JPH05238823A - ジルコニア系セラミック及びその製造方法 - Google Patents
ジルコニア系セラミック及びその製造方法Info
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- JPH05238823A JPH05238823A JP4346081A JP34608192A JPH05238823A JP H05238823 A JPH05238823 A JP H05238823A JP 4346081 A JP4346081 A JP 4346081A JP 34608192 A JP34608192 A JP 34608192A JP H05238823 A JPH05238823 A JP H05238823A
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Abstract
状へ成形できるジルコニア系セラミックとその製造方法
を提供する。 【構成】 前記セラミックは、酸化ジルコニウムと、稀
土類元素、カルシウムもしくはマグネシウムの酸化物ま
たはこれらの混合物であるドーパントとを含んで成る。
前記製造方法は、有機水溶性バインダーの存在において
酸化ジルコニウムとドーパントを含んで成る粉末を圧縮
する工程を含んで成る。
Description
摩耗性を示すドープしたジルコニア系セラミックに、ま
たその製造方法に関する。詳細には、本発明は、焼結後
の機械加工作業を行うことなく使用できる正味の形状の
セラミック工具に関する。
られており、各種形態の結晶構造を示しうる。例えば、
ジルコニア系セラミックは、立方晶相の結晶粒構造を示
すことができる。立方晶相を有する結晶の欠点は、それ
らが脆いので衝撃や熱衝撃によって容易に破壊するとい
う点である。ジルコニア系セラミックの別の形態は、立
方晶相と単斜晶相の両方を有し、そして立方晶相のセラ
ミックと比較して改善された強度と耐熱衝撃性を示す。
しかしながら、このようなタイプのジルコニア系セラミ
ックはどちらも、材料の強度及び集結性を劣化させうる
亀裂を急に発生させるので、切削工具のような用途に対
するそれらの有用性は限られている。また、所期の用途
に使用できる所望の正味の形状を有する工具を得るため
には、どちらのタイプのセラミックも焼結後に機械加工
する必要があり、製造コストを増加させてしまう。
られているが、それには一般に立方晶相及び/または単
斜晶相が様々な比率で存在している。このようなセラミ
ックは、正方晶相をもたない上記セラミックと比較し
て、改善された強度と強度の劣化に対する改善された抵
抗性とを示しうる。しかしながら、これらのセラミック
もまた、実質的に正方晶相から成るジルコニア系セラミ
ックとは違い、焼結後の機械加工作業を必要とする。米
国特許第 4,360,598号明細書は、正方晶相ジルコニア系
セラミックとそれらの改善された寸法安定性について記
載し、また実質的に立方晶相と単斜晶相を含まない正方
晶相を有するジルコニア系セラミックを開示している。
しかしながら、そのセラミックは、ドーパント添加量の
唯一の離散値における正方晶相から実質的に成り、その
セラミックの有用性やそのプロセスが限られている。
在知られているよりも幅広い範囲のドーパント添加量に
わたって正方晶相から実質的に成り、しかも正味の形状
へ成形できるジルコニア系セラミックとその製造方法を
提供することが望まれている。
の問題の一つ以上を解決することに向けられる。簡単に
まとめると、本発明の一態様によると、正方晶相の結晶
粒構造を有するジルコニア系セラミックを製造する方法
が提供される。本発明によって提供されるジルコニア系
セラミックは、酸化ジルコニウムと、稀土類元素、カル
シウムもしくはマグネシウムの酸化物またはこれらの混
合物であるドーパントとを含んで成り、そして該セラミ
ックは、該セラミックが約0.5モル%未満のマグネシ
ウム酸化物を含んで成る場合には約3:97より大きく
約5:95以下の範囲のドーパント対酸化ジルコニウム
のモル比率を示し、該セラミックは、該セラミックが約
0.5モル%から約1.0モル%以下のマグネシウム酸
化物を含んで成る場合には約0.5:99.5から約
1.0:99.0以下の範囲のドーパント対酸化ジルコ
ニウムのモル比率を示し、そして該セラミックは約1.
