からな
り、その一方の面には情報に応じた段差（即ち、情報構
体２）が設けられ、他方の面は平坦に成形されている。
そして、情報構体２が設けられた面は、光透過性の樹脂
からなる保護層３により被覆されている。
り、その一方の面には情報に応じた段差（即ち、情報構
体２）が設けられ、他方の面は平坦に成形されている。
そして、情報構体２が設けられた面は、光透過性の樹脂
からなる保護層３により被覆されている。
【０００５】この光ディスク媒体は、情報再生時に、光
源（図示せず）から出力されレンズ１０で屈折された光
ビームが情報構体２の面に収束するようになっている。
この場合に、情報構体２の位置におけるビーム径に比し
て、情報構体２から離れた位置（例えば、レンズ１０の
位置）における光のビーム径が極めて大きくなるよう
に、基板１の厚さが設定されている。このため、基板１
の光源側の面に塵粒子が付着したり、又は疵が付いて
も、情報の読出しが可能であるという長所がある。ま
た、基板がＰＣ（ポリカーボネート）及びＰＭＭＡ（ポ
リメタクリル酸メチル）等の有機樹脂からなるため、製
品コストが低いという利点もある。
源（図示せず）から出力されレンズ１０で屈折された光
ビームが情報構体２の面に収束するようになっている。
この場合に、情報構体２の位置におけるビーム径に比し
て、情報構体２から離れた位置（例えば、レンズ１０の
位置）における光のビーム径が極めて大きくなるよう
に、基板１の厚さが設定されている。このため、基板１
の光源側の面に塵粒子が付着したり、又は疵が付いて
も、情報の読出しが可能であるという長所がある。ま
た、基板がＰＣ（ポリカーボネート）及びＰＭＭＡ（ポ
リメタクリル酸メチル）等の有機樹脂からなるため、製
品コストが低いという利点もある。
【０００６】なお、近年、情報の記録、再生及び消去が
可能の光ディスク媒体として、基板と保護層との間に、
磁性体からなる記録層を設けた光ディスク媒体も開発さ
れている。
可能の光ディスク媒体として、基板と保護層との間に、
磁性体からなる記録層を設けた光ディスク媒体も開発さ
れている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の光ディスク媒体においては、以下に示す問題点
がある。即ち、近時、高密度で情報記録が可能の磁性体
として、ガーネット系磁性体が注目されている。このガ
ーネット系磁性体は、所望の磁気特性を得るために、成
膜時に５００℃以上の温度で熱処理することが必要であ
る。しかし、従来の光ディスク媒体においては、基板が
ＰＣ及びＰＭＭＡ等の有機樹脂からなるため、温度に対
する安定性の上限は約１２０℃と低い。従って、従来の
光ディスク媒体においては、記録層としてこれらの磁性
体を使用することが困難である。
た従来の光ディスク媒体においては、以下に示す問題点
がある。即ち、近時、高密度で情報記録が可能の磁性体
として、ガーネット系磁性体が注目されている。このガ
ーネット系磁性体は、所望の磁気特性を得るために、成
膜時に５００℃以上の温度で熱処理することが必要であ
る。しかし、従来の光ディスク媒体においては、基板が
ＰＣ及びＰＭＭＡ等の有機樹脂からなるため、温度に対
する安定性の上限は約１２０℃と低い。従って、従来の
光ディスク媒体においては、記録層としてこれらの磁性
体を使用することが困難である。
【０００８】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、高温での熱処理が必要な磁性体を記録層に
適用することができて、従来に比して高密度で情報を記
録することが可能な光ディスク媒体を製造することがで
きる光ディスク媒体の製造方法を提供することを目的と
する。
のであって、高温での熱処理が必要な磁性体を記録層に
適用することができて、従来に比して高密度で情報を記
録することが可能な光ディスク媒体を製造することがで
きる光ディスク媒体の製造方法を提供することを目的と
する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明に係る光ディスク
媒体は、その表面が平滑である耐熱性基板上に磁性体か
らなる記録層を形成する工程と、この記録層に対して熱
処理を施す工程と、前記記録層上に透明誘電体層を形成
する工程と、この透明誘電体層の表面に選択的に溝を設
ける工程と、前記透明誘電体層上に保護層を形成する工
