JPH05187842A - Method and device for inspecting picture pattern - Google Patents

Method and device for inspecting picture pattern

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JPH05187842A
JPH05187842A JP4021986A JP2198692A JPH05187842A JP H05187842 A JPH05187842 A JP H05187842A JP 4021986 A JP4021986 A JP 4021986A JP 2198692 A JP2198692 A JP 2198692A JP H05187842 A JPH05187842 A JP H05187842A
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image pattern
inspection
pattern
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master data
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貴雄 大前
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勲 寺前
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Abstract

PURPOSE:To efficiently inspect the wiring patterns of a printed wiring board having the wiring patterns on its both surfaces or of a plurality of kinds of printed wiring boards CONSTITUTION:Two kinds of reference picture patterns which are to be compared with the wiring patterns on both main surfaces of a printed wiring board 2 are stored in advance in two semiconductor memories SM1 and SM2 from which the wiring patterns can be read out at high speeds. When the wiring patterns are inspected for defects, one appropriate reference pattern is selectively read out from the memories SM1 and SM2. During the defect inspection, the number of defects is counted and, when the number exceeds a prescribed reference value, the defect detection is stopped and the defect detection is restarted after reading out the other reference pattern from the memories. Therefore, the defect inspection can be performed efficiently even when the picture pattern to be inspected does not match one of the reference picture patterns.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、例えば、両主面(表
面及び裏面)ともに配線パターンを有するプリント配線
板の配線パターン、或は複数種類のプリント配線板の配
線パターンの検査に用いる、画像パターンの検査方法及
びその装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is used, for example, for inspecting a wiring pattern of a printed wiring board having wiring patterns on both main surfaces (front surface and back surface) or a wiring pattern of plural kinds of printed wiring boards. The present invention relates to a pattern inspection method and apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior Art]

<画像パターンの検査一般の従来技術>プリント配線板
の配線パターンの欠陥検査等に利用される画像パターン
の検査方法は、比較法(パターンマッチング法)と特徴
抽出法(デザインルールチェック法)が主流である。こ
のうち前者の比較法は、基準とすべき対象物の画像パタ
ーン(基準画像パターン)と検査すべき対象物の画像パ
ターン(検査画像パターン)とを重ね合わせて比較し、
差異の部分を欠陥と判定する方法である(例えば、特公
昭59−2069号公報、特開昭60−61604号公
報など)。一方、後者の特徴抽出法は、基準画像パター
ンに含まれる各種特徴(例えば、線幅、角度、特定パタ
ーン等)をあらかじめ記憶しておき、検査画像パターン
内に上記各種特徴のいずれにも属しないパターンが検出
された時に、その部分を欠陥と判定する方法である(例
えば、特開昭57−149905号公報)。 <比較法に基づいた従来技術の代表例の1>図12は、
プリント配線板の配線パターンの検査を比較法により行
う、従来の画像パターンの検査装置の概略ブロック図で
ある。搬送テーブル1は、水平に移動する機構(図示し
ない)を備えており、その上には基準とすべき配線パタ
ーン又は検査すべき配線パターンを有するプリント配線
板2を載置する。搬送テーブル1の上方に設けられた読
取装置3は、載置されたプリント配線板2の配線パター
ンを光学的に画素毎に読み取る。読取装置3は照明装置
例えばLEDと受光装置例えばCCDとによって構成さ
れ、例えば本出願人による特願平2−142889号に
おいて、これに該当する技術が開示されている。読取装
置3は配線パターンをアナログ電気信号としてA/D変
換装置4へ出力する。
<General Prior Art of Image Pattern Inspection> The comparison method (pattern matching method) and the feature extraction method (design rule check method) are mainstream as the image pattern inspection method used for the defect inspection of the wiring pattern of the printed wiring board. Is. Of these, the former comparison method compares the image pattern of the object to be the reference (reference image pattern) with the image pattern of the object to be inspected (inspection image pattern),
This is a method of determining a difference portion as a defect (for example, Japanese Patent Publication No. 59-2069 and Japanese Patent Laid-Open Publication No. 60-61604). On the other hand, in the latter feature extraction method, various features included in the reference image pattern (for example, line width, angle, specific pattern, etc.) are stored in advance and do not belong to any of the above various features in the inspection image pattern. In this method, when a pattern is detected, that portion is determined to be a defect (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 57-149905). <1 of typical example of prior art based on comparison method> FIG.
It is a schematic block diagram of the conventional image pattern inspection apparatus which inspects the wiring pattern of the printed wiring board by the comparison method. The transport table 1 is provided with a mechanism (not shown) that moves horizontally, on which a printed wiring board 2 having a wiring pattern to be a reference or a wiring pattern to be inspected is placed. The reading device 3 provided above the transport table 1 optically reads the wiring pattern of the placed printed wiring board 2 for each pixel. The reading device 3 is composed of an illuminating device such as an LED and a light receiving device such as a CCD, and a technique corresponding to this is disclosed in, for example, Japanese Patent Application No. 2-142889 of the present applicant. The reading device 3 outputs the wiring pattern as an analog electric signal to the A / D conversion device 4.

【0003】A/D変換装置4は読取装置3からのアナ
ログ電気信号をデジタル電気信号に変換して2値化処理
部5へ出力する。2値化処理部5は所定の閾値を用いて
デジタル信号を2値化し、2値化パターンデータを生成
する。これにより例えば、配線パターンが存在する領域
の画素は値”1”をとり、そうでない領域の画素は”
0”をとる。
The A / D converter 4 converts the analog electric signal from the reading device 3 into a digital electric signal and outputs it to the binarization processing section 5. The binarization processing unit 5 binarizes the digital signal using a predetermined threshold value and generates binarized pattern data. As a result, for example, the pixel in the area where the wiring pattern exists takes the value "1", and the pixel in the area where it does not exist is "1".
Take 0 ".

【0004】セレクタSL1は2値化処理部5からの2
値化パターンデータをセレクタSL2と差分検出装置7
の中の何れかに択一的に選択して出力する。セレクタS
L2は半導体メモリ6を、差分検出装置7、セレクタS
L1、外部記憶装置8の中のいずれかを択一的に選択し
て接続する。操作部9はキーボード(図示しない)を備
えており、このキーボードを手動で操作することにより
セレクタSL1、及びSL2が動作する。
The selector SL1 outputs the binary signal from the binarization processing unit 5.
The digitized pattern data is sent to the selector SL2 and the difference detection device 7.
To be selected and output. Selector S
L2 is the semiconductor memory 6, the difference detection device 7, the selector S
Either L1 or the external storage device 8 is selectively selected and connected. The operation unit 9 includes a keyboard (not shown), and the selectors SL1 and SL2 operate by manually operating the keyboard.

【0005】半導体メモリ6は基準とすべき配線パター
ンの2値化パターンデータ(マスターデータMS)を記
憶するために設けられる。搬送テーブル1に載置するプ
リント配線板2に、欠陥のない基準とすべき配線パター
ンを有するものを選び、セレクタSL1をセレクタSL
2の側に接続し、セレクタSL2をセレクタSL1の側
に接続することにより、マスターデータMSが半導体メ
モリ6へ出力され、半導体メモリ6はこれを記憶する。
半導体メモリ6は、半導体記憶素子を記憶媒体とするも
ので、高速での書き込み及び読み出しが可能であり、1
枚のプリント配線板2の片面の配線パターンに対応する
マスターデータMSを格納し得る大きさの記憶容量を有
している。半導体メモリ6への高速での書き込みが可能
であるために、基準とすべきプリント配線板2の配線パ
ターンを読取装置3により画素毎に読み取る速度に合わ
せて、同一速度で半導体メモリ6へのマスターデータM
Sの書き込み処理が進行する。
The semiconductor memory 6 is provided to store binary pattern data (master data MS) of a wiring pattern to be a reference. As the printed wiring board 2 to be mounted on the carrying table 1, one having a wiring pattern to be used as a reference without any defect is selected, and the selector SL1 is set to the selector SL.
2 is connected to the selector SL2 and the selector SL2 is connected to the selector SL1, the master data MS is output to the semiconductor memory 6 and the semiconductor memory 6 stores it.
The semiconductor memory 6 uses a semiconductor storage element as a storage medium and is capable of high speed writing and reading.
It has a storage capacity large enough to store the master data MS corresponding to the wiring pattern on one surface of one printed wiring board 2. Since the semiconductor memory 6 can be written at high speed, the master of the semiconductor memory 6 can be read at the same speed according to the speed at which the wiring pattern of the printed wiring board 2 to be used as a reference is read by the reading device 3 for each pixel. Data M
The writing process of S proceeds.

【0006】外部記憶装置8は、作成されたマスターデ
ータMSを保存するために設けられる。複数種類のプリ
ント配線板2を検査する場合など、検査に使用するマス
ターデータMSを別のマスターデータMSに変更する必
要がある場合には、半導体メモリ6に既に記憶されるマ
スターデータMSを外部記憶装置8に出力して記憶させ
ることにより保存する。このとき、セレクタSL2は外
部記憶装置8を選択して接続する。外部記憶装置8は例
えば磁気テープ等の大容量で書き込み可能な不揮発性の
記憶媒体を有する装置である。外部記憶装置8は、通常
複数種類の配線パターンに対応する複数種類のマスター
データMSを記憶しており、検査を行うときには、その
中から検査のために必要な特定のマスターデータMSを
選択して半導体メモリ6へ出力し、半導体メモリ6の記
憶する内容を新たなマスターデータMSで書き換える。
このときにも、セレクタSL2は外部記憶装置8を選択
して接続する。以上の外部記憶装置8の動作は、操作部
9の操作に基づいて行われる。
The external storage device 8 is provided for storing the created master data MS. When it is necessary to change the master data MS used for the inspection to another master data MS such as when inspecting a plurality of types of printed wiring boards 2, the master data MS already stored in the semiconductor memory 6 is externally stored. It is saved by outputting it to the device 8 and storing it. At this time, the selector SL2 selects and connects the external storage device 8. The external storage device 8 is a device having a large capacity writable non-volatile storage medium such as a magnetic tape. The external storage device 8 normally stores a plurality of types of master data MS corresponding to a plurality of types of wiring patterns, and when an inspection is performed, a specific master data MS required for the inspection is selected from among them. The data is output to the semiconductor memory 6 and the contents stored in the semiconductor memory 6 are rewritten with new master data MS.
Also at this time, the selector SL2 selects and connects the external storage device 8. The above operation of the external storage device 8 is performed based on the operation of the operation unit 9.

