JPH05214232A - 改質ブロックコポリマーによるポリカーボネートの低温強化 - Google Patents
改質ブロックコポリマーによるポリカーボネートの低温強化Info
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- JPH05214232A JPH05214232A JP4294331A JP29433192A JPH05214232A JP H05214232 A JPH05214232 A JP H05214232A JP 4294331 A JP4294331 A JP 4294331A JP 29433192 A JP29433192 A JP 29433192A JP H05214232 A JPH05214232 A JP H05214232A
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- Japan
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- polycarbonate
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L69/00—Compositions of polycarbonates; Compositions of derivatives of polycarbonates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】改質ブロックコポリマー2〜10重量部とポリカ
ーボネート90〜98重量部とをブレンドすることにより強
化ポリカーボネート組成物を得る。改質ブロックコポリ
マーは少なくとも1種の水素化共役ジエンブロックと、
少なくとも1種のビニル芳香族ブロックとを有し、且つ
ヒドロキシエチルアクリレートの有効量でフリーラジカ
ル的にグラフトされている。 【効果】改質ブロックコポリマーをポリカーボネートに
ブレンドすることにより低温衝撃強度が改良される。
ーボネート90〜98重量部とをブレンドすることにより強
化ポリカーボネート組成物を得る。改質ブロックコポリ
マーは少なくとも1種の水素化共役ジエンブロックと、
少なくとも1種のビニル芳香族ブロックとを有し、且つ
ヒドロキシエチルアクリレートの有効量でフリーラジカ
ル的にグラフトされている。 【効果】改質ブロックコポリマーをポリカーボネートに
ブレンドすることにより低温衝撃強度が改良される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリカーボネートと官
能基化エラストマーとのブレンドに関する。
能基化エラストマーとのブレンドに関する。
【0002】
【従来の技術】ポリカーボネートは、優秀な機械特性を
有するが、低温で比較的脆い。米国特許第4,628,072号
は、ポリカーボネートの衝撃改質剤としてスチレン及び
共役ジエンの改質水素化ブロックコポリマーの使用につ
いて開示している。ブロックコポリマーは、種々の酸基
または酸基の誘導体で改質し得る。ブロックコポリマー
に酸または誘導体官能基を含有させることは、通常、ポ
リカーボネートに優れた塗料付着性(paint adhesion)
を付与するためには必須であると考えられる。
有するが、低温で比較的脆い。米国特許第4,628,072号
は、ポリカーボネートの衝撃改質剤としてスチレン及び
共役ジエンの改質水素化ブロックコポリマーの使用につ
いて開示している。ブロックコポリマーは、種々の酸基
または酸基の誘導体で改質し得る。ブロックコポリマー
に酸または誘導体官能基を含有させることは、通常、ポ
リカーボネートに優れた塗料付着性(paint adhesion)
を付与するためには必須であると考えられる。
【0003】米国特許第4,578,429号は、ヒドロキシ置
換アクリレート(例えば、ヒドロキシエチルアクリレー
ト)を含む種々の酸基または誘導体でグラフトし得る改
質ブロックコポリマーについて記載している。
換アクリレート(例えば、ヒドロキシエチルアクリレー
ト)を含む種々の酸基または誘導体でグラフトし得る改
質ブロックコポリマーについて記載している。
【0004】驚くべきことに、ポリカーボネートの低温
衝撃特性は、他の酸基または誘導体と比較してヒドロキ