0モル%を超えるマグネシウム酸化物を含んで成ること
はない。
存在において酸化ジルコニウムとドーパントを含んで成
る粉末を圧縮する第一工程を含んで成る。ドーパントと
酸化ジルコニウムは粉末中で均一に分散している。該粉
末は、約0.1μm〜約0.6μmの範囲の平均結晶粒
径と、圧縮した場合の粉末の約0.2〜約1.0体積%
の含水量を示す。その圧縮圧力は約12,000 psi〜約18,0
00 psiである。正味の形状の部品を成形するため、該粉
末を十分な時間圧縮して約3.2g/cc〜約3.5g/ccの
範囲の密度を有する未処理部品を成形する。好ましいこ
のような密度は約3.35g/ccである。
0.5℃/分の昇温速度で、約200℃〜約400℃の
温度T1 まで加熱する工程(但し、T1 が約400℃で
ある場合には以下の工程(b)は行わずに続いて工程
(c)を行う); (b)未処理部品を、温度T1 から、約0.05℃/分
〜約0.2℃/分の昇温速度で、約400℃の温度T2
まで加熱する工程; (c)未処理部品を、温度T2 から、約0.2℃/分〜
約0.5℃/分の昇温速度で、約500℃〜約700℃
の温度T3 まで加熱する工程; (d)未処理部品を、温度T3 から、約1.0℃/分〜
約2.0℃/分の昇温速度で、約1400℃〜約160
0℃の温度T4 まで加熱する工程; (e)約1400℃〜約1600℃の範囲内の未処理部
品の温度T4 を、T4が約1400℃である場合には約
3時間、T4 が約1600℃である場合には約1時間、
そしてT4 がそれらの中間値を有する場合には3時間と
1時間の間の時間、維持して焼結部品を形成する工程; (f)焼結部品を、温度T4 から、約0.5℃/分〜約
3.0℃/分の冷却速度で、約900℃〜約700℃の
範囲の温度T5 まで冷却する工程;並びに (g)焼結部品を、温度T5 から、約1.5℃/分〜約
3.0℃/分の冷却速度で、ほぼ室温まで冷却してセラ
ミックを形成する工程;によって未処理部品を焼結する
第二工程を含んで成る。
粉末は、Y2O3のような上述のドーパントと混合した酸化
ジルコニウムを含んで成る。立方晶相及び単斜晶相を含
まない正方晶相の結晶粒構造から実質的に成る本発明の
セラミックを製造するためには、この粉末が特定の特性
をもたなければならない。粉末の粒径及び分布は均一で
あり、平均を約50μmとする約30μm〜約60μm
の範囲の凝集塊寸法を示さなければならない。「凝集
塊」は、セラミック粉末の個々の粒子の凝集体として定
義することができ、そして各粒子は多数の結晶粒を含ん
で成ることができる。「結晶粒」は、隣接の結晶粒とは
異なるまたはこれと整合していない立体配向を示す、粒
子内部の結晶として定義することができる。結晶粒径
は、約0.1μm〜約0.6μmの範囲にあるべきで、
好ましい結晶粒径は約0.3μmである。本明細書で用
いる、例えば正味の形状のセラミックまたは正味の形状
の部品といった用語「正味の形状」は、セラミックが焼
結後に寸法的に適合するので、その所定の作業環境での
使用前にさらに機械加工をする必要がないことを意味す
る。換言すると、焼結の際の未処理部品の収縮量が予想
可能であるということから未処理部品とセラミックの両
方の寸法が予想でき、所定の形状や寸法に適合するセラ
ミック部品が作製されるということである。精密で予想
可能な寸法許容差を得て、本発明の正味の形状のセラミ
ックを作製するためには、圧縮粉末成形体のいずれの軸
に沿った収縮量も、正味の形状のセラミックのそれに対
して約0.001%未満のオーダーでなければならない。そう
すると、このような部品は、機械加工作業を行うことな
く所期の用途に使用することができる。材料の純度も、
約99.9重量%〜99.99重量%の範囲内に十分に
制御しなければならない。すなわち、不純物の存在量
は、約0.1〜約0.01重量%以下でなければならな
い。
〜約1.0体積%の範囲に維持すべきである。乾燥しす
ぎると、粉末が多孔質すぎるセラミックとなり、また水
分濃度が高すぎると、未処理部品の金型面からの良好な
離型を妨げることになりかねない。好ましい含水量は約
0.5%である。
理部品へ圧縮される。本明細書で用いる用語「未処理部
品」は、圧縮済の焼結前の状態にある粉末を意味する。
均一密度を示す未処理部品を作製するためには、粉末に
均一な圧縮力を加えて粉末を圧縮しなければならない。
均一な圧縮力を実現する好ましい圧縮装置は、浮動式金
型ダイプレスである。未処理部品は、焼結後に正味の形
状のセラミック製品を作製するように作業員が選定した
所定の密度をもたなければならない。例えば、本明細書