【0007】検査を行うには、検査すべき配線パターン
を有するプリント配線板2を搬送テーブル1に載置し、
セレクタSL1を差分検出装置7の側に接続する。セレ
クタSL2は差分検出装置7の側に接続される。このと
き、2値化処理部5からは検査すべき配線パターンの2
値化パターンデータ(オブジェクトデータOS)が差分
検出装置7の入力の1へ出力される。差分検出装置7の
入力の他の1には、半導体メモリ6から読み出されるマ
スターデータMSが出力される。差分検出装置7は、入
力されるオブジェクトデータOSとマスターデータMS
との間で、互いに同一位置にある画素毎に排他的論理和
を演算し、演算結果である差分データDISを判定回路
10へ出力する。これにより差分データDISは、オブ
ジェクトデータOSとマスターデータMSの間の不一致
部分に相当する画素において”1”をとり、一致部分に
相当する画素において”0”をとる。高速での読み出し
が可能な半導体メモリ6を用意して、これに基準とすべ
きマスターデータMSを記憶させているので、検査を行
うべきプリント配線板2の配線パターンを読取装置3に
より画素毎に読み取る速度に合わせて、同一速度で差分
検出装置7において差分データDISを作成する処理が
進行する。
In order to carry out the inspection, the printed wiring board 2 having the wiring pattern to be inspected is placed on the carrying table 1,
The selector SL1 is connected to the difference detection device 7 side. The selector SL2 is connected to the difference detection device 7 side. At this time, the binarization processing unit 5 outputs the wiring pattern 2 to be inspected.
The digitized pattern data (object data OS) is output to the input 1 of the difference detection device 7. The master data MS read from the semiconductor memory 6 is output to the other input 1 of the difference detection device 7. The difference detection device 7 receives the input object data OS and master data MS.
And an exclusive OR between the pixels at the same position, and the difference data DIS as the calculation result is output to the determination circuit 10. As a result, the difference data DIS takes "1" in the pixel corresponding to the non-coincidence portion between the object data OS and the master data MS, and "0" in the pixel corresponding to the coincidence portion. Since the semiconductor memory 6 capable of reading at high speed is prepared and the master data MS to be the reference is stored in the semiconductor memory 6, the wiring pattern of the printed wiring board 2 to be inspected is read by the reading device 3 for each pixel. The process of creating the difference data DIS in the difference detection device 7 proceeds at the same speed according to the reading speed.

【0008】判定回路10は所定の広さを有する互いに
隣合う画素の集まりである画素オペレータ(例えば、3
x3画素の広さのオペレータ)を用いて、欠陥の有無と
その位置を判定する。すなわち、差分データDISにお
いて、”1”を有する画素の領域の中で画素オペレータ
を包含し得る部分があれば、これを欠陥部分と判定し、
その位置と共に欠陥である判定を出力する。通常は、差
分データDISを所定の広さ(例えば20x20画素の
広さ)の区画(評価区画)に分割し、各評価区画毎に上
記の要領で欠陥が存在するか否かを判定した結果を評価
区画の位置と共に表示装置11へ出力する。表示装置1
1はディスプレー(図示しない)を備えており、欠陥有
りと判定された評価区画の位置をディスプレーに表示す
る。 <比較法に基づいた従来技術の代表例の2>図13は、
プリント配線板の配線パターンの検査を比較法により行
う、従来の画像パターンの検査装置のもう一つの例の概
略ブロック図である。この例は、プリント配線板2を用
意してその配線パターンを読み取ることによりマスター
データMSを得る代わりに、配線パターンの設計を目的
としてコンピュータによる作画システム(CAD12)
を用いて作成された画像パターンを基にマスターデータ
MSを得る点が上記の例とは異なる。CAD12で作成
された画像パターンは2値化されており、補正回路13
へ入力される。
The determination circuit 10 is a pixel operator (for example, 3 pixels) which is a group of adjacent pixels each having a predetermined area.
The presence / absence of a defect and its position are determined using an operator having a width of x3 pixels. That is, in the difference data DIS, if there is a portion that can include the pixel operator in the pixel area having “1”, it is determined as a defective portion,
The defect determination is output together with the position. Normally, the difference data DIS is divided into sections (evaluation sections) having a predetermined size (for example, a size of 20 × 20 pixels), and the result of determining whether or not a defect exists in each evaluation section is described below. It outputs to the display device 11 together with the position of the evaluation section. Display device 1
1 has a display (not shown), and displays the position of the evaluation section determined to have a defect on the display. <Typical example 2 of prior art based on the comparison method> FIG.
FIG. 11 is a schematic block diagram of another example of a conventional image pattern inspection device that inspects a wiring pattern of a printed wiring board by a comparison method. In this example, instead of obtaining the master data MS by preparing the printed wiring board 2 and reading the wiring pattern, a drawing system by a computer (CAD12) for the purpose of designing the wiring pattern.
This is different from the above example in that the master data MS is obtained based on the image pattern created by using. The image pattern created by the CAD 12 is binarized, and the correction circuit 13
Is input to.

【0009】プリント配線板2が有する配線パターン
は、その製造工程においてエッチング処理されるため
に、CAD12で設計された配線パターンとは、欠陥と
はみなすべきではない若干の差異を必然的に有してい
る。補正回路13は、判定回路10において前記の差異
を誤って欠陥と判定することを防止するために、CAD
12から送られた2値化画像パターンに所定の補正を加
えて出力する。補正回路13については例えば、特開昭
60−60504号公報、特開昭60−113102号
公報などに開示されている。補正回路13からの出力
は、マスターデータMSとして外部記憶装置8へ入力さ
れ、外部記憶装置8はこれを記憶する。このときセレク
タSL3は補正回路13の側に接続されている。
Since the wiring pattern of the printed wiring board 2 is etched in the manufacturing process, it necessarily has some differences from the wiring patterns designed by the CAD 12 which should not be regarded as defects. ing. The correction circuit 13 uses the CAD circuit to prevent the determination circuit 10 from erroneously determining the difference as a defect.
The binarized image pattern sent from 12 is output after being subjected to predetermined correction. The correction circuit 13 is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 60-60504 and 60-113102. The output from the correction circuit 13 is input to the external storage device 8 as master data MS, and the external storage device 8 stores this. At this time, the selector SL3 is connected to the correction circuit 13 side.

【0010】外部記憶装置8は、図12の代表例の1と
同様に通常複数種類の配線パターンに対応する複数種類
のマスターデータMSを記憶しており、検査を行うとき
には、その中から検査のために必要な特定のマスターデ
ータMSを選択して半導体メモリ6へ出力し、半導体メ
モリ6の記憶する内容を新たなマスターデータMSで書
き換える。このときには、セレクタSL3はセレクタS
L4の側に接続され、セレクタSL4はセレクタSL3
の側に接続される。セレクタSL3、SL4は操作部9
の操作により動作する。以下の動作は代表例の1と同様
である。検査を行うときにはセレクタSL4は差分検出
装置7の側に接続される。
The external storage device 8 normally stores a plurality of types of master data MS corresponding to a plurality of types of wiring patterns, as in the case of the representative example 1 of FIG. The specific master data MS necessary for this purpose is selected and output to the semiconductor memory 6, and the content stored in the semiconductor memory 6 is rewritten with new master data MS. At this time, the selector SL3 is the selector S.
The selector SL4 is connected to the L4 side and the selector SL3
Connected to the side of. The selectors SL3 and SL4 are the operation unit 9
It operates by the operation of. The subsequent operation is the same as that of the representative example 1. When performing the inspection, the selector SL4 is connected to the difference detection device 7 side.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be Solved by the Invention]

