JPH05234504A - シャドウマスクの洗浄装置及び洗浄方法 - Google Patents

シャドウマスクの洗浄装置及び洗浄方法

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JPH05234504A
JPH05234504A JP3756492A JP3756492A JPH05234504A JP H05234504 A JPH05234504 A JP H05234504A JP 3756492 A JP3756492 A JP 3756492A JP 3756492 A JP3756492 A JP 3756492A JP H05234504 A JPH05234504 A JP H05234504A
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JP
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pure water
shadow mask
hot
warm
cleaning
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Application number
JP3756492A
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English (en)
Inventor
Kiichi Ogawa
喜一 小川
Shigeo Ito
繁雄 伊藤
Katsuhisa Narita
勝壽 成田
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Hitachi Ltd
Hitachi Chiba Electronics Ltd
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Hitachi Ltd
Hitachi Chiba Electronics Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 品位を低下させることなくシャドウマスクに
付着したゲッタ膜を完全に除去する。 【構成】 シャドウマスク1に温純水をシャワーする予
備温純水シャワー手段20と、シャドウマスク1を温純
水に浸漬させる温純水ディップ槽22と、シャドウマス
ク1に温純水をシャワーする仕上げ温純水シャワー手段
25と、予備温純水シャワー手段20、温純水ディップ
槽22、仕上げ温純水シャワー手段25にシャドウマス
ク1を順次搬送する搬送コンベア2とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はカラーブラウン管用シャ
ドウマスクの洗浄装置及び洗浄方法に係り、特にシャド
ウマスクに付着したゲッタ膜を除去するに好適な洗浄装
置及び洗浄方法に関する。
【0002】
【従来の技術】カラーブラウン管は、その構成する部材
の材料費が高価である。そこで、一般に、カラーブラウ
ン管の各製造過程において種々のトラブルが発生し、不
良球が発生した場合には、カラーブラウン管全部を破棄
するのは不経済であるので、主要構成部品であるパネ
ル、ファンネル、シャドウマスクを分離して回収し、再
生することが行われている。
【0003】カラーブラウン管は、真空度を向上させる
ために、排気後ゲッタフラッシュを実施しているので、
その後に不良が発生した場合には、カラーブラウン管の
ネック部を真空リークした後、パネル部とファンネル部
とを結合するフリットガラスを約10%硝酸液にて一部
溶解し、温冷水によるヒートサイクルをかけてパネル部
とファンネル部とを分離する。そして、内蔵されたシャ
ドウマスクを取り出し、パネル部とファンネル部の残余
のフリットガラスを除去すると共に、内面の蛍光膜等を
除去し、ファンネル部は新しいネック部を封着し直して
再生を終了する。
【0004】他方、シャドウマスクは、2次電子放射低
減のため、黒化膜を形成させてあるが、この表面にゲッ
タ膜が付着していると、不良のカラーブラウン管を分離
した後で大気に触れたまま数時間放置した場合、ゲッタ
膜が大気中の水分と反応し黒化膜を剥がしてしまい、再
生したシャドウマスクを使用したカラーブラウン管の品