程とを有することを特徴とする。
媒体は、その表面が平滑である耐熱性基板上に磁性体か
らなる記録層を形成する工程と、この記録層に対して熱
処理を施す工程と、前記記録層上に透明誘電体層を形成
する工程と、この透明誘電体層の表面に選択的に溝を設
ける工程と、前記透明誘電体層上に保護層を形成する工
程とを有することを特徴とする。
【００１０】
【作用】本発明においては、先ず、その表面が平滑な耐
熱性基板上に例えばガーネット系磁性体からなる記録層
を形成し、熱処理を施す。この熱処理により、磁性体か
らなる記録層はその結晶状態が変化し、高密度で情報を
記録することが可能になる。次に、この記録層上にＳｉ
Ｎ、Ｔａ2 Ｏ5 及びＳｉＯ2 等の透明誘電体層を形成
し、この透明誘電体層の表面に選択的に溝を形成する。
次いで、この透明誘電体層の表面上に保護層を形成す
る。
熱性基板上に例えばガーネット系磁性体からなる記録層
を形成し、熱処理を施す。この熱処理により、磁性体か
らなる記録層はその結晶状態が変化し、高密度で情報を
記録することが可能になる。次に、この記録層上にＳｉ
Ｎ、Ｔａ2 Ｏ5 及びＳｉＯ2 等の透明誘電体層を形成
し、この透明誘電体層の表面に選択的に溝を形成する。
次いで、この透明誘電体層の表面上に保護層を形成す
る。
【００１１】本発明においては、上述の如く、記録層に
対して熱処理を施すときには保護層が形成されていな
い。つまり、熱処理時に高温に曝されるのは耐熱性基板
であり、熱処理後に透明誘電体層及び保護層（樹脂）を
形成する。従って、本発明においては、記録層として、
ガーネット系磁性体等の高温で熱処理することが必要な
磁性体を適用することが可能であり、記録密度が高い光
ディスク媒体を得ることができる。
対して熱処理を施すときには保護層が形成されていな
い。つまり、熱処理時に高温に曝されるのは耐熱性基板
であり、熱処理後に透明誘電体層及び保護層（樹脂）を
形成する。従って、本発明においては、記録層として、
ガーネット系磁性体等の高温で熱処理することが必要な
磁性体を適用することが可能であり、記録密度が高い光
ディスク媒体を得ることができる。
【００１２】なお、基板としては、記録層を熱処理する
ときの温度以上の耐熱性があればよく、例えばカーボン
からなる基板を使用することができる。このカーボンか
らなる基板の耐熱温度は真空中で１０００℃以上であ
り、大気中でも約５００℃と極めて高い。また、必要に
応じて、基板と記録層との間に熱伝導率が小さい材料か
らなる断熱層を設けてもよい。
ときの温度以上の耐熱性があればよく、例えばカーボン
からなる基板を使用することができる。このカーボンか
らなる基板の耐熱温度は真空中で１０００℃以上であ
り、大気中でも約５００℃と極めて高い。また、必要に
応じて、基板と記録層との間に熱伝導率が小さい材料か
らなる断熱層を設けてもよい。
【００１３】更に、透明誘電体層としては、ＳｉＮ、Ｔ
ａ2 Ｏ5 及びＳｉＯ2 等の耐熱性が高い誘電体を使用す
ることができる。これらの誘電体からなる膜は、透明で
あると共に屈折率が高く、また、例えばイオンエッチン
グ法によりその表面に溝を形成することができる。
ａ2 Ｏ5 及びＳｉＯ2 等の耐熱性が高い誘電体を使用す
ることができる。これらの誘電体からなる膜は、透明で
あると共に屈折率が高く、また、例えばイオンエッチン
グ法によりその表面に溝を形成することができる。
【００１４】
【実施例】次に、本発明の実施例について添付の図面を
参照して説明する。
参照して説明する。
【００１５】図１乃至図４は本発明の実施例に係る光デ
ィスク媒体の製造方法を工程順に示す断面図である。
ィスク媒体の製造方法を工程順に示す断面図である。
【００１６】先ず、図１に示すように、例えば直径が
３．５インチであり、その表面が平滑な円板状カーボン
基板４を用意し、マグネトロンスパッタ法により、この
基板４上に、例えばＴａ2 Ｏ5 からなる断熱層５及びＣ
ｏフェライトからなる記録層６を順次形成した後、４０
０℃の温度で３時間熱処理を施す。この熱処理により、
Ｃｏフェライトの結晶状態が非晶質から微結晶に変化し
て磁気特性が向上する。なお、カーボン基板４の耐熱温
度は真空中で１０００℃以上であり、大気中でも約５０
０℃であるので、この熱処理において基板４に損傷を与
えることはない。また、断熱層５としては、熱伝導率が
小さい材料であれば、Ｔａ2 Ｏ5 以外のものでもよい。