シエチルアクリレートでグラフトした特定のブロックコ
ポリマーを添加することにより予想外に高まることが知
見された。本発明の強化ポリカーボネート組成物は、少
なくとも1種の水素化共役ジエンブロックと少なくとも
1種のビニル芳香族ブロックとからなり、ヒドロキシエ
チルアクリレート0.3〜10.0重量%でグラフトされている
改質ブロックコポリマー2〜10重量部と、ポリカーボネ
ート90〜98重量部とからなる。ポリカーボネート組成物
は、−40℃(−40°F)でASTM-D256により測定される1/
8”ノッチ付きアイゾット衝撃強度が2.13J/cm(4.0 ft-
lb/in)以上を有するという結果が得られる。
衝撃特性は、他の酸基または誘導体と比較してヒドロキ
シエチルアクリレートでグラフトした特定のブロックコ
ポリマーを添加することにより予想外に高まることが知
見された。本発明の強化ポリカーボネート組成物は、少
なくとも1種の水素化共役ジエンブロックと少なくとも
1種のビニル芳香族ブロックとからなり、ヒドロキシエ
チルアクリレート0.3〜10.0重量%でグラフトされている
改質ブロックコポリマー2〜10重量部と、ポリカーボネ
ート90〜98重量部とからなる。ポリカーボネート組成物
は、−40℃(−40°F)でASTM-D256により測定される1/
8”ノッチ付きアイゾット衝撃強度が2.13J/cm(4.0 ft-
lb/in)以上を有するという結果が得られる。
【0005】本発明のブレンドの製造で使用するポリカ
ーボネートは、一般式:
ーボネートは、一般式:
【0006】
【化1】
【0007】[式中、nは工業用熱可塑性ポリマーを提
供するのに十分な数であり、Xは、非芳香族基(例え
ば、アルキルジエン、シクロアルキルジエン、アルキレ
ン、シクロアルキレン、アゾ、イミノ、硫黄、酸素、ス
ルホキシド及びスルホンなど)により分割され得る1個
以上のフェニレンまたは置換フェニレン基である]を有
するのが好ましい。置換フェニレン基としては、アルキ
ル、アルコキシル、ハロゲン及びニトロ置換フェニレン
が挙げられる。
供するのに十分な数であり、Xは、非芳香族基(例え
ば、アルキルジエン、シクロアルキルジエン、アルキレ
ン、シクロアルキレン、アゾ、イミノ、硫黄、酸素、ス
ルホキシド及びスルホンなど)により分割され得る1個
以上のフェニレンまたは置換フェニレン基である]を有
するのが好ましい。置換フェニレン基としては、アルキ
ル、アルコキシル、ハロゲン及びニトロ置換フェニレン
が挙げられる。
【0008】ポリカーボネートの製造法は公知であり、
実施例では市販のポリカーボネートを使用する。最も好
ましいポリカーボネートは、式:
実施例では市販のポリカーボネートを使用する。最も好
ましいポリカーボネートは、式:
【0009】
【化2】
【0010】[式中、Yはp-フェニレンである]を有す
る。式Bのポリカーボネートは、p,p'-イソプロピリデ
ンジフェノールとホスゲンとを反応させることにより製
造でき、LEXAN(商標:General Electric Company製)、
MAKROLON(商標:Mobay製)及びCALIBRE(商標:Dow製)
として市販されている。市販のポリカーボネートは通
常、分子量約18,000で、融点は230℃以上である。
る。式Bのポリカーボネートは、p,p'-イソプロピリデ
ンジフェノールとホスゲンとを反応させることにより製
造でき、LEXAN(商標:General Electric Company製)、
MAKROLON(商標:Mobay製)及びCALIBRE(商標:Dow製)
として市販されている。市販のポリカーボネートは通
常、分子量約18,000で、融点は230℃以上である。
【0011】芳香族基を含まないポリカーボネートは通
常、使用温度が低く、好ましくない。
常、使用温度が低く、好ましくない。
【0012】改質ブロックコポリマーは、特定の構造を
有する選択的に水素化したブロックコポリマーとヒドロ
キシエチルアクリレートとのフリーラジカルグラフト化
により製造する。ブロックコポリマーは通常、ビニル芳
香族ブロック相が物理的に架橋したドメインに分離する
少なくとも1種のビニル芳香族ブロックと少なくとも1
種の水素化共役ジエンブロックとを有する。水素化共役
ジエンブロックは、残存不飽和が10%未満で、数平均分
子量が10,000〜1,000,000である。ビニル芳香族ブロッ