に記載する特別な粉末組成物の場合、好ましい未処理部
品の密度は、約3.2g/cc〜約3.5g/ccの範囲にあ
る。圧縮圧力が、未処理部品の密度を、ひいてはセラミ
ックの密度を決める。圧縮圧力が低すぎると、セラミッ
クの密度が所望の密度よりも低くなり、所望の正味の形
状が得られないことがある。圧縮圧力が高すぎると、未
処理部品が離層し、所期の用途、例えば切削用途にとっ
て不完全なセラミックとなりうる。本発明の粉末に対す
る圧縮圧力は約12,000 psi〜約18,000 psiの範囲にある
べきで、好ましい圧縮圧力は約15,000 psiである。
作業員が簡単に決めることができる。例えば、圧縮時間
は、約12,000 psi〜約18,000 psiの範囲の圧縮圧力につ
いてはそれぞれ約60秒〜10秒の範囲にあることができ、
また約15,000 psiの圧縮圧力については約30秒である。
本発明による正味の形状のセラミックを作製するため、
選定した粉末についての所定の密度、例えば上記の約
3.2g/cc〜約3.5g/cc、を示す未処理部品を形成す
るのに十分な時間粉末を圧縮する。作業員によって選定
される圧縮圧力及び圧縮時間が、最終部品の寸法に依存
しうることはよく知られている。一般に、部品の寸法が
大きくなるにつれて、圧縮圧力及び/または圧縮時間は
増加する。
リビニルアルコール、ゼラチンまたはポリエステルイオ
ノマーの存在において圧縮する。バインダーを粉末に加
えて、例えばスプレー乾燥やボールミル粉砕によって混
合してから、その粉末を圧縮装置に配置することができ
る。
のセラミックを作製する。好ましい焼結スケジュール
は、順に: (a)未処理部品を、ほぼ室温から、約0.3℃/分の
速度で約300℃まで加熱する工程; (b)未処理部品を、約300℃から、約0.1℃/分
の速度で約400℃まで加熱する工程; (c)未処理部品を、約400℃から、約0.4℃/分
の速度で約600℃まで加熱する工程; (d)未処理部品を、約600℃から、約1.5℃/分
の速度で約1500℃まで加熱する工程; (e)未処理部品を、約1500℃で約120分間保持
して、焼結部品を形成する工程; (f)焼結部品を、約1500℃から、約2℃/分の速
度で約800℃まで冷却する工程;及び (g)焼結部品を、約800℃から、約1.6℃/分の
速度でほぼ室温まで冷却し、よってセラミックを形成す
る工程;によって未処理部品を焼結することである。
セラミックへの高密度化に影響を与えるので、セラミッ
クにおいて望ましくない寸法変化や亀裂の発生を避ける
ために本発明の上記範囲内に維持されることが必要であ
る。本発明の方法によって、セラミックを所望の正味の
形状の製品から逸脱させかねない収縮が最小限に抑えら
れるので、本発明の焼結スケジュールからの逸脱は、正
味の形状にない製品を生み出しかねない。焼結工程
(e)における温度範囲またはT4 からの逸脱は、セラ
ミック製品の密度及び結晶構造に重大な悪影響を及ぼし
かねない。工程(e)の温度またはT4 を1400℃未
満に維持した場合には、セラミックの密度が望ましくな
いほどに低くなり且つ望ましくない単斜晶相を示しう
り、さらに正味の形状にないセラミックを生じかねな
い。該温度を1600℃よりも高く維持した場合には、
結晶粒径が望ましくないほどに大きくなり且つ望ましく
ない立方晶相を示しうり、さらに正味の形状にないセラ
ミックを生じかねない。しかしながら、上記範囲外への
わずかな変動が、セラミックの正方晶相組成に重大な悪
影響を与えることはないであろう。工程(e)の温度を
保持する時間は、約1400℃の温度では約3時間、そ
して約1600℃の温度では約1時間でなければならな
い。温度と時間は指数関数的な相互関係にあり、T4 が
約1400℃〜約1600℃の間の値を有する場合に
は、その焼結時間は、不要な実験を行うことなく作業員
によって容易に決められて、本発明のセラミックを成形
することができる。
ならないので、空気、酸素富化空気、等を含んで成るこ
とができる。
成形するのに有用なダイプレス10を例示する。ダイプ
レス10は、支持体16に取り付けられている固定プラ
ットフォーム12と可動プラットフォーム14を含んで
成る。可動プラットフォーム14は、液圧手段(図示な
し)によって駆動され、また金型及びダイ集成体18を
支持している。図2は、ロッド24にスライド式に取り
付けられているプレート20及び22を含んで成る集成
体18をさらに例示する。ダイセット26及び28が、
それぞれプレート20及び22に取り付けられている。
中央定盤30は、スペーサープレート32によってプレ