３．５インチであり、その表面が平滑な円板状カーボン
基板４を用意し、マグネトロンスパッタ法により、この
基板４上に、例えばＴａ2 Ｏ5 からなる断熱層５及びＣ
ｏフェライトからなる記録層６を順次形成した後、４０
０℃の温度で３時間熱処理を施す。この熱処理により、
Ｃｏフェライトの結晶状態が非晶質から微結晶に変化し
て磁気特性が向上する。なお、カーボン基板４の耐熱温
度は真空中で１０００℃以上であり、大気中でも約５０
０℃であるので、この熱処理において基板４に損傷を与
えることはない。また、断熱層５としては、熱伝導率が
小さい材料であれば、Ｔａ2 Ｏ5 以外のものでもよい。
【００１７】次に、記録層６上に透明誘電体層７を形成
する。この透明誘電体層７は、ＳｉＮ、Ｔａ2 Ｏ5 及び
ＳｉＯ2 等の屈折率が高い材料により形成することが好
ましい。
する。この透明誘電体層７は、ＳｉＮ、Ｔａ2 Ｏ5 及び
ＳｉＯ2 等の屈折率が高い材料により形成することが好
ましい。
【００１８】次に、基板４を十分に冷却した後、スピン
コータを使用して、誘電体層７上にフォトレジストを塗
布し、プリベーク処理を施す。その後、トラッキング用
の溝パターンが螺旋状に設けられたマスクを使用し、ミ
ラー・プロジェクション装置により前記フォトレジスト
を露光した後、現像処理を実施して、図２に示すよう
に、溝パターンのフォトレジスト８を形成する。
コータを使用して、誘電体層７上にフォトレジストを塗
布し、プリベーク処理を施す。その後、トラッキング用
の溝パターンが螺旋状に設けられたマスクを使用し、ミ
ラー・プロジェクション装置により前記フォトレジスト
を露光した後、現像処理を実施して、図２に示すよう
に、溝パターンのフォトレジスト８を形成する。
【００１９】次に、図３に示すように、ＳＦ6 とＯ2 と
の混合ガスを使用したＲＩＥ（リアクティブ・イオン・
エッチング）法により、フォトレジスト８をマスクとし
て誘電体層７に対しエッチングを施す。その後、フォト
レジスト８を剥離液で除去する。なお、誘電体層７のエ
ッチング深さは、トラッキング信号出力が最も大きくな
るように、記録及び再生に用いるレーザー光の波長の１
／８とすることが好ましい。
の混合ガスを使用したＲＩＥ（リアクティブ・イオン・
エッチング）法により、フォトレジスト８をマスクとし
て誘電体層７に対しエッチングを施す。その後、フォト
レジスト８を剥離液で除去する。なお、誘電体層７のエ
ッチング深さは、トラッキング信号出力が最も大きくな
るように、記録及び再生に用いるレーザー光の波長の１
／８とすることが好ましい。
【００２０】次に、スピンコーターにより、誘電体層７
上に紫外線硬化性の樹脂を塗布する。このとき、樹脂の
表面を平坦にするために、例えば塗布厚を１０μｍとす
る。次いで、図４に示すように、紫外線照射装置を使用
して樹脂に紫外線を照射し、樹脂を硬化させて透明保護
層９とする。これにより、光ディスク媒体が完成する。
上に紫外線硬化性の樹脂を塗布する。このとき、樹脂の
表面を平坦にするために、例えば塗布厚を１０μｍとす
る。次いで、図４に示すように、紫外線照射装置を使用
して樹脂に紫外線を照射し、樹脂を硬化させて透明保護
層９とする。これにより、光ディスク媒体が完成する。
【００２１】本実施例においては、基板４及び断熱層５
がいずれも記録層６を熱処理するときの温度以上の耐熱
性を有し、熱処理後に透明誘電体層７及び樹脂からなる
保護層９を形成する。このため、記録層６の材質とし
て、Ｃｏフェライト、Ｂａフェライト及び磁性ガーネッ
ト等の高温で熱処理することが必要な磁性体を使用する
ことが可能であり、これらの磁性体を用いて記録層６を
形成することにより、高密度記録が可能となる。
がいずれも記録層６を熱処理するときの温度以上の耐熱
性を有し、熱処理後に透明誘電体層７及び樹脂からなる
保護層９を形成する。このため、記録層６の材質とし
て、Ｃｏフェライト、Ｂａフェライト及び磁性ガーネッ
ト等の高温で熱処理することが必要な磁性体を使用する
ことが可能であり、これらの磁性体を用いて記録層６を
形成することにより、高密度記録が可能となる。
【００２２】次に、本実施例方法により実際に光ディス
ク媒体を製造し、そのトラッキング状態を調べた結果に
ついて説明する。
ク媒体を製造し、そのトラッキング状態を調べた結果に
ついて説明する。
【００２３】上述の方法により、カーボン基板上にＴａ