クは、数平均分子量500〜50,000である。ブロックコポ
リマー構造は、直鎖、放射状及び分枝であってもよい。
有する選択的に水素化したブロックコポリマーとヒドロ
キシエチルアクリレートとのフリーラジカルグラフト化
により製造する。ブロックコポリマーは通常、ビニル芳
香族ブロック相が物理的に架橋したドメインに分離する
少なくとも1種のビニル芳香族ブロックと少なくとも1
種の水素化共役ジエンブロックとを有する。水素化共役
ジエンブロックは、残存不飽和が10%未満で、数平均分
子量が10,000〜1,000,000である。ビニル芳香族ブロッ
クは、数平均分子量500〜50,000である。ブロックコポ
リマー構造は、直鎖、放射状及び分枝であってもよい。
【0013】本発明のポリマーの前駆体として使用し得
る好ましいブロックコポリマーは、直鎖構造: A−B−A [式中、Aはビニル芳香族ブロックであり、Bは水素化
共役ジエンブロックである。]を有するスチレン性ブロ
ックコポリマーとして米国特許Re第27,145号に記載され
ている。好ましいビニル芳香族ブロックはポリスチレン
であり、好ましい共役ジエンブロックは水素化ポリブタ
ジエンまたは水素化ポリイソプレンである。水素化ポリ
ブタジエンまたはポリイソプレンブロックは、残存不飽
和が2%未満であり、数平均分子量が20,000〜300,000で
ある。各ポリスチレンブロックは数平均分子量2,000〜3
0,000である。
る好ましいブロックコポリマーは、直鎖構造: A−B−A [式中、Aはビニル芳香族ブロックであり、Bは水素化
共役ジエンブロックである。]を有するスチレン性ブロ
ックコポリマーとして米国特許Re第27,145号に記載され
ている。好ましいビニル芳香族ブロックはポリスチレン
であり、好ましい共役ジエンブロックは水素化ポリブタ
ジエンまたは水素化ポリイソプレンである。水素化ポリ
ブタジエンまたはポリイソプレンブロックは、残存不飽
和が2%未満であり、数平均分子量が20,000〜300,000で
ある。各ポリスチレンブロックは数平均分子量2,000〜3
0,000である。
【0014】ヒドロキシエチルアクリレートは、改質ブ
ロックコポリマーを基準として0.3〜10.0重量
%、好ましくは0.5〜3.0重量%の量でベースブロックコポ
リマーにグラフトしている。ポリカーボネートの低温強
度を改良するのに、官能基価(functionality)のレベ
ルが低いと効果的でない。
ロックコポリマーを基準として0.3〜10.0重量
%、好ましくは0.5〜3.0重量%の量でベースブロックコポ
リマーにグラフトしている。ポリカーボネートの低温強
度を改良するのに、官能基価(functionality)のレベ
ルが低いと効果的でない。
【0015】ベースブロックコポリマーは、官能基をこ
のようなポリマーにグラフトする当業界で公知の任意の
フリーラジカルグラフト法を使用して官能基化し得る。
例えば、改質水素化ブロックコポリマーは、米国特許第
4,033,888号、同第4,077,893号及び同第4,670,173号に
記載の溶液法を利用して、または米国特許第4,427,828
号、同第4,578,429号及び同第4,628,072号に記載の溶融
混合法により製造し得る。
のようなポリマーにグラフトする当業界で公知の任意の
フリーラジカルグラフト法を使用して官能基化し得る。
例えば、改質水素化ブロックコポリマーは、米国特許第
4,033,888号、同第4,077,893号及び同第4,670,173号に
記載の溶液法を利用して、または米国特許第4,427,828
号、同第4,578,429号及び同第4,628,072号に記載の溶融
混合法により製造し得る。
【0016】本発明により製造した組成物は、ポリカー
ボネート組成物に有用な当業界で公知の他成分を含み得
る。これらの他成分としては、例えば、フィラー、顔
料、酸化防止剤、安定剤、加工油、増量剤、離型剤等が
挙げられる。
ボネート組成物に有用な当業界で公知の他成分を含み得
る。これらの他成分としては、例えば、フィラー、顔
料、酸化防止剤、安定剤、加工油、増量剤、離型剤等が
挙げられる。
【0017】本発明によりポリカーボネート組成物を製
造する際、得られた組成物は以下の実施例に示されてい
るように−40℃(−40°F)に於いて少なくとも2.13J/c