位を低下させる。このため、ゲッタ膜付きシャドウマス
クは、分離して取り出した後、数時間の内にゲッタ膜の
み除去するための洗浄を行う必要がある。
【0005】図2は従来のゲッタ膜付きシャドウマスク
の連続式洗浄装置を示す。ゲッタ膜付きシャドウマスク
1は、搬送コンベア2に取り付けられたハンガ3に吊り
下げられて搬送され、洗浄槽4内の温純水に浸水させて
洗浄される。洗浄槽4には、搬送コンベア2の搬送方向
と逆方向側に設けた温純水入口5より温純水が供給さ
れ、搬送コンベア2の搬送側の温純水出口6より温純水
がオーバーフローされる。また洗浄槽4内には、洗浄効
果を高めるために超音波振動子7が配設されている。な
お、シャドウマスクを洗浄槽に浸漬させる洗浄装置とし
て関連するものには、例えば特開昭63−310537
号公報、特開平1−236981号公報等が挙げられ
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、ゲッ
タ膜の付着した複数枚のシャドウマスク1を洗浄槽4に
通して洗浄を行っている。ゲッタ膜付きシャドウマスク
1は、洗浄槽4に入れると大量にゲッタ膜の剥離異物が
生じることがある。しかるに、従来の洗浄装置は、洗浄
槽4内の汚れた水をオーバーフローのみで処理している
ので、洗浄槽4内の異物の除去が不完全であり、また洗
浄水は再使用していない。
【0007】ところで、ゲッタ膜等がシャドウマスクに
再付着すると、シャドウマスク孔に詰まりが発生する。
このようなシャドウマスクを再使用すると、部分的に電
子が通過しなく、蛍光体がその部分発光しない不良、い
わゆるマスク詰まり不良となる。またマスク詰まり不良
にならなかった場合でも、製品になってからゲッタ膜が
電子銃の方に移動してスパーク等の耐電圧特性を著しく
劣化させ、カラーブラウン管の機能を出すことができな
い。従って、再使用するシャドウマスクでも、異物の付
着は極力軽減させなければならない。また温純水は高価
なものであり、使用の低減が必要であり、回収して使用
できるようにすることも重要な課題である。
【0008】また従来の洗浄装置は、新しく製作したシ
ャドウマスクに対するものである。このため、洗浄槽4
内には、洗浄効果を高めるために超音波振動子7を設け
ている。このような洗浄装置で再生のゲッタ膜付きシャ
ドウマスク1も洗浄を行っている。このため、超音波振
動子7の洗浄によってシャドウマスク1表面に形成され
ている黒化膜を除去してしまうという問題があった。
【0009】本発明の第1の目的は、品位を低下させる
ことなくシャドウマスクに付着したゲッタ膜を完全に除
去することが可能なシャドウマスクの洗浄装置及び洗浄
方法を提供することにある。
【0010】本発明の第2の目的は、温純水の再利用が
図れるシャドウマスクの洗浄装置及び洗浄方法を提供す
ることにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記第1の目的を達成す
るために、シャドウマスクに温純水をシャワーする予備
温純水シャワー手段と、この予備温純水シャワー手段の
次のポジションに配設され、シャドウマスクを温純水に
浸漬させる温純水ディップ槽と、この温純水ディップ槽
の次のポジションに配設され、シャドウマスクに温純水
をシャワーする仕上げ温純水シャワー手段と、前記予備
温純水シャワー手段、温純水ディップ槽、仕上げ温純水
シャワー手段にシャドウマスクを順次搬送する搬送コン
ベアとを備えたことを特徴とする。
【0012】また上記第1の目的を達成するために、シ
ャドウマスクに温純水でシャワーする予備温純水シャワ
ー洗浄工程と、次にシャドウマスクを温純水ディップ槽
内の温純水に浸漬させる温純水ディップ洗浄工程と、そ
の後シャドウマスクを温純水でシャワーする仕上げ温純
水シャワー洗浄工程とからなることを特徴とする。
【0013】上記第2の目的を達成するために、前記温
純水ディップ槽は、該温純水ディップ槽の温純水を取込
み、該温純水に含まれた異物を除去して再び温純水ディ
ップ槽に投入する電気清浄機を具備してなることを特徴
とする。
【0014】
【作用】シャドウマスクは、予備温純水シャワー手段で
極めて大きな剥がれ易いゲッタ膜が除去される。次に温
純水ディップ槽で温純水に浸水してゲッタ膜のみ膨潤さ
せて除去される。その後、仕上げ温純水シャワー手段で