2 Ｏ5 からなる断熱層を形成し、この断熱層上にＣｏフ
ェライトからなる記録層を形成した。その後、約４００
℃の温度で３時間熱処理を実施した。次に、この記録層
上にＳｉＮからなる透明誘電体層を形成し、この誘電体
層をＲＩＥ法によりエッチングした後、この誘電体層上
に保護層を形成し、光ディスク媒体を得た。
2 Ｏ5 からなる断熱層を形成し、この断熱層上にＣｏフ
ェライトからなる記録層を形成した。その後、約４００
℃の温度で３時間熱処理を実施した。次に、この記録層
上にＳｉＮからなる透明誘電体層を形成し、この誘電体
層をＲＩＥ法によりエッチングした後、この誘電体層上
に保護層を形成し、光ディスク媒体を得た。
【００２４】この光ディスク媒体を光ディスク評価装置
にセットし、１８００ｒｐｍの回転数で回転させつつ、
保護層側からレーザービームを入射してトラッキングを
行なった。その結果、光ディスク媒体の内周から外周ま
で、良好な状態でトラッキングが可能であった。
にセットし、１８００ｒｐｍの回転数で回転させつつ、
保護層側からレーザービームを入射してトラッキングを
行なった。その結果、光ディスク媒体の内周から外周ま
で、良好な状態でトラッキングが可能であった。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、耐
熱性基板上に記録層を形成し熱処理を施した後、この記
録層上に透明誘電体層及び保護層を形成するから、記録
層として高温での熱処理を必要とするＣｏフェライト、
Ｂａフェライト及び磁性ガーネット等の磁性体を適用す
ることができる。このような磁性体を用いて記録層を形
成することにより、高密度記録が可能な光ディスク媒体
を得ることができる。
熱性基板上に記録層を形成し熱処理を施した後、この記
録層上に透明誘電体層及び保護層を形成するから、記録
層として高温での熱処理を必要とするＣｏフェライト、
Ｂａフェライト及び磁性ガーネット等の磁性体を適用す
ることができる。このような磁性体を用いて記録層を形
成することにより、高密度記録が可能な光ディスク媒体
を得ることができる。
【図１】本発明の実施例に係る光ディスク媒体の製造方
法の一工程を示す断面図である。
法の一工程を示す断面図である。
【図２】同じくその一工程を示す断面図である。
【図３】同じくその一工程を示す断面図である。
【図４】同じくその一工程を示す断面図である。
【図５】従来の光ディスク媒体を示す模式図である。
１，４；基板 ２；情報構体 ３，９；保護層 ５；断熱層 ６；記録層 ７；誘電体層 ８；フォトレジスト １０；レンズ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平田 守 兵庫県神戸市西区高塚台１丁目５番５号 株式会社神戸製鋼所西神総合研究地区内 (72)発明者 平野 貴之 兵庫県神戸市西区高塚台１丁目５番５号 株式会社神戸製鋼所西神総合研究地区内
Claims (5)
- 【請求項１】 その表面が平滑である耐熱性基板上に磁
性体からなる記録層を形成する工程と、この記録層に対
して熱処理を施す工程と、前記記録層上に透明誘電体層
を形成する工程と、この透明誘電体層の表面に選択的に
溝を設ける工程と、前記透明誘電体層上に保護層を形成
する工程とを有することを特徴とする光ディスク媒体の
製造方法。 - 【請求項２】 前記記録層は、前記基板上に断熱層を形
成した後、この断熱層上に形成することを特徴とする請
求項１に記載の光ディスク媒体の製造方法。 - 【請求項３】 前記記録層は、ガーネット系磁性体から
なることを特徴とする請求項１又は２に記載の光ディス
ク媒体の製造方法。 - 【請求項４】 前記基板はカーボンからなることを特徴
とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光ディス
ク媒体の製造方法。 - 【請求項５】 前記透明誘電体層はＳｉＮ、Ｔａ2 Ｏ5
及びＳｉＯ2 からなる群から選択された１種の誘電体か
らなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項