<従来の技術が有する問題点>プリント配線板2の配線
パターンの検査を比較法により行う従来の画像パターン
の検査装置は、以上のように構成されるので、以下のよ
うな問題点を有していた。 (1) 製造ラインの中で行われる抜取り検査において
は、抜き取った検査対象物は検査後、製造ラインの中の
元の位置に戻す必要がある。また、製造ラインは絶えず
流れているため、抜取り検査はできるだけ迅速に行う必
要がある。両主面に配線パターンを有するプリント配線
板2の抜取り検査を製造ラインの中で行う場合には、抜
き取ったプリント配線板2を検査後にラインの元の位置
に戻す必要から、抜き取ったプリント配線板2毎に一方
の主面の配線パターンの検査と他方の主面の配線パター
ンの検査とを続けて実行する必要がある。このために、
外部記憶装置8にはあらかじめ両面分のマスターデータ
MSが記憶しておかれるが、半導体メモリ6には片方の
主面の配線パターンに対応するマスターデータMSだけ
が記憶される。それ故、1方の主面の配線パターンの検
査が終了した後、他方の主面の配線パターンの検査を実
行する前に、半導体メモリ6が記憶するマスターデータ
MSを、他の主面の配線パターンに対応するマスターデ
ータMSに入れ換える必要がある。半導体メモリ6に新
たなマスターデータMSを書き込むには、外部記憶装置
8から該当するマスターデータMSを読み出す必要があ
る。外部記憶装置8の読み出し速度は半導体メモリ6の
読み出し速度に比べて格段に遅く、典型的なサイズを有
したプリント配線版2の配線パターンに関するマスター
データMSであれば、その読み出しには5分程度を要す
る。このため、1枚の基板の検査毎に、マスターデータ
MSの書換えのために過剰に5分程度を要し、検査の能
率が悪いという問題点があった。 (2) 製造ラインに複数種類のプリント配線板2が互
いに混在して流れている中で、配線パターンの抜取り検
査を行う場合には、複数種類の配線パターンに対応した
複数種類のマスターデータMSが必要である。このた
め、これら複数種類のマスターデータMSがあらかじめ
外部記憶装置8に記憶される。検査を行う毎に、検査対
象と比較すべきマスターデータMSを外部記憶装置8の
中から選択して読み出し、半導体メモリ6へ書き込む必
要がある。このため、上記(1)と同様の理由により、
検査の度に典型的には5分ほどの時間を過剰に必要と
し、検査の能率が悪いという問題点があった。 <この発明の目的>この発明は上記のような問題点を解
消するためになされたもので、両主面に配線パターンを
有するプリント配線板の配線パターンの検査、あるいは
複数種類のプリント配線板の配線パターンの検査等を能
率よく行い得る画像パターンの検査技術を提供すること
を目的とする。
<Problems of Prior Art> Since the conventional image pattern inspection device for inspecting the wiring pattern of the printed wiring board 2 by the comparison method is configured as described above, it has the following problems. Was there. (1) In the sampling inspection performed in the manufacturing line, the sample to be inspected needs to be returned to the original position in the manufacturing line after the inspection. Also, since the production line is constantly flowing, the sampling inspection should be performed as quickly as possible. When the extraction inspection of the printed wiring board 2 having the wiring patterns on both main surfaces is performed in the manufacturing line, the extracted printed wiring board 2 needs to be returned to the original position of the line after the inspection. It is necessary to successively perform the inspection of the wiring pattern on one main surface and the inspection of the wiring pattern on the other main surface for every two. For this,
The external storage device 8 stores the master data MS for both sides in advance, but the semiconductor memory 6 stores only the master data MS corresponding to the wiring pattern on one main surface. Therefore, after the inspection of the wiring pattern of one main surface is completed and before the inspection of the wiring pattern of the other main surface is executed, the master data MS stored in the semiconductor memory 6 is transferred to the wiring of the other main surface. It is necessary to replace with the master data MS corresponding to the pattern. In order to write new master data MS to the semiconductor memory 6, it is necessary to read the corresponding master data MS from the external storage device 8. The read speed of the external storage device 8 is much slower than the read speed of the semiconductor memory 6, and if it is the master data MS regarding the wiring pattern of the printed wiring board 2 having a typical size, it takes about 5 minutes to read it. Requires. Therefore, it takes about 5 minutes to rewrite the master data MS each time one board is inspected, and the efficiency of the inspection is low. (2) When a plurality of types of printed wiring boards 2 are mixedly flowing in the manufacturing line and a wiring pattern sampling inspection is performed, a plurality of types of master data MS corresponding to a plurality of types of wiring patterns are generated. is necessary. Therefore, the plurality of types of master data MS are stored in the external storage device 8 in advance. Every time the inspection is performed, the master data MS to be compared with the inspection target needs to be selected from the external storage device 8, read out, and written in the semiconductor memory 6. Therefore, for the same reason as (1) above,
There is a problem in that the efficiency of the inspection is poor because it typically requires an excessive time of about 5 minutes for each inspection. <Objects of the Invention> The present invention has been made to solve the above problems, and it is an inspection of a wiring pattern of a printed wiring board having wiring patterns on both main surfaces, or a plurality of types of printed wiring boards. An object of the present invention is to provide an image pattern inspection technique capable of efficiently inspecting a wiring pattern and the like.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】この発明に係る請求項1
に記載の画像パターンの検査方法は、 検査対象画像パ
ターンを基準画像パターンと比較して欠陥の検出を行う
画像パターンの検査方法であって、(a)複数の記憶手
段を準備する工程と、(b)複数の前記基準画像パター
ンの各1を前記記憶手段の各1にあらかじめ記憶信号と
して記憶させる工程と、(c)前記複数の記憶手段の中
から1を選択して前記記憶信号を読み出すことにより、
前記基準画像パターンを得る工程と、(d)前記検査対
象画像パターンを得る工程と、(e)前記検査対象画像
パターンと前記基準画像パターンとを比較して前記欠陥
の検出を行う工程と、を備えるものである。
[Means for Solving the Problems] Claim 1 according to the present invention
The image pattern inspection method described in (1) is an image pattern inspection method for detecting defects by comparing an inspection target image pattern with a reference image pattern, and (a) preparing a plurality of storage means; b) storing each one of the plurality of reference image patterns in each one of the storage means in advance as a storage signal; and (c) selecting one from the plurality of storage means and reading the storage signal. Due to
A step of obtaining the reference image pattern; (d) a step of obtaining the inspection target image pattern; and (e) a step of comparing the inspection target image pattern with the reference image pattern to detect the defect. Be prepared.

【0013】この発明に係る請求項2に記載の画像パタ
ーンの検査方法は、請求項1に記載の画像パターンの検
査方法において、(f)少なくとも前記工程(e)より
前に、基準値を設定する工程、を更に備え、前記工程
(e)を、(e−1)前記検査対象画像パターンと前記
基準画像パターンとを比較して前記欠陥の検出を行う工
程と、(e−2)前記工程(e−1)の中で、前記欠陥
の個数を計数する工程と、(e−3)前記工程(e−
2)において、計数された前記欠陥の個数が前記基準値
を超えて検出されるならば、そのときに前記工程(e−
1)を中断する工程と、(e−4)前記工程(e−3)
において前記工程(e−1)が中断されたならば、前記
複数の記憶手段の中から工程(c)以後において選択さ
れていない記憶手段の1を選択して前記記憶データを読
み出すことにより、新たに別の基準画像パターンを得る
工程と、(e−5)前記工程(e−1)から前記工程
(e−4)までを反復する工程と、で置き換えたもので
ある。
An image pattern inspection method according to a second aspect of the present invention is the image pattern inspection method according to the first aspect, in which (f) the reference value is set at least before the step (e). Further comprising: (e-1) comparing the inspection target image pattern with the reference image pattern to detect the defect; and (e-2) the process. In (e-1), the step of counting the number of defects, and (e-3) the step (e-
In 2), if the number of the counted defects exceeds the reference value and is detected, then at the step (e-).
A step of interrupting 1), and (e-4) the step (e-3)
When the step (e-1) is interrupted in step 1, the storage means 1 which has not been selected after the step (c) is selected from the plurality of storage means and the stored data is read. The step of obtaining another reference image pattern and the step (e-5) of repeating the steps (e-1) to (e-4) are replaced.

【0014】この発明に係る請求項3に記載の画像パタ
ーンの検査装置は、検査対象画像パターンを基準画像パ
ターンと比較して欠陥の検出を行う画像パターンの検査
装置であって、(a)複数の記憶手段と、(b)複数の
前記基準画像パターンの各1を前記記憶手段の各1にあ
らかじめ記憶信号として記憶させる手段と、(c)前記
複数の記憶手段の中から1を選択して前記記憶信号を読
み出すことにより、前記基準画像パターンを得る手段
と、(d)前記検査対象画像パターンを得る手段と、
(e)前記検査対象画像パターンと前記基準画像パター
ンとを比較して前記欠陥の検出を行う手段と、を備える
ものである。
An image pattern inspection apparatus according to a third aspect of the present invention is an image pattern inspection apparatus for detecting a defect by comparing an inspection target image pattern with a reference image pattern. Storage means, (b) means for storing each one of the plurality of reference image patterns in each one of the storage means in advance as a storage signal, and (c) selecting one from the plurality of storage means. Means for obtaining the reference image pattern by reading the stored signal; and (d) means for obtaining the inspection target image pattern,
(E) means for comparing the inspection target image pattern with the reference image pattern to detect the defect.

【0015】この発明に係る請求項4に記載の画像パタ
ーンの検査装置は、請求項3に記載の画像パターンの検
査装置において、(f)基準値を設定する手段と、
(g)前記手段(e)で検出される欠陥の個数を計数す
る手段と、(h)前記手段(g)で計数した前記欠陥の
個数と前記手段(f)で設定される前記基準値との大小
の比較を行いその結果を信号として出力する手段と、を
更に備えるものである。
An image pattern inspection apparatus according to a fourth aspect of the present invention is the image pattern inspection apparatus according to the third aspect, further comprising (f) means for setting a reference value,
(G) means for counting the number of defects detected by the means (e), (h) number of the defects counted by the means (g), and the reference value set by the means (f) And a means for outputting the result as a signal.

【0016】この発明に係る請求項5に記載の画像パタ
ーンの検査装置は、請求項4に記載の画像パターンの検
査装置において、(i)前記欠陥の個数が前記基準値を
超えることに対応する信号を前記手段(h)が出力した
ときに、前記手段(c)が前記複数の記憶手段の中から
新たな1を選択して新たな前記基準画像パターンを得る
よう前記手段(c)を動作させる手段、を更に備えるも
のである。
An image pattern inspection apparatus according to a fifth aspect of the present invention is the image pattern inspection apparatus according to the fourth aspect, which corresponds to (i) the number of defects exceeds the reference value. When the means (h) outputs a signal, the means (c) operates the means (c) to select a new 1 from the plurality of storage means and obtain a new reference image pattern. And means for causing it to be provided.