微少異物が除去される。これにより、再生されたシャド
ウマスクは、ゲッタ膜が完全に除去される。また温純水
ディップ槽に設けた電気清浄機により、温純水ディップ
槽内の浮遊物がイオン化凝集されてフイルタで除去さ
れ、温純水を回収再利用させる。
【0015】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1により説明す
る。ゲッタ膜付きシャドウマスク1は、搬送コンベア2
のハンガ3に吊り下げられて搬送される。ここで、ハン
ガ3は、後記する第2ポジション12では図示しない駆
動手段で上下動させられるようになっている。搬送コン
ベア2のラインには、4つのポジション11乃至14に
洗浄装置10が配設されている。
【0016】第1ポジション11は予備温純水シャワー
洗浄工程で、温純水をシャドウマスク1に吹き付ける予
備温純水シャワー手段20が配設されている。予備温純
水シャワー手段20は、図示しない駆動手段で上下動さ
せられ、また予備温純水シャワー手段20の下方には、
排水樋21が設けられている。第2ポジション12は温
純水ディップ洗浄工程で、温純水ディップ槽22が配設
されている。温純水ディップ槽22には、温純水送り込
み槽23より温純水が送り込まれ、また温純水ディップ
槽22内の温純水は、電気清浄機24に送り込まれる。
電気清浄機24は、異物をイオン化し結合させて大きな
異物とし、この異物をフイルタで除去し、処理後の温純
水を再投入できるレベルにして温純水ディップ槽22に
送り込んでいる。第3ポジション13は仕上げ温純水シ
ャワー洗浄工程で、前記第1ポジション11と同様に、
温純水をシャドウマスク1に吹き付ける仕上げ温純水シ
ャワー手段25が配設されている。仕上げ温純水シャワ
ー手段25は、図示しない駆動手段で上下動させられ、
また仕上げ温純水シャワー手段25の下方には、落下し
た温純水が前記温純水ディップ槽22に流れ込むように
傾斜した樋26が設けられている。第4ポジション14
は温エアブロー工程で、シャドウマスク1に温エアを吹
き付けるエアノズル27が配設されている。エアノズル
27は、図示しない駆動手段で上下動させられ、またエ
アノズル27の下方には、排水樋28が設けられてい
る。
【0017】次に作用について説明する。ハンガ3に吊
り下げられたシャドウマスク1は、搬送コンベア2によ
って間欠的に送られ、各ポジション11乃至14で洗浄
及び水切りが行われる。まず、第1ポジション11の予
備温純水シャワー洗浄工程では、予備温純水シャワー手
段20が上方より下方に移動しながら吹き出す80℃の
温純水でシャドウマスク1の全面が12秒間洗浄され
る。これにより、約80%のゲッタ膜が除去される。次
に第1ポジション11の予備温純水シャワー洗浄工程で
洗浄されたシャドウマスク1は、第2ポジション12の
温純水ディップ洗浄工程でハンガ3が下降されて80℃
の温純水の温純水ディップ槽22に20秒間浸漬され、
膨潤したゲッタ膜は除去される。これにより、温純水デ
ィップ槽22内には多数のゲッタ膜が浮遊するが、これ
は電気清浄機24に送り込まれる。電気清浄機24は、
送り込まれた異物をイオン化し結合させて大きな異物と
する。そして、この大きな異物をフイルタで除去し、処
理後の温純水を再投入できるレベルにして温純水ディッ
プ槽22に投入して温純水を再利用する。
【0018】次に第3ポジション13の仕上げ温純水シ
ャワー洗浄工程で、仕上げ温純水シャワー手段25が上
方より下方に移動しながら吹き出す80℃の温純水でシ
ャドウマスク1の全面が10秒間仕上げシャワー洗浄さ
れる。これにより、シャドウマスク1に付着しているゲ
ッタ膜は完全に除去される。次に第4ポジション14の
温エアブロー工程で、シャドウマスク1はエアノズル2
7が上方より下方に移動しながら吹き出す温エアブロー
で約70%の水滴が除去される。最後に、図示しない乾
燥機に入れられ150℃で乾燥される。
【0019】このように、シャドウマスク1は、予備温
純水シャワー手段20で極めて大きな剥がれ易いゲッタ
膜が除去され、温純水ディップ槽22で温純水に浸水し
てゲッタ膜のみ膨潤させて除去され、仕上げ温純水シャ
ワー手段25で微少異物が除去され、エアノズル27の
温エアブローでシャドウマスク1に付着した水滴が散ら
される。また電気清浄機24により、温純水ディップ槽