ート22に取り付けられており、そしてダイセット26
及び28と共にそれらの間にキャビティ34を画定して
いる。未処理部品は以下のようにして成形される。上述
のようにバインダーを混合した特定量のドープ済ジルコ
ニア系セラミック粉末を、キャビティ34の中に入れ
る。次いで、上記範囲内の液圧でプレート20をプラッ
トフォーム12に接触させるようにプラットフォーム1
4を図1にある矢印方向に移動させて、プレート22を
プレート20に押し付け、よって粉末を圧縮して未処理
部品を成形する。プレート20及び22はそれぞれロッ
ド24上で自由に移動するので、粉末に働く圧縮力は実
質的に均一であり、その結果均一な密度を有する未処理
部品が得られる。
に例示した本発明による正味の形状のセラミックパンチ
36を成形する。パンチ36は、取付けシャンク42に
取り付けられた刃先40を有するセラミックパーホレー
タ38を含んで成る。パンチ36は、複数のパンチ36
を取り付けることができる回転パンチまたは往復パンチ
のような、典型的ないずれのパンチ集成体にもシャンク
42によって取り付けることができる。パンチ36は、
写真フィルム、プラスチック、紙及び繊維の孔あけ用と
いった各種の用途に使用することができる。
用できる正味の形状のセラミックを作製するためには、
金型及びダイ集成体18が寸法的な精密許容差を有する
ことが必要である。例えば、それぞれのダイセット26
及び28の圧縮面44及び46は、平行からの最大設計
偏差、例えば±0.00005 インチを有する平行であること
ができる。中央定盤30の圧縮面48及び50は、面4
4及び46に垂直であり、そして垂直からの最大設計偏
差、例えば±0.00005 インチを有することができる。上
記の寸法的な精密許容差と収縮制御によって、本発明に
よる正味の形状のセラミックを作製することができる。
たらす所望の寸法の未処理部品を作製するには、充填比
を確立しなければならない。「充填比」は、プラットフ
ォーム14が初期の最下位にあるときのプラットフォー
ム14の移動軸に沿ったキャビティ34の高さと、キャ
ビティ34内の粉末の圧縮軸に沿ったキャビティ34内
で成形された未処理部品の高さとの比率である。換言す
ると、このような未処理部品の高さは、最終圧縮位置に
おける金型とダイ集成体18の圧縮面44及び46の間
の距離にも等しい。好ましい充填比は約3.0である。
する。
5:95のモル%比で含んで成るセラミック粉末0.3
グラムを調製した。その粉末は、平均が約50μmの3
0μm〜60μmの凝集塊寸法と、平均が約0.3μm
の0.1μm〜0.6μmの結晶粒径と、0.5体積%
の含水量とを示した。未処理部品の4体積%の量のポリ
ビニルアルコールをバインダーとして添加して、ボール
ミル粉砕によって十分に混合した。その粉末を、図1及
び図2に例示したタイプのダイプレスにおいて、充填比
約3.0及び圧縮圧力15,000 psiにて30秒間圧縮して未
処理部品を成形した。その未処理部品を、順に、未処理
部品を室温から0.3℃/分の速度で300℃まで加熱
し;未処理部品を300℃から0.1℃/分の速度で4
00℃まで加熱し;未処理部品を400℃から0.4℃
/分の速度で600℃まで加熱し;未処理部品を600
℃から1.5℃/分の速度で1500℃まで加熱し;未
処理部品を1500℃で120分間保持し;未処理部品
を1500℃から2℃/分の速度で800℃まで冷却
し;そして未処理部品を800℃から約1.6℃/分の
速度で室温まで冷却することによって焼結した。このよ
うに成形された正味の形状のセラミックが示した、未処
理部品からセラミックへの寸法収縮は、0.001%未満であ
った。
形状のセラミックのX線回折試験を行い、その結果を図
4に示した。実線は、実際に得られたX線回折曲線を示
し、そして破線は比較用に理論単斜晶ピーク値を示して
いる。29.9度における回折ピークの存在は正方晶相の存
在を示し、一方、28度における回折ピークの不在は単斜
晶相の不在を示している。50度における正方晶ピークの
分離は、立方晶相の不在を示し、そしてそのピークが唯
一正方晶相によることを例示している。
と酸化ジルコニウムをそれぞれ4:96のモル%比で含
んで成るセラミック粉末を使用した。その結果を図5に
示したが、実施例1にあるように、正方晶相のみの存在
を示している。
酸化ジルコニウム系セラミックの相図である。図6にお
いて、Tet.ssは正方晶固体状態、Mon.は単斜晶、そして
C ssは立方晶固体状態を示している。図7において、 T
ssは正方晶固体状態、 Cssは立方晶固体状態、そして M