【0017】この発明に係る請求項6に記載の画像パタ
ーンの検査装置は、請求項5に記載の画像パターンの検
査装置において、(j)前記欠陥の個数が前記基準値を
超えることに対応する信号を前記手段(h)が出力した
ときに、前記手段(e)の動作を中断させ、その動作を
はじめから行うべく制御する手段、を更に備えるもので
ある。
An image pattern inspection apparatus according to a sixth aspect of the present invention is the image pattern inspection apparatus according to the fifth aspect, which corresponds to (j) the number of defects exceeds the reference value. It further comprises means for interrupting the operation of the means (e) when the signal is output by the means (h) and controlling the operation to be performed from the beginning.

【0018】[0018]

【作用】この発明における画像パターンの検査方法及び
その装置では、複数の記憶手段、例えば高速読み出しが
可能な半導体メモリを準備して、複数種類の検査対象画
像パターンと比較すべき複数の基準画像パターンの各1
を、複数の記憶手段の各1にあらかじめ記憶信号として
記憶させておき、検査対象画像パターンと比較すべき基
準パターンを複数の記憶手段の中から1を選択すること
により読み出して欠陥の検出を行うので、両主面に配線
パターンを有するプリント配線板の配線パターンの検
査、あるいは複数種類のプリント配線板の配線パターン
の検査等を能率よく行うことができる(請求項1〜
6)。
In the image pattern inspection method and apparatus according to the present invention, a plurality of storage means, for example, a semiconductor memory capable of high-speed reading are prepared, and a plurality of reference image patterns to be compared with a plurality of types of inspection target image patterns. Each 1
Is stored in advance in each of the plurality of storage means as a storage signal, and the reference pattern to be compared with the image pattern to be inspected is read out by selecting 1 from the plurality of storage means to detect a defect. Therefore, the inspection of the wiring patterns of the printed wiring board having the wiring patterns on both main surfaces, the inspection of the wiring patterns of a plurality of types of printed wiring boards, and the like can be efficiently performed.
6).

【0019】また、検査対象画像パターンを基準画像パ
ターンと比較してその欠陥の検出を行う中で、欠陥の個
数を計数して所定の基準値を超えて欠陥の個数が大とな
ったときには、欠陥の検出を中断して、複数の記憶手段
の中から他の1を選択して新たな基準パターンを読み出
して、再度欠陥の検出をやり直すので、基準画像パター
ンの種類と検査すべき画像パターンの種類とが誤って対
応していないときでも、誤りを短時間で発見して、欠陥
の検出をやり直すことができる(請求項2、4〜6)。
When the inspection target image pattern is compared with the reference image pattern to detect the defect, when the number of defects is counted and the number of defects exceeds a predetermined reference value, The defect detection is interrupted, another 1 is selected from the plurality of storage means to read a new reference pattern, and the defect detection is performed again. Therefore, the type of the reference image pattern and the image pattern to be inspected are determined. Even when the type does not correspond by mistake, the error can be detected in a short time and the defect can be detected again (claims 2, 4 to 6).

【0020】特に、欠陥の検出及び欠陥の個数の計数を
自動的に行いかつ、所定の基準値を超えて欠陥の個数が
大となったときには、自動的に複数の記憶手段の中から
他の1を選択して新たな基準パターンを読み出すので、
基準画像パターンの種類と検査すべき画像パターンの種
類とが誤って対応していないときでも、より効率よく欠
陥の検出を行うことができる(請求項5、6)。
In particular, the number of defects is automatically detected and the number of defects is automatically detected, and when the number of defects exceeds a predetermined reference value, the number of defects is automatically increased from other storage means. Since 1 is selected and a new reference pattern is read out,
Even when the type of the reference image pattern and the type of the image pattern to be inspected do not correspond by mistake, the defect can be detected more efficiently (claims 5 and 6).

【0021】更に、欠陥の検出及び欠陥の個数の計数を
自動的に行いかつ、所定の基準値を超えて欠陥の個数が
大となったときには、自動的に複数の記憶手段の中から
他の1を選択して新たな基準パターンを読み出すととも
に、自動的に欠陥の検出を始めからやり直すので、更に
効率よく欠陥の検出を実行することができる(請求項
6)。
Further, the detection of defects and the counting of the number of defects are automatically performed, and when the number of defects exceeds a predetermined reference value and becomes large, other defects are automatically selected from a plurality of storage means. Since 1 is selected to read a new reference pattern and the defect detection is automatically restarted from the beginning, the defect detection can be executed more efficiently (claim 6).

【0022】なお、この発明において複数の記憶手段と
は、記憶手段の複数の記憶領域をも包含した概念であ
る。
In the present invention, the plurality of storage means is a concept including a plurality of storage areas of the storage means.

【0023】[0023]

【実施例】【Example】

[実施例1]図1はこの発明の一実施例である、表裏両
主面に配線パターンを有するプリント配線板の配線パタ
ーンの検査を行う、画像パターンの検査方法の概略手順
を示すフローチャートである。両主面の配線パターンは
一般には互いに異なる種類の配線パターンである。図2
は同じくこの発明の一実施例であり、図1のフローチャ
ートに示される方法を実現する画像パターンの検査装置
の概略ブロック図である。
[Embodiment 1] FIG. 1 is a flow chart showing an outline procedure of an image pattern inspection method for inspecting a wiring pattern of a printed wiring board having wiring patterns on both front and back main surfaces according to an embodiment of the present invention. .. The wiring patterns on both main surfaces are generally different types of wiring patterns. Figure 2
2 is a schematic block diagram of an image pattern inspection apparatus for implementing the method shown in the flowchart of FIG. 1, which is also an embodiment of the present invention.

【0024】画像パターンの検査装置は、複数の記憶手
段として2つの半導体メモリSM1及びSM2を備えて
おり、これらの半導体メモリSM1、SM2の何れかに
書き込み又は読み出しを行う際にセレクタSL5でこれ
らの何れかを択一的に選択できるように構成される。セ
レクタSL5はセレクタSL2に接続される。半導体メ
モリSM1及びSM2は、半導体記憶素子を記憶媒体と
するもので、高速での書き込み及び読み出しが可能であ
り、各1は1枚のプリント配線板2の片面の配線パター
ンに対応するマスターデータMSを格納し得る大きさの
記憶容量を有している。セレクタSL5も、外部記憶装
置8、及びセレクタSL1、並びにSL2と同様に、操
作部9が備えるキーボード(図示しない)を手動で操作
することにより動作する。
The image pattern inspection apparatus includes two semiconductor memories SM1 and SM2 as a plurality of storage means, and the selector SL5 selects one of these semiconductor memories SM1 and SM2 for writing or reading. It is configured such that any one of them can be selectively selected. Selector SL5 is connected to selector SL2. The semiconductor memories SM1 and SM2 use a semiconductor storage element as a storage medium and can perform writing and reading at high speed. Each 1 is a master data MS corresponding to a wiring pattern on one side of one printed wiring board 2. Has a storage capacity large enough to store Similarly to the external storage device 8, the selectors SL1 and SL2, the selector SL5 also operates by manually operating a keyboard (not shown) included in the operation unit 9.

【0025】2つの半導体メモリSM1、SM2は、各
々半導体メモリの2つの記憶領域であってもよい。 <基準パターンの作成と記憶の工程:ステップS1〜S
4>画像パターンの検査を行うには、まずステップS1
で半導体メモリSM1を選択する。すなわち、操作部9
を操作することにより、セレクタSL5を半導体メモリ
SM1側に接続する。
The two semiconductor memories SM1 and SM2 may each be two storage areas of the semiconductor memory. <Step of creating and storing reference pattern: steps S1 to S
4> In order to inspect the image pattern, first, step S1
The semiconductor memory SM1 is selected with. That is, the operation unit 9
The selector SL5 is connected to the semiconductor memory SM1 side by operating.

【0026】次に、ステップS2では、半導体メモリS
M1にプリント配線板2の第1の主面の基準とすべき配
線パターンに関するマスターデータMSを記憶する。す
なわち、第1の主面に欠陥のない基準とすべき配線パタ
ーンを有するプリント配線板2を選び、第1の主面を読
取装置3で読み取るように搬送テーブル1に載置する。
セレクタSL1をセレクタSL2の側に接続し、セレク
タSL2をセレクタSL1の側に接続することにより、
マスターデータMSが半導体メモリSM1へ出力され、
半導体メモリSM1はこれを記憶する。半導体メモリS
M1への高速での書き込みが可能であるために、基準と
すべきプリント配線板2の配線パターンを読取装置3に
より画素毎に読み取る速度に合わせて、同一速度で半導
体メモリSM1へのマスターデータMSの書き込み処理
が進行する。
Next, in step S2, the semiconductor memory S
The master data MS regarding the wiring pattern to be the reference of the first main surface of the printed wiring board 2 is stored in M1. That is, the printed wiring board 2 having a wiring pattern to be used as a reference having no defect on the first main surface is selected and placed on the transport table 1 so that the first main surface is read by the reading device 3.
By connecting the selector SL1 to the selector SL2 side and the selector SL2 to the selector SL1 side,
The master data MS is output to the semiconductor memory SM1,
The semiconductor memory SM1 stores this. Semiconductor memory S
Since high-speed writing into M1 is possible, the master data MS to the semiconductor memory SM1 is read at the same speed in accordance with the reading speed of the wiring pattern of the printed wiring board 2 to be the reference for each pixel by the reading device 3. Writing process proceeds.

【0027】次に、ステップS3では、半導体メモリS
M2を選択する。すなわち、操作部9を操作することに
より、セレクタSL5を半導体メモリSM2側に接続す
る。
Next, in step S3, the semiconductor memory S
Select M2. That is, by operating the operation unit 9, the selector SL5 is connected to the semiconductor memory SM2 side.