m(4.0 ft-lb/in)の改良された衝撃強度を有する。
造する際、得られた組成物は以下の実施例に示されてい
るように−40℃(−40°F)に於いて少なくとも2.13J/c
m(4.0 ft-lb/in)の改良された衝撃強度を有する。
【0018】
【実施例】ポリカーボネート組成物は、直鎖A−B−A
構造を有する選択されたブロックコポリマーとともに市
販のポリカーボネートを押出して製造した。
構造を有する選択されたブロックコポリマーとともに市
販のポリカーボネートを押出して製造した。
【0019】改質剤の製造 数平均分子量7,500-35,000-7,500のスチレン-水素化ブ
タジエン-スチレン(SEBS)ブロックコポリマー(A-1)
を、2つの射出口と真空液化ユニットを備えた133mm ZS
K Werner&Pfleiderer二軸押出機で加工した。第1の射
出口に溶融した無水マレイン酸を添加した(ポリマー供
給速度をベースとして2.3重量%)。第2の射出口を介し
て鉱油及び2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルペルオキ
シ)ヘキサン[Lupersol 101:商標(Pennwalt製)、ポ
リマー供給速度ベースで0.25重量%]50/50混合物を添加
した。ポリマーの融点は280℃に達し、押出機のスクリ
ュー速度は200RPM(1分当たりの回転)であった。分析
用ポリマーを調製するために、マレイン酸化ブロックコ
ポリマー(B-1)をテトラヒドロフランに溶解し、イソ
プロパノール中で凝固させ、水で洗浄した。マレイン酸
化ポリマー(B-1)サンプルを結合した無水マレイン酸
量の測定のため、カリウムメトキシド溶液と指示薬とし
てフェノールフタレインを使用して、酸/塩基滴定によ
り分析した。ポリマー(B-1)は無水マレイン酸1.8重量
%を含んでいた。
タジエン-スチレン(SEBS)ブロックコポリマー(A-1)
を、2つの射出口と真空液化ユニットを備えた133mm ZS
K Werner&Pfleiderer二軸押出機で加工した。第1の射
出口に溶融した無水マレイン酸を添加した(ポリマー供
給速度をベースとして2.3重量%)。第2の射出口を介し
て鉱油及び2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルペルオキ
シ)ヘキサン[Lupersol 101:商標(Pennwalt製)、ポ
リマー供給速度ベースで0.25重量%]50/50混合物を添加
した。ポリマーの融点は280℃に達し、押出機のスクリ
ュー速度は200RPM(1分当たりの回転)であった。分析
用ポリマーを調製するために、マレイン酸化ブロックコ
ポリマー(B-1)をテトラヒドロフランに溶解し、イソ
プロパノール中で凝固させ、水で洗浄した。マレイン酸
化ポリマー(B-1)サンプルを結合した無水マレイン酸
量の測定のため、カリウムメトキシド溶液と指示薬とし
てフェノールフタレインを使用して、酸/塩基滴定によ
り分析した。ポリマー(B-1)は無水マレイン酸1.8重量
%を含んでいた。
【0020】同じスチレン-水素化ブタジエン-スチレン
(SEBS)ブロックコポリマー(A-1)を真空液化ユニッ
トに接続した33mm Werner&Pfleiderer二軸押出機で加
工した。押出機の供給口に添加する前に、ポリマーを2-
ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)3重量%及び過酸
化物(Lupersol 101)0.2重量%と混転した。押出機の溶
融温度は243℃で、押出機のスクリュー速度は300RPMで
あった。HEAで改質したポリマー(B-2)を鹸化/滴定法
により分析した。ポリマー(B-2)を還流条件下でトル
エンに溶解した。エステル基を切断するため過剰の水酸
化カリウムを添加して、2時間反応させた。次いで溶液
を室温に冷却し、過剰の酢酸をこの溶液に添加した。次
いでポリマーをイソプロパノールで凝固させ、水のpHが
中性(6〜7)になるまで水で繰り返し洗浄した。ポリ
マー(B-2)を再溶解させ、上記記載の如く滴定した。
ポリマー(B-2)は、ポリマーに結合した0.9重量%のHEA
を含んでいた。
(SEBS)ブロックコポリマー(A-1)を真空液化ユニッ
トに接続した33mm Werner&Pfleiderer二軸押出機で加