ssは単斜晶固体状態を示している。図8において、 Tss
+ Fssは正方晶及び立方晶、そして Mss + Fssは単斜晶
及び立方晶を示している。実施例1及び2におけるY2O3
ドーパントを使用した試験に基づき、 CaOドーパントに
ついての相図(図7)とY2O3についてのそれとを比較す
ると、ドーパントとしてCaO をY2O3と同じ比率で使用し
て正方晶相のみを有する酸化ジルコニウム系セラミック
を作製できることが明白である。しかしながら、MgO に
ついての相図(図6)とY2O3についてのそれとを比較す
ると、正方晶相のみを有する正味の形状のセラミックを
作製するためには、MgO が、酸化ジルコニウムとのモル
比0.5:99.5〜1.0:99.0においてドーパントとして有用で
あることが示される。
ニア系セラミックは、特定範囲のドーパント濃度におい
て正方晶相の結晶粒から実質的に成る。本発明は、幅広
い範囲のドーパント添加量にわたって正方晶相から実質
的に成る、改善された強度、摩耗及び有効寿命を示す正
味の形状のジルコニア系セラミックを提供することによ
って、従来技術の欠点を解決し、また切削工具のような
用途において有用である。
参照して詳細に説明したが、本発明の範囲及び精神に包
含される変型や改質を行えることを理解されたい。
る。
拡大概略図である。
線を示すグラフである。
線を示すグラフである。
ラミックの相図である。
ミックの相図である。
ラミックの相図である。
Claims (16)
- 【請求項1】 正方晶相の結晶粒構造を有するジルコニ
ア系セラミックの製造方法において、前記セラミック
は、酸化ジルコニウムと、稀土類元素、カルシウムもし
くはマグネシウムの酸化物またはこれらの混合物である
ドーパントとを含んで成り、前記セラミックは、前記セ
ラミックが約0.5モル%未満のマグネシウム酸化物を
含んで成る場合には約3:97より大きく約5:95以
下の範囲のドーパント対酸化ジルコニウムのモル比率を
示し、前記セラミックは、前記セラミックが約0.5モ
ル%から約1.0モル%以下のマグネシウム酸化物を含
んで成る場合には約0.5:99.5から約1.0:9
9.0以下の範囲のドーパント対酸化ジルコニウムのモ
ル比率を示し、前記セラミックは約1.0モル%を超え
るマグネシウム酸化物を含んで成ることはなく、前記方
法は、有機水溶性バインダーの存在において酸化ジルコ
ニウムとドーパントを含んで成る粉末を圧縮する工程を
含んで成り、前記粉末は、約0.1μm〜約0.6μm
の範囲の平均結晶粒径と、約12,000 psi〜約18,000 psi
の圧縮圧力で、所定の密度へ前記粉末を圧縮することに
よって未処理部品を成形するのに十分な時間圧縮した場
合に、粉末の約0.2〜約1.0体積%の含水量とを示
し、前記方法は、順に: (a)未処理部品を、室温から、約0.1℃/分〜約
0.5℃/分の昇温速度で、約200℃〜約400℃の
範囲の温度T1 まで加熱する工程(但し、T1 が約40
0℃である場合には以下の工程(b)は行わずに続いて
工程(c)を行う); (b)未処理部品を、温度T1 から、約0.05℃/分
〜約0.2℃/分の昇温速度で、約400℃の温度T2
まで加熱する工程; (c)未処理部品を、温度T2 から、約0.2℃/分〜
約0.5℃/分の昇温速度で、約500℃〜約700℃
の範囲の温度T3 まで加熱する工程; (d)未処理部品を、温度T3 から、約1.0℃/分〜
約2.0℃/分の昇温速度で、約1400℃〜約160
0℃の範囲の温度T4 まで加熱する工程; (e)未処理部品を、約1400℃〜約1600℃の範
囲内の温度T4 で、T 4 が約1400℃である場合には
約3時間、T4 が約1600℃である場合には約1時
間、そしてT4 がそれらの中間値を有する場合には3時
間と1時間の間の時間、維持して焼結部品を成形する工
程; (f)焼結部品を、温度T4 から、約0.5℃/分〜約
3.0℃/分の冷却速度で、約900℃〜約700℃の
範囲の温度T5 まで冷却する工程;並びに (g)焼結部品を、温度T5 から、約1.5℃/分〜約
3.0℃/分の冷却速度で、ほぼ室温まで冷却して前記
セラミックを形成する工程;によって未処理部品を焼結
する工程を含んで成る、ジルコニア系セラミックの製造
方法。 - 【請求項2】 前記ドーパントがY2O3である、請求項1
記載の方法 - 【請求項3】 前記粉末の平均結晶粒径が約0.3μm
である、請求項1記載の方法。 - 【請求項4】 前記バインダーがポリビニルアルコール
である、請求項1記載の方法。 - 【請求項5】 前記粉末が、前記粉末の約0.1〜0.