に記載の光ディスク媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4852492A JPH05250745A (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 光ディスク媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4852492A JPH05250745A (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 光ディスク媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05250745A true JPH05250745A (ja) | 1993-09-28 |
Family
ID=12805755
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4852492A Pending JPH05250745A (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 光ディスク媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05250745A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000013178A1 (fr) * | 1998-08-28 | 2000-03-09 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Support d'enregistrement opto-magnetique, son procede de fabrication et dispositif opto-magnetique d'enregistrement et de reproduction d'informations |
| EP1091370A2 (en) * | 1999-10-04 | 2001-04-11 | Minebea Co., Ltd. | Magnetic optical member and method of producing the same |
-
1992
- 1992-03-05 JP JP4852492A patent/JPH05250745A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000013178A1 (fr) * | 1998-08-28 | 2000-03-09 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Support d'enregistrement opto-magnetique, son procede de fabrication et dispositif opto-magnetique d'enregistrement et de reproduction d'informations |
| US6759137B1 (en) | 1998-08-28 | 2004-07-06 | Centre National De La Recherche Scientifique, Inc. | Opto-magnetic recording medium with a garnet ferrite recording layer, and opto-magnetic information recording/reproducing device |
| EP1091370A2 (en) * | 1999-10-04 | 2001-04-11 | Minebea Co., Ltd. | Magnetic optical member and method of producing the same |
| EP1091370A3 (en) * | 1999-10-04 | 2004-01-28 | Minebea Co., Ltd. | Magnetic optical member and method of producing the same |
| US6743465B2 (en) | 1999-10-04 | 2004-06-01 | Minebea Co., Ltd. | Magnetic optical member with a polymer substrate |
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