工した。押出機の供給口に添加する前に、ポリマーを2-
ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)3重量%及び過酸
化物(Lupersol 101)0.2重量%と混転した。押出機の溶
融温度は243℃で、押出機のスクリュー速度は300RPMで
あった。HEAで改質したポリマー(B-2)を鹸化/滴定法
により分析した。ポリマー(B-2)を還流条件下でトル
エンに溶解した。エステル基を切断するため過剰の水酸
化カリウムを添加して、2時間反応させた。次いで溶液
を室温に冷却し、過剰の酢酸をこの溶液に添加した。次
いでポリマーをイソプロパノールで凝固させ、水のpHが
中性(6〜7)になるまで水で繰り返し洗浄した。ポリ
マー(B-2)を再溶解させ、上記記載の如く滴定した。
ポリマー(B-2)は、ポリマーに結合した0.9重量%のHEA
を含んでいた。
【0021】ポリカーボネート(PC)とのブレンド 上記記載の3種類のポリマー全て(A-1,B-1,B-2)を3
3mm Werner&Pfleiderer二軸押出機でポリカーボネート
(PC:Makrolon 2608;Mobay製)に5重量%供給してブ
レンドした。押出機のスクリュー速度は300RPMであり、
到達溶融温度は種々のブレンドに対して305〜312℃であ
った。得られた各ブレンド及び純粋なポリカーボネート
からのペレットを、25トン/1.5オンスArburg射出成型機
で試験片に射出成形した。各ブレンドを室温(RT)及び
低温での衝撃強度(ASTM D-256)を試験し、次いで曲げ
弾性率(ASTM D-790)を試験した。表1は、純粋なポリ
カーボネート(PC)及び各ブレンドの試験結果を示して
いる。
3mm Werner&Pfleiderer二軸押出機でポリカーボネート
(PC:Makrolon 2608;Mobay製)に5重量%供給してブ
レンドした。押出機のスクリュー速度は300RPMであり、
到達溶融温度は種々のブレンドに対して305〜312℃であ
った。得られた各ブレンド及び純粋なポリカーボネート
からのペレットを、25トン/1.5オンスArburg射出成型機
で試験片に射出成形した。各ブレンドを室温(RT)及び
低温での衝撃強度(ASTM D-256)を試験し、次いで曲げ
弾性率(ASTM D-790)を試験した。表1は、純粋なポリ
カーボネート(PC)及び各ブレンドの試験結果を示して
いる。
【0022】
【表1】 1/8"ノッチ付きアイゾット(J/cm)曲げ弾性率 サンプルID RT −28.89℃ −40℃ (bar) PC 9.55 1.60 1.28 23,097 未改質 PC+A-1(5%) 8.75 3.10 1.87 23,097 無水マレイン酸改質 PC+B-1(5%) 8.43 − 1.92 22,684 HEA改質 PC+B-2(5%) 8.22 4.38 2.40 22,753 表1の結果は、HEA改質ブロックコポリマーでポリカー
ボネートを強化すると、未改質ブロックコポリマー(A-
1)またはマレイン酸化ブロックコポリマー(B-1)の場
合と比較して低温衝撃強度を改良できることを示してい
る。この比較は、ブロックコポリマーにグラフトした無
水マレイン酸が高レベル(1.8重量%)であるのに対して
ブロックコポリマーにグラフトしたHEAが低レベル(0.9
重量%)であるため、特に重要である。
ボネートを強化すると、未改質ブロックコポリマー(A-
1)またはマレイン酸化ブロックコポリマー(B-1)の場
合と比較して低温衝撃強度を改良できることを示してい
る。この比較は、ブロックコポリマーにグラフトした無
水マレイン酸が高レベル(1.8重量%)であるのに対して
ブロックコポリマーにグラフトしたHEAが低レベル(0.9
重量%)であるため、特に重要である。
Claims (7)
- 【請求項1】 少なくとも1種の水素化共役ジエンブロ
ックと少なくとも1種のビニル芳香族ブロックとからな
り、ヒドロキシエチルアクリレート0.3〜10.0重量%でグ
ラフトされている改質ブロックコポリマー2〜10重量部
及びポリカーボネート90〜98重量部からなる強化ポリカ
ーボネート組成物。 - 【請求項2】 水素化共役ジエンブロックは数平均分子
量10,000〜1,000,000であり、且つビニル芳香族ブロッ