【0028】ステップS4では、半導体メモリSM2に
プリント配線板2の第2の主面(第1の主面と表裏の関
係にある主面)の基準とすべき配線パターンに関するマ
スターデータMSを記憶する。すなわち、第2の主面に
欠陥のない基準とすべき配線パターンを有するプリント
配線板2を選び、第2の主面を読取装置3で読み取るよ
うに搬送テーブル1に載置する。セレクタSL1をセレ
クタSL2の側に接続し、セレクタSL2をセレクタS
L1の側に接続することにより、マスターデータMSが
半導体メモリSM2へ出力され、半導体メモリSM2は
これを記憶する。半導体メモリSM1の場合と同様に、
基準とすべきプリント配線板2の配線パターンを読取装
置3により画素毎に読み取る速度に合わせて、同一速度
で半導体メモリSM2へのマスターデータMSの書き込
み処理が進行する。 <検査の工程:ステップS5〜S10>次にステップS
5では、検査すべき配線パターンを有するプリント配線
板2を用意する。例えば、抜取り検査においては検査す
べきプリント配線板2を製造ラインの中から抜き取る。
In step S4, master data MS relating to a wiring pattern to be used as a reference for the second main surface of the printed wiring board 2 (a main surface having a front and back relationship with the first main surface) is stored in the semiconductor memory SM2. .. That is, the printed wiring board 2 having a wiring pattern to be a reference having no defect on the second main surface is selected and placed on the transport table 1 so that the second main surface is read by the reading device 3. The selector SL1 is connected to the selector SL2 side, and the selector SL2 is connected to the selector S.
By connecting to the L1 side, the master data MS is output to the semiconductor memory SM2, and the semiconductor memory SM2 stores it. Similar to the case of the semiconductor memory SM1,
The writing process of the master data MS to the semiconductor memory SM2 proceeds at the same speed according to the speed at which the reading device 3 reads the wiring pattern of the printed wiring board 2 to be the reference for each pixel. <Inspection process: steps S5 to S10> Next step S
In 5, a printed wiring board 2 having a wiring pattern to be inspected is prepared. For example, in the sampling inspection, the printed wiring board 2 to be inspected is extracted from the manufacturing line.

【0029】次に、ステップS6では、半導体メモリS
M1、SM2の中から1を選択する。例えば、半導体メ
モリSM1を選択する。すなわち、操作部9を操作する
ことにより、セレクタSL5を半導体メモリSM1側に
接続する。
Next, in step S6, the semiconductor memory S
Select 1 from M1 and SM2. For example, the semiconductor memory SM1 is selected. That is, by operating the operation unit 9, the selector SL5 is connected to the semiconductor memory SM1 side.

【0030】ステップS7では、ステップS5で用意し
たプリント配線板2の主面の1の配線パターンに関する
検査を実行する。まず、ステップS4で選択した半導体
メモリの1(この例では半導体メモリSM1)に記憶さ
れるマスターデータMSを基準とすべき配線パターンを
有する主面である第1の主面を読取装置3で読み取るこ
とを意図して、プリント配線板2を搬送テーブル1に載
置し、セレクタSL1を差分検出装置7の側に接続す
る。セレクタSL2は差分検出装置7の側に接続され
る。このとき、2値化処理部5からは検査すべき配線パ
ターンの2値化パターンデータであるオブジェクトデー
タOSが差分検出装置7の入力の1へ出力される。差分
検出装置7の入力の他の1には、半導体メモリSM1か
ら読み出されるマスターデータMSが出力される。
In step S7, an inspection is performed on one wiring pattern on the main surface of the printed wiring board 2 prepared in step S5. First, the reading device 3 reads the first main surface, which is the main surface having the wiring pattern that should be based on the master data MS stored in the semiconductor memory 1 (semiconductor memory SM1 in this example) selected in step S4. With this in mind, the printed wiring board 2 is placed on the transport table 1 and the selector SL1 is connected to the difference detection device 7 side. The selector SL2 is connected to the difference detection device 7 side. At this time, the binarization processing unit 5 outputs the object data OS, which is the binarized pattern data of the wiring pattern to be inspected, to the input 1 of the difference detection device 7. The master data MS read from the semiconductor memory SM1 is output to the other input 1 of the difference detection device 7.

【0031】図3は差分検出装置7の内部構造を示すブ
ロック図である。オブジェクトデータOSを入力する評
価区画設定部14a、及びマスターデータMSを入力す
る評価区画設定部14bは、各々マスターデータMS及
びオブジェクトデータOSに評価区画CRを設定する。
評価区画CRは、図4に示すようにオブジェクトデータ
OS又はマスターデータMSを所定のサイズ(この例で
は20x20画素)の領域に分割したものである。評価
区画設定部14a、14bは評価区画CR毎に、それぞ
れ、オブジェクトデータOSの評価区画CRに対応する
部分(評価オブジェクトデータOD)、及びマスターデ
ータMSの評価区画CRに対応する部分(評価マスター
データMD)を比較部15へ出力する。
FIG. 3 is a block diagram showing the internal structure of the difference detection device 7. The evaluation section setting unit 14a that inputs the object data OS and the evaluation section setting unit 14b that inputs the master data MS set the evaluation section CR in the master data MS and the object data OS, respectively.
The evaluation section CR is obtained by dividing the object data OS or the master data MS into areas of a predetermined size (20 × 20 pixels in this example) as shown in FIG. For each evaluation section CR, the evaluation section setting units 14a and 14b respectively correspond to the evaluation section CR of the object data OS (evaluation object data OD) and the section corresponding to the evaluation section CR of the master data MS (evaluation master data). MD) to the comparison unit 15.

【0032】比較部15は、入力される評価オブジェク
トデータODと評価マスターデータMDとの間で、互い
に同一位置にある画素毎に排他的論理和を演算し、演算
結果である差分データDISを判定回路10へ出力す
る。これにより差分データDISは、評価オブジェクト
データODと評価マスターデータMDの間の不一致部分
に相当する画素において”1”をとり、一致部分に相当
する画素において”0”をとる。高速での読み出しが可
能な半導体メモリSM1を用意して、これに基準とすべ
きマスターデータMSを記憶させているので、検査を行
うべきプリント配線板2の配線パターンを読取装置3に
より画素毎に読み取る速度に合わせて、同一速度で差分
検出装置7において差分データDISを作成する処理が
進行する。
The comparing section 15 calculates the exclusive OR between the input evaluation object data OD and the evaluation master data MD for each pixel at the same position, and determines the difference data DIS which is the calculation result. Output to the circuit 10. As a result, the difference data DIS takes "1" at the pixel corresponding to the non-coincidence portion between the evaluation object data OD and the evaluation master data MD and takes "0" at the pixel corresponding to the coincidence portion. Since the semiconductor memory SM1 capable of high-speed reading is prepared and the master data MS to be the reference is stored in the semiconductor memory SM1, the wiring pattern of the printed wiring board 2 to be inspected is read by the reading device 3 for each pixel. The process of creating the difference data DIS in the difference detection device 7 proceeds at the same speed according to the reading speed.

【0033】判定回路10は画素オペレータOPを用い
て、差分データDISにおける欠陥の有無を判定する。
画素オペレータOPは、図5に示すように所定の広さ
(この例では、3x3画素の広さ)を有する互いに隣合
う画素の集まりである。判定回路10は、差分データD
ISにおける”1”を有する画素の領域Dの中で、画素
オペレータOPに一致する部分又は画素オペレータOP
を包含し得る部分が1箇所でもあれば、欠陥有りと判定
し、評価区画CRの位置と共に判定結果を出力する。判
定結果に対応する出力信号は、例えば、欠陥有りの場合
には値”1”を出力し、欠陥なしの場合には値”0”を
出力する。判定回路10からの出力は、表示装置本体1
1aに入力され、表示装置本体11aはディスプレー1
1bに、欠陥有りと判定された評価区画CRの位置を表
示する。
The decision circuit 10 decides the presence or absence of a defect in the difference data DIS by using the pixel operator OP.
The pixel operator OP is a group of adjacent pixels each having a predetermined area (in this example, an area of 3 × 3 pixels) as shown in FIG. The determination circuit 10 determines the difference data D
In the area D of the pixel having "1" in IS, a portion that matches the pixel operator OP or the pixel operator OP
If there is at least one part that can include, it is determined that there is a defect, and the determination result is output together with the position of the evaluation section CR. As the output signal corresponding to the determination result, for example, the value "1" is output when there is a defect, and the value "0" is output when there is no defect. The output from the determination circuit 10 is the display device body 1
1a, the display device main body 11a is displayed on the display 1
The position of the evaluation section CR determined to have a defect is displayed in 1b.