01重量%を超えない量で存在する不純物を有する、請
求項1記載の方法。 - 【請求項6】 前記ドーパント対酸化ジルコニウムのモ
ル比が約4:96〜約5:95の範囲にある、請求項1
記載の方法。 - 【請求項7】 前記未処理部品の密度が約3.2g/cc〜
約3.5g/ccの範囲にあり、そして前記セラミックが正
味の形状である、請求項1記載の方法。 - 【請求項8】 充填比が約3:1である、請求項1記載
の方法。 - 【請求項9】 酸化ジルコニウムと、稀土類元素、カル
シウムもしくはマグネシウムの酸化物またはこれらの混
合物であるドーパントとから実質的に成るジルコニア系
セラミックにおいて、前記セラミックは、前記セラミッ
クが約0.5モル%未満のマグネシウム酸化物を含んで
成る場合には約3:97より大きく約5:95以下の範
囲のドーパント対酸化ジルコニウムのモル比率を示し、
前記セラミックは、前記セラミックが約0.5モル%か
ら約1.0モル%以下のマグネシウム酸化物を含んで成
る場合には約0.5:99.5から約1.0:99.0
以下の範囲のドーパント対酸化ジルコニウムのモル比率
を示し、前記セラミックは、約1.0モル%を超えるマ
グネシウム酸化物を含んで成ることはなく、そして前記
セラミックは正方晶相の結晶粒から実質的に成る、ジル
コニア系セラミック。 - 【請求項10】 不必要な成分が、前記セラミックの約
0.1〜0.01重量%を超えない量で存在している、
請求項9記載のセラミック。 - 【請求項11】 前記ドーパント対酸化ジルコニウムの
モル比が約4:96〜約5:95の範囲にある、請求項
9記載のセラミック。 - 【請求項12】 前記ドーパントがY2O3である、請求項
11記載のセラミック。 - 【請求項13】 酸化ジルコニウムと、稀土類元素、カ
ルシウムもしくはマグネシウムの酸化物またはこれらの
混合物であるドーパントとから実質的に成る正味の形状
のジルコニア系セラミックを含んで成るセラミック切削
工具において、前記セラミックは、前記セラミックが約
0.5モル%未満のマグネシウム酸化物を含んで成る場
合には約3:97より大きく約5:95以下の範囲のド
ーパント対酸化ジルコニウムのモル比率を示し、前記セ
ラミックは、前記セラミックが約0.5モル%から約
1.0モル%以下のマグネシウム酸化物を含んで成る場
合には約0.5:99.5から約1.0:99.0以下
の範囲のドーパント対酸化ジルコニウムのモル比率を示
し、前記セラミックは、約1.0モル%を超えるマグネ
シウム酸化物を含んで成ることはなく、そして前記セラ
ミックは正方晶相の結晶粒から実質的に成る、セラミッ
ク切削工具。 - 【請求項14】 不必要な成分が、前記セラミックの約
0.1〜0.01重量%を超えない量で存在している、
請求項13記載のセラミック切削工具。 - 【請求項15】 前記ドーパント対酸化ジルコニウムの
モル比が約4:96〜約5:95の範囲にある、請求項
13記載のセラミック切削工具。 - 【請求項16】 前記ドーパントがY2O3である、請求項
15記載のセラミック切削工具。
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