クは数平均分子量500〜50,000である請求項1に記載の
組成物。 - 【請求項3】 共役ジエンブロックは数平均分子量20,0
00〜300,000であり、且つビニル芳香族ブロックは数平
均分子量2,000〜30,000である請求項2に記載の組成
物。 - 【請求項4】 改質ブロックコポリマーが、ヒドロキシ
エチルアクリレートでフリーラジカル的にグラフトされ
ているポリスチレン-水素化ポリブタジエン-ポリスチレ
ンブロックコポリマーである請求項1〜3のいずれか1
項に記載の組成物。 - 【請求項5】 改質ブロックコポリマーが改質ブロック
コポリマーを基準としてヒドロキシエチルアクリレート
0.5〜3.0重量%を含む請求項1〜4のいずれか1項に記
載の組成物。 - 【請求項6】 水素化共役ジエンブロックの残存不飽和
が10%未満である請求項1〜5のいずれか1項に記載の
組成物。 - 【請求項7】 水素化ポリブタジエンブロックの残存不
飽和が2%未満である請求項6に記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/787,448 US5175212A (en) | 1991-11-04 | 1991-11-04 | Low temperature toughening of polycarbonates with a modified block copolymer |
US787448 | 1991-11-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05214232A true JPH05214232A (ja) | 1993-08-24 |
Family
ID=25141510
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4294331A Pending JPH05214232A (ja) | 1991-11-04 | 1992-11-02 | 改質ブロックコポリマーによるポリカーボネートの低温強化 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5175212A (ja) |
EP (1) | EP0541175B1 (ja) |
JP (1) | JPH05214232A (ja) |
DE (1) | DE69219275T2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5288800A (en) * | 1992-12-28 | 1994-02-22 | Shell Oil Company | Polymer blends |
US5266635A (en) * | 1993-02-26 | 1993-11-30 | Shell Oil Company | Impact resistant polycarbonates containing elastomers having phenolic groups |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE27145E (en) * | 1969-05-20 | 1971-06-22 | Side-chain | |
US4033888A (en) * | 1976-10-18 | 1977-07-05 | Shell Oil Company | Dispersant VI improver |
US4077893A (en) * | 1977-05-11 | 1978-03-07 | Shell Oil Company | Star-shaped dispersant viscosity index improver |
US4537930A (en) * | 1977-09-14 | 1985-08-27 | General Electric Company | Composition of a polycarbonate resin and a selectively hydrogenated copolymer of a vinyl aromatic compound and an olefinic elastomer |
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