【0034】判定回路10からの出力は、表示装置11
と同時にカウンタ16へも入力される。カウンタ16
は、判定回路10から出力される欠陥有りの判定に対応
する信号、例えば値”1”の個数(欠陥の個数)を計数
する回路である。カウンタ16は計数した結果に相当す
る信号、例えば2進数値を比較器17へ出力する。比較
器17にはカウンタ16の出力と同時に基準値設定部1
8からの出力をも入力される。基準値設定部18では、
手操作によりあらかじめ数値を設定し、設定された数値
に対応する信号、例えば2進数値を比較器17へ出力す
る。プリント配線板2の検査すべき主面とは逆の主面を
読取装置3で読み取るべく、誤って搬送テーブル1に載
置した場合には、判定回路10では大多数の評価区画C
Rに対して欠陥有りと判定される。基準値設定部18で
設定される数値は、プリント配線板2の検査すべき主面
でない逆の主面を誤って読み取ったことを検知するのに
適当な、欠陥有りと判定される評価区画CRの十分大き
な個数に対応するように設定される。
The output from the determination circuit 10 is the display device 11
At the same time, it is also input to the counter 16. Counter 16
Is a circuit for counting a signal output from the determination circuit 10 corresponding to the determination of a defect, for example, the number of values “1” (the number of defects). The counter 16 outputs a signal corresponding to the counting result, for example, a binary value to the comparator 17. The comparator 17 outputs to the reference value setting unit 1 at the same time as the output of the counter 16.
The output from 8 is also input. In the reference value setting unit 18,
A numerical value is set in advance by manual operation, and a signal corresponding to the set numerical value, for example, a binary value is output to the comparator 17. When the main surface of the printed wiring board 2 opposite to the main surface to be inspected is erroneously placed on the transport table 1 so that the reading device 3 can read it, the determination circuit 10 determines the majority of evaluation sections C.
It is determined that R is defective. The numerical value set by the reference value setting unit 18 is an evaluation section CR that is determined to have a defect, which is appropriate for detecting that the opposite main surface of the printed wiring board 2 which is not the main surface to be inspected is erroneously read. Is set to correspond to a sufficiently large number of.

【0035】比較器17は、前記2つの入力信号が表現
する数値の間で大きさの比較を行い、カウンタ16から
出力される数値が基準値設定部18から出力される数値
を超えて大きくなった時には、所定の信号、例えば数
値”1”を出力する。第1の主面の配線パターンを読み
取るべく正常にプリント配線板2が搬送テーブル1に置
かれておれば、検査の中途で比較器17から値”1”を
出力することはなく、正常に検査を終了する。正常に検
査を終了すると、搬送テーブル1は検査開始前の位置に
戻される(ステップS7の終了)。
The comparator 17 compares the magnitudes of the numerical values represented by the two input signals, and the numerical value output from the counter 16 becomes larger than the numerical value output from the reference value setting section 18. Then, a predetermined signal, for example, a numerical value "1" is output. If the printed wiring board 2 is normally placed on the transport table 1 in order to read the wiring pattern on the first main surface, the comparator 17 does not output the value "1" during the inspection, and the inspection is performed normally. To finish. When the inspection is normally completed, the transport table 1 is returned to the position before the start of the inspection (end of step S7).

【0036】つづいて、ステップS8へ至って、ステッ
プS7で検査のために選択した半導体メモリSM1とは
異なる、半導体メモリSM2を選択する。すなわち、操
作部9を操作することにより、セレクタSL5を半導体
メモリSM2側に接続する。つぎに、ステップS9へ至
って、ステップS7で検査の対象とした第1の主面とは
異なる、第2の主面の配線パターンを読取装置3で読み
取るべくプリント配線板2を搬送テーブル1に載置した
後に、配線パターンの検査を実行する。ステップS9で
はステップS7と同様の手順で検査を実行する。
Subsequently, in step S8, a semiconductor memory SM2 different from the semiconductor memory SM1 selected for inspection in step S7 is selected. That is, by operating the operation unit 9, the selector SL5 is connected to the semiconductor memory SM2 side. Next, in step S9, the printed wiring board 2 is placed on the transport table 1 so that the reading device 3 can read the wiring pattern of the second main surface, which is different from the first main surface that was the object of inspection in step S7. After the placement, the wiring pattern is inspected. In step S9, the inspection is performed in the same procedure as in step S7.

【0037】ステップS7において、誤って第2の主面
の配線パターンを読み取るべくプリント配線板2が搬送
テーブル1に置かれておれば、検査の中途で比較器17
から値”1”が出力される。比較器17からの出力はコ
ントローラ19へ入力される。コントローラ19は入力
信号に応じて、表示器21を制御すると同時に、モータ
20の動作、及びセレクタSL5を制御する。モータ2
0はプリント配線板2を載置した搬送テーブル1を駆動
する。コントローラ19への入力信号が”1”となった
時には、コントローラ19は、搬送テーブル1を検査開
始直前の位置に戻すべくモータ20を駆動し、誤って載
置された旨を報知する光、又は音声等を放出すべく表示
器21を駆動し、セレクタSL5を半導体メモリSM2
の側に接続すべく動作させる。その後、半導体メモリS
M2のマスターデータMSを比較すべき基準データとし
て利用し、誤って搬送テーブル1に設置したプリント配
線板2はそのままの状態で、再び検査を始めから行う。
すなわち、プリント配線板2の第2の主面の配線パター
ンの検査を上記と同様の手順で実施する。上記と同様の
手順で検査を実行するが、この場合には、検査すべき主
面と基準とすべきマスターデータMSとが互いに誤りな
く対応しており、検査の中途で比較器17から値”1”
を出力することはなく、正常に検査を終了する(ステッ
プ7の終了)。 つづいて、ステップS8へ至って、ス
テップS7で検査のために最終的に選択した半導体メモ
リSM2とは異なる、半導体メモリSM1を選択する。
すなわち、操作部9を操作することにより、セレクタS
L5を半導体メモリSM1側に接続する。つぎに、ステ
ップS9へ至って、ステップS7で最終的に検査の対象
とした第2の主面とは異なる、第1の主面の配線パター
ンを読取装置3で読み取るべくプリント配線板2を搬送
テーブル1に載置した後に、配線パターンの検査を実行
する。ステップS9ではステップS7と同様の手順で検
査を実行する。
In step S7, if the printed wiring board 2 is placed on the carrier table 1 in order to read the wiring pattern on the second main surface by mistake, the comparator 17 is in the middle of the inspection.
The value "1" is output from. The output from the comparator 17 is input to the controller 19. The controller 19 controls the display 21 at the same time as the operation of the motor 20 and the selector SL5 according to the input signal. Motor 2
0 drives the transport table 1 on which the printed wiring board 2 is placed. When the input signal to the controller 19 becomes "1", the controller 19 drives the motor 20 so as to return the transport table 1 to the position immediately before the start of the inspection, and a light for notifying that it has been erroneously placed, or The display 21 is driven to emit sound and the selector SL5 is set to the semiconductor memory SM2.
Operate to connect to. After that, the semiconductor memory S
Using the master data MS of M2 as reference data to be compared, the printed wiring board 2 erroneously installed on the transport table 1 is left as it is, and the inspection is performed again from the beginning.
That is, the inspection of the wiring pattern on the second main surface of the printed wiring board 2 is performed in the same procedure as described above. The inspection is executed in the same procedure as described above, but in this case, the main surface to be inspected and the master data MS to be the reference correspond to each other without error, and the value from the comparator 17 is detected in the middle of the inspection. 1 "
Is not output and the inspection ends normally (end of step 7). Subsequently, in step S8, a semiconductor memory SM1 different from the semiconductor memory SM2 finally selected for inspection in step S7 is selected.
That is, by operating the operating unit 9, the selector S
L5 is connected to the semiconductor memory SM1 side. Next, in step S9, the printed wiring board 2 is moved so that the reading device 3 can read the wiring pattern of the first main surface, which is different from the second main surface finally inspected in step S7. After mounting on No. 1, the wiring pattern is inspected. In step S9, the inspection is performed in the same procedure as in step S7.

【0038】図6は、モータ20の駆動による搬送テー
ブル1の移動の様子を示す、搬送テーブル1の動作説明
図である。ステップS7又はS9でプリント配線板2の
検査を開始する前には、搬送テーブル1は所定の準備位
置にある。ステップS7又はS9で検査を開始すると、
搬送テーブル1は、プリント配線板2の一端が読取装置
3の真下に位置する直前まで高速度で送られ、その後は
検査に必要な比較的低速度(検査速度)で送られる。検
査速度で送られる間に、プリント配線板2の配線パター
ンの検査が進行する。検査の過程で比較器17に入力さ
れる欠陥の個数が基準値を超えて大きくなると、搬送テ
ーブル1はプリント配線板2の一端が読取装置3の真下
に位置する地点まで戻され、セレクタSL5が、その接
続する半導体メモリSM1、又はSM2を互いに他の1
に切り換えるべく動作する。その後、再び検査速度で搬
送テーブル1が送られ、その間に検査が進行する。
FIG. 6 is an explanatory view of the operation of the carrying table 1 showing how the carrying table 1 is moved by driving the motor 20. Before the inspection of the printed wiring board 2 is started in step S7 or S9, the transport table 1 is at a predetermined preparation position. When the inspection is started in step S7 or S9,
The transport table 1 is transported at a high speed until just before one end of the printed wiring board 2 is positioned directly below the reading device 3, and thereafter at a relatively low speed (inspection speed) required for inspection. The inspection of the wiring pattern of the printed wiring board 2 proceeds while being sent at the inspection speed. When the number of defects input to the comparator 17 becomes larger than the reference value during the inspection process, the transport table 1 is returned to a point where one end of the printed wiring board 2 is located directly below the reading device 3, and the selector SL5 is set. , The semiconductor memory SM1 or SM2 to be connected to each other
It works to switch to. After that, the transport table 1 is sent again at the inspection speed, and the inspection progresses during that time.

【0039】ステップS9を終了したときには、プリン
ト配線板2の両主面の配線パターンの検査が終了してい
る。ステップS9につづいてステップS10へ至り、他
のプリント配線板2を検査すべきかどうかを判断し、他
のプリント配線板2を検査すべきであれば、ステップS
5へ至り、新たな検査すべきプリント配線板2を用意す
る。ステップS10で、他のプリント配線板2を検査す
る必要がないと判断するならば、検査を終了する。
When step S9 is completed, the inspection of the wiring patterns on both main surfaces of the printed wiring board 2 is completed. Step S9 is followed by step S10, in which it is determined whether another printed wiring board 2 should be inspected. If another printed wiring board 2 should be inspected, step S10 is performed.
5, a new printed wiring board 2 to be inspected is prepared. If it is determined in step S10 that it is not necessary to inspect another printed wiring board 2, the inspection is ended.