22内の浮遊物がイオン化凝集されてフイルタで除去さ
れ、温純水は回収再利用させる。これにより、再生され
たシャドウマスク1は、ゲッタ膜が完全に除去されてお
り、この再生シャドウマスク1は通常のカラーブラウン
管の製造過程を通しても製品として特性上問題のないこ
とが確認された。即ち、完成球でのマスク詰まり及び耐
電圧不良が減少し、シャドウマスクの再生利用率は従来
70%であったものが90%に向上した。
【0020】ところで、本実施例に示す洗浄装置10
は、通常の新規のシャドウマスクの洗浄にも適用でき
る。この場合、ゲッタ膜付きシャドウマスクの洗浄は、
新規のシャドウマスクの洗浄を行う工程内ラインから分
離して設置した洗浄装置で行うのが好ましい。というの
は、新規製品の工程ラインに再生工程で分離されたシャ
ドウマスクを投入すると、その間に8〜10時間の長時
間を要し、シャドウマスクの黒化膜剥がれ等が発生して
好ましくない。
【0021】
【発明の効果】本発明によれば、シャドウマスクを温純
水でシャワーし、次にシャドウマスクを温純水ディップ
槽内の温純水に浸漬させ、その後シャドウマスクを温純
水で仕上げシャワーするので、品位を低下させることな
くシャドウマスクに付着したゲッタ膜を完全に除去する
ことができる。また温純水ディップ槽は、該温純水ディ
ップ槽の温純水を取込み、該温純水に含まれた異物を除
去して再び温純水ディップ槽に投入する電気清浄機を具
備してなるので、温純水の再利用が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す概略構成説明図であ
る。
【図2】従来例の概略構成説明図である。
【符号の説明】
1 シャドウマスク 2 搬送コンベア 10 洗浄装置 11〜14 ポジション 20 予備温純水シャワー手段 22 温純水ディップ槽 24 電気清浄機 25 仕上げ温純水シャワー手段
フロントページの続き (72)発明者 成田 勝壽 千葉県茂原市早野3300番地 日立千葉エレ クトロニクス株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 シャドウマスクに温純水をシャワーする
    予備温純水シャワー手段と、この予備温純水シャワー手
    段の次のポジションに配設され、シャドウマスクを温純
    水に浸漬させる温純水ディップ槽と、この温純水ディッ
    プ槽の次のポジションに配設され、シャドウマスクに温
    純水をシャワーする仕上げ温純水シャワー手段と、前記
    予備温純水シャワー手段、温純水ディップ槽、仕上げ温
    純水シャワー手段にシャドウマスクを順次搬送する搬送
    コンベアとを備えたことを特徴とするシャドウマスクの
    洗浄装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記温純水ディップ
    槽は、該温純水ディップ槽の温純水を取込み、該温純水
    に含まれた異物を除去して再び温純水ディップ槽に投入
    する電気清浄機を具備してなることを特徴とするシャド
    ウマスクの洗浄装置。
  3. 【請求項3】 シャドウマスクに温純水でシャワーする
    予備温純水シャワー洗浄工程と、次にシャドウマスクを
    温純水ディップ槽内の温純水に浸漬させる温純水ディッ
    プ洗浄工程と、その後シャドウマスクを温純水でシャワ
    ーする仕上げ温純水シャワー洗浄工程とからなることを
    特徴とするシャドウマスクの洗浄方法。
  4. 【請求項4】 請求項3において、前記温純水ディップ
    槽の温純水は、電気清浄機で異物が除去されて再投入さ
    れることを特徴とするシャドウマスクの洗浄方法。
JP3756492A 1992-02-25 1992-02-25 シャドウマスクの洗浄装置及び洗浄方法 Pending JPH05234504A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101386317B1 (ko) * 2007-09-03 2014-04-18 엘지디스플레이 주식회사 마스크 세정 장치 및 마스크를 세정하는 방법
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