【0040】ステップS7、S9において、正常に検査
を終了した時点で、欠陥と認められた中に、基準パター
ンの側に欠陥が存在する場合がある。このとき、半導体
メモリSM1又はSM2に記憶するマスターデータMS
の中の上記欠陥に対応する部分を書換えて修正する。キ
ーボード11cを操作することにより、半導体メモリS
M1又はSM2に記憶されたマスターデータMSを表示
装置本体11aへ読み出し、読みだしたマスターデータ
MSの中のディスプレー11bに表示された欠陥箇所を
逐一、キーボード11cを操作することにより修正す
る。修正されたマスターデータMSは、キーボード11
cを操作することにより、表示装置本体11aから、元
の半導体メモリSM1又はSM2へ書き込まれる。検査
を実行する毎にマスターデータMSを修正することによ
り、検査の回数を重ねるに伴ってマスターデータMSは
欠陥の無いマスターデータMSに近づく。
In steps S7 and S9, there is a case where a defect exists on the side of the reference pattern among the defects that are recognized when the inspection is normally completed. At this time, the master data MS stored in the semiconductor memory SM1 or SM2
The part corresponding to the above-mentioned defect in is rewritten and corrected. By operating the keyboard 11c, the semiconductor memory S
The master data MS stored in M1 or SM2 is read out to the display device main body 11a, and the defective portion displayed on the display 11b in the read master data MS is corrected by operating the keyboard 11c one by one. The corrected master data MS is the keyboard 11
By operating c, data is written from the display device main body 11a to the original semiconductor memory SM1 or SM2. By correcting the master data MS every time the inspection is performed, the master data MS approaches the defect-free master data MS as the number of inspections increases.

【0041】1つの種類のプリント配線板2の検査が終
了して、別の種類のプリント配線板2の検査に移行する
ときには、半導体メモリSM1及びSM2に記憶するマ
スターデータMSを外部記憶装置8に書き込んで保存す
る。このとき、セレクタSL2は外部記憶装置8を選択
して接続する。このようにして、外部記憶装置8には一
般に複数種類のプリント配線板2のマスターデータMS
が保存され、これらの中のマスターデータMSと比較す
べきプリント配線板2の配線パターンの検査を行うとき
には、新たにマスターデータMSを作成する必要はな
く、外部記憶装置8からマスターデータMSを読み出し
て半導体メモリSM1、SM2へ書き込むだけでよい。
このときにも、セレクタSL2は外部記憶装置8を選択
する。
When the inspection of one type of printed wiring board 2 is completed and the process proceeds to the inspection of another type of printed wiring board 2, the master data MS stored in the semiconductor memories SM1 and SM2 is stored in the external storage device 8. Write and save. At this time, the selector SL2 selects and connects the external storage device 8. In this way, the external storage device 8 generally stores the master data MS of a plurality of types of printed wiring boards 2.
Is stored, and when inspecting the wiring pattern of the printed wiring board 2 to be compared with the master data MS among them, it is not necessary to newly create the master data MS, and the master data MS is read from the external storage device 8. It is only necessary to write to the semiconductor memories SM1 and SM2.
Also at this time, the selector SL2 selects the external storage device 8.

【0042】この実施例では以上のように、表裏両主面
の検査対象画像パターンと比較すべき2種類の基準画像
パターンの各1を、2個の半導体メモリの各1にあらか
じめ記憶信号として記憶させておき、検査対象画像パタ
ーンと比較すべき基準パターンを2個の半導体メモリの
中から1を選択することにより読み出して欠陥の検出を
行うので、表裏両主面に配線パターンを有するプリント
配線板の配線パターンの検査を効率よく行うことができ
る。特に、基準画像パターンと検査すべき画像パターン
とが誤って対応していないときでも、誤りを自動的に短
時間で発見しかつ選択すべき半導体メモリを切り換え
て、自動的に欠陥の検出をやり直すので更に効率よく表
裏両主面に配線パターンを有するプリント配線板の配線
パターンの検査を行うことができる。
In this embodiment, as described above, each one of the two types of reference image patterns to be compared with the image patterns to be inspected on the front and back main surfaces is stored in advance as a storage signal in each one of the two semiconductor memories. Then, the reference pattern to be compared with the image pattern to be inspected is read out by selecting 1 from the two semiconductor memories to detect defects. Therefore, a printed wiring board having wiring patterns on both front and back main surfaces. The wiring pattern can be efficiently inspected. In particular, even when the reference image pattern and the image pattern to be inspected do not correspond by mistake, the error is automatically detected in a short time and the semiconductor memory to be selected is switched, and the defect is automatically detected again. Therefore, it is possible to more efficiently inspect the wiring pattern of the printed wiring board having the wiring patterns on the front and back main surfaces.

【0043】[実施例2]図7は、図1の概略フローチ
ャートに示される表裏両主面に配線パターンを有するプ
リント配線板の配線パターンの検査を行う方法を実現す
る第2の実施例である、画像パターンの検査装置の概略
ブロック図である。この実施例による装置は、CAD1
2を用いて作成された画像パターンを基にマスターデー
タMSを得る点が第1の実施例とは異なる。CAD12
で作成された2値化画像パターンは補正回路13へ入力
される。補正回路13は、CAD12から送られた2値
化画像パターンに所定の補正を加えて出力する。補正回
路13からの出力は、マスターデータMSとして外部記
憶装置8へ入力され、外部記憶装置8はこれを記憶す
る。このときセレクタSL3は補正回路13の側に接続
されている。
[Embodiment 2] FIG. 7 is a second embodiment for realizing a method for inspecting a wiring pattern of a printed wiring board having wiring patterns on both front and back main surfaces shown in the schematic flow chart of FIG. FIG. 3 is a schematic block diagram of an image pattern inspection device. The device according to this embodiment is CAD1
This is different from the first embodiment in that the master data MS is obtained based on the image pattern created by using No. 2. CAD12
The binarized image pattern created in 1 is input to the correction circuit 13. The correction circuit 13 adds a predetermined correction to the binarized image pattern sent from the CAD 12 and outputs it. The output from the correction circuit 13 is input to the external storage device 8 as master data MS, and the external storage device 8 stores this. At this time, the selector SL3 is connected to the correction circuit 13 side.

【0044】外部記憶装置8は、実施例1による装置と
同様に通常複数種類の配線パターンに対応する複数種類
のマスターデータMSを記憶している。両主面に配線パ
ターンを有するプリント配線板2の検査を行うときに
は、複数種類のマスターデータMSの中から、検査のた
めに必要な特定の2種類のマスターデータMSを選択し
て、それぞれ半導体メモリSM1と半導体メモリSM2
へ出力し、半導体メモリSM1、SM2の記憶する内容
を新たなマスターデータMSで書き換える(ステップS
2、S4)。このときには、セレクタSL3はセレクタ
SL4の側に接続され、セレクタSL4はセレクタSL
3の側に接続される。半導体メモリSM1へマスターデ
ータMSを出力し記憶させる(ステップS2)に先だっ
て、セレクタSL5はあらかじめ半導体メモリSM1の
側に接続しておき(ステップS1)、半導体メモリSM
2へマスターデータMSを出力し記憶させる(ステップ
S4)に先だって、セレクタSL5はあらかじめ半導体
メモリSM2の側に接続しておく(ステップS3)。セ
レクタSL3、SL4、並びにSL5、及び外部記憶装
置8は操作部9の操作により動作する。ステップS5以
下の動作は代表例の1と同様である。ステップS5以下
の工程では、セレクタSL4は差分検出装置7の側に接
続される。
The external storage device 8 normally stores a plurality of types of master data MS corresponding to a plurality of types of wiring patterns, like the device according to the first embodiment. When the printed wiring board 2 having wiring patterns on both main surfaces is inspected, two specific types of master data MS required for inspection are selected from a plurality of types of master data MS, and the semiconductor memories are respectively selected. SM1 and semiconductor memory SM2
To the semiconductor memories SM1 and SM2 and rewrite the contents stored in the semiconductor memories SM1 and SM2 with new master data MS (step S
2, S4). At this time, the selector SL3 is connected to the selector SL4 side, and the selector SL4 is connected to the selector SL.
3 side is connected. Prior to outputting and storing the master data MS to the semiconductor memory SM1 (step S2), the selector SL5 is connected to the semiconductor memory SM1 side in advance (step S1).
Prior to outputting and storing the master data MS to 2 (step S4), the selector SL5 is connected to the semiconductor memory SM2 side in advance (step S3). The selectors SL3, SL4, SL5, and the external storage device 8 operate by operating the operation unit 9. The operation after step S5 is similar to that of the representative example 1. In steps after step S5, the selector SL4 is connected to the difference detection device 7 side.

【0045】[実施例3]図8は、この発明の第3の実
施例による画像パターンの検査方法の概略手順を示すフ
ローチャートである。図9は、図8のフローチャートに
示す方法を実現し得る画像パターンの検査装置の概略ブ
ロック図である。製造ラインに複数種類のプリント配線
板2が互いに混在して流れている中で、配線パターンの
抜取り検査を行う場合には、複数種類の配線パターンに
対応した複数種類のマスターデータMSが必要である。
例えば、両主面に配線パターンを有する2種類のプリン
ト配線板2が製造ラインに互いに混在して流れている中
で、配線パターンの抜取り検査を行う場合には、4種類
の配線パターンに対応した4種類のマスターデータMS
が必要である。この実施例による方法及び装置は、この
ような目的に利用し得るものであり、装置においては半
導体メモリが4個設けられており、それに伴ってセレク
タSL5が4個の半導体メモリSM1、SM2、SM3
及びSM4の中から択一的に選択し得る構成となってい
る。
[Third Embodiment] FIG. 8 is a flow chart showing a schematic procedure of an image pattern inspection method according to a third embodiment of the present invention. FIG. 9 is a schematic block diagram of an image pattern inspection apparatus that can implement the method shown in the flowchart of FIG. When a plurality of types of printed wiring boards 2 are mixedly flowing in the manufacturing line and a wiring pattern sampling inspection is performed, a plurality of types of master data MS corresponding to a plurality of types of wiring patterns are required. ..
For example, in the case where two types of printed wiring boards 2 having wiring patterns on both main surfaces are mixedly flowing in a manufacturing line and a wiring pattern sampling inspection is performed, four types of wiring patterns are supported. 4 types of master data MS
is necessary. The method and apparatus according to this embodiment can be used for such a purpose, and the apparatus is provided with four semiconductor memories, and accordingly the selector SL5 has four semiconductor memories SM1, SM2, SM3.
And SM4.

【0046】基準とすべき4種類の配線パターンに対応
する4種類のマスターデータMSを作成し半導体メモリ
に記憶する過程は、実施例1と同様の要領で実行され
る。すなわち、基準とすべき4種類の配線パターンを順
に読取装置3で読み取る毎に、セレクタSL5を半導体
メモリSM1から半導体メモリSM4へ順に切換えて
(ステップS11、S13、S15、及びS17)、半
導体メモリSM1から半導体メモリSM4まで順に各マ
スターデータMSを記憶する(ステップS12、S1
4、S16、及びS18)。
The process of creating the four types of master data MS corresponding to the four types of wiring patterns to be the reference and storing them in the semiconductor memory is performed in the same manner as in the first embodiment. That is, each time the reading device 3 sequentially reads the four types of wiring patterns to be the reference, the selector SL5 is sequentially switched from the semiconductor memory SM1 to the semiconductor memory SM4 (steps S11, S13, S15, and S17), and the semiconductor memory SM1. To the semiconductor memory SM4 are sequentially stored in the master data MS (steps S12 and S1).
4, S16, and S18).

【0047】次にステップS19では、検査すべき配線
パターンを有するプリント配線板2を用意する。すなわ
ち、抜取り検査において、検査すべきプリント配線板2
を製造ラインの中から抜き取る。つづいてステップS2
0では、4個の半導体メモリSM1〜SM4の中から検
査すべき配線パターンに対応するマスターデータMSを
記憶する半導体メモリの1(第1の選択による半導体メ
モリ)を選択する。すなわち、操作部9を操作すること
により、セレクタSL5を4個の半導体メモリの1に接
続する。
Next, in step S19, a printed wiring board 2 having a wiring pattern to be inspected is prepared. That is, in the sampling inspection, the printed wiring board 2 to be inspected
Is removed from the production line. Then step S2
At 0, 1 (semiconductor memory according to the first selection) of the semiconductor memory that stores the master data MS corresponding to the wiring pattern to be inspected is selected from the four semiconductor memories SM1 to SM4. That is, by operating the operation unit 9, the selector SL5 is connected to 1 of the four semiconductor memories.

【0048】ステップS21では、ステップS19で用
意したプリント配線板2の主面の1の配線パターンに関
する検査を実行する。ステップS21は、前記実施例に
おけるステップS7と同様の要領で実行される。検査す
べき配線パターンと第1の選択による半導体メモリに記
憶されるマスターデータMSとが対応していない場合に
は、この工程の中途で比較器17から値”1”が出力さ
れ、コントローラ19へ入力される。ステップS7と同
様に、コントローラ19への入力信号が”1”となった
時には、コントローラ19は、搬送テーブル1を検査開
始直前の位置に戻すべくモータ20を駆動し、誤って載
置された旨を報知する光、又は音声等を放出すべく表示
器21を駆動する。同時にコントローラ19は、セレク
タSL5を第1の選択による半導体メモリ以外の1(第
2の選択による半導体メモリ)に接続すべく動作させ
る。その後、第2の選択による半導体メモリに記憶され
るマスターデータMSを比較すべき基準データとして利
用し、搬送テーブル1に設置したプリント配線板2はそ
のままの状態で、再び検査を始めから行う。
In step S21, an inspection is performed on one wiring pattern on the main surface of the printed wiring board 2 prepared in step S19. Step S21 is executed in the same manner as step S7 in the above embodiment. When the wiring pattern to be inspected and the master data MS stored in the semiconductor memory according to the first selection do not correspond to each other, the value "1" is output from the comparator 17 in the middle of this process, and the value is output to the controller 19. Is entered. Similar to step S7, when the input signal to the controller 19 becomes "1", the controller 19 drives the motor 20 to return the transport table 1 to the position immediately before the start of the inspection, and the controller 19 is in error. The display 21 is driven so as to emit light or sound for notifying. At the same time, the controller 19 operates to connect the selector SL5 to 1 (semiconductor memory according to the second selection) other than the semiconductor memory according to the first selection. After that, the master data MS stored in the semiconductor memory according to the second selection is used as reference data to be compared, and the printed wiring board 2 installed on the transport table 1 is left as it is, and the inspection is performed again from the beginning.

【0049】第2の選択による半導体メモリに記憶され
るマスターデータMSが、なおまだ検査すべき配線パタ
ーンと対応しない場合がある。その場合には、検査の中
途で再び比較器17から値”1”が出力されコントロー
ラ19へ入力される。コントローラ19は、モータ2
0、表示器21を上記と同様に駆動するとともに、セレ
クタSL5を動作させて、第1、第2の何れとも異なる
第3の半導体メモリを選択させる。その後、第3の選択
による半導体メモリに記憶されるマスターデータMSを
比較すべき基準データとして利用して再度検査を始めか
ら行う。
The master data MS stored in the semiconductor memory according to the second selection may not yet correspond to the wiring pattern to be inspected. In that case, the value "1" is again output from the comparator 17 and input to the controller 19 in the middle of the inspection. The controller 19 uses the motor 2
0, the display 21 is driven in the same manner as described above, and the selector SL5 is operated to select the third semiconductor memory different from both the first and the second. After that, the inspection is performed again from the beginning by using the master data MS stored in the semiconductor memory according to the third selection as reference data to be compared.

【0050】第3の選択による半導体メモリに記憶され
るマスターデータMSが、なおまだ検査すべき配線パタ
ーンと対応しない場合には、検査の中途で再び比較器1
7から値”1”が出力されコントローラ19へ入力され
る。コントローラ19は、モータ20、表示器21を上
記と同様に駆動するとともに、セレクタSL5を動作さ
せて、第1、第2、第3の何れとも異なる第4の半導体
メモリを選択させる。その後、第4の選択による半導体
メモリに記憶されるマスターデータMSを比較すべき基
準データとして利用して再度検査を始めから行う。この
場合には、検査すべき主面と基準とすべきマスターデー
タMSとが互いに誤りなく対応しており、検査の中途で
比較器17から値”1”を出力することはなく、正常に
検査を終了する(ステップ21の終了)。
When the master data MS stored in the semiconductor memory according to the third selection does not correspond to the wiring pattern to be inspected yet, the comparator 1 is again in the middle of the inspection.
The value “1” is output from 7 and input to the controller 19. The controller 19 drives the motor 20 and the display 21 in the same manner as above, and operates the selector SL5 to select the fourth semiconductor memory different from any of the first, second and third semiconductor memories. Then, the inspection is performed again from the beginning by using the master data MS stored in the semiconductor memory according to the fourth selection as reference data to be compared. In this case, the main surface to be inspected and the master data MS to be the reference correspond to each other without any error, and the value "1" is not output from the comparator 17 in the middle of the inspection. Is ended (end of step 21).

【0051】第1の選択による半導体メモリから第4の
選択による半導体メモリまでの選択の順序は、あらかじ
め適当な順序、例えば半導体メモリSM1、SM2、S
M3、SM4、SM1・・・という順序を決めておくと
よい。この場合には、例えば第1の選択による半導体メ
モリがSM3であるとすれば、第2に選択すべき半導体
メモリは半導体メモリSM4、第3に選択すべき半導体
メモリは半導体メモリSM1、などとなる。
The order of selection from the semiconductor memory according to the first selection to the semiconductor memory according to the fourth selection is an appropriate order in advance, for example, semiconductor memories SM1, SM2, S.
It is advisable to determine the order of M3, SM4, SM1 ... In this case, for example, if the semiconductor memory selected by the first selection is SM3, the semiconductor memory selected second is the semiconductor memory SM4, the semiconductor memory selected third is the semiconductor memory SM1, and so on. ..

【0052】つづいて、ステップS22へ至って、ステ
ップS21で検査した配線パターンを有する主面とは逆
の主面の配線パターンと比較すべきマスターデータMS
を記憶する半導体メモリの1を選択する。すなわち、操
作部9を操作することにより、セレクタSL5を新たに
選択する半導体メモリに接続する。
Subsequently, in step S22, the master data MS to be compared with the wiring pattern of the main surface opposite to the main surface having the wiring pattern inspected in step S21.
1 of the semiconductor memory for storing is selected. That is, by operating the operation unit 9, the selector SL5 is connected to the newly selected semiconductor memory.

【0053】つぎに、ステップS23へ至って、ステッ
プS21で検査の対象とした主面とは異なる主面の配線
パターンを読取装置3で読み取るべくプリント配線板2
を搬送テーブル1に載置した後に、配線パターンの検査
を実行する。ステップS23ではステップS21と同様
の手順で検査を実行する。
Next, in step S23, the printed wiring board 2 is used so that the reading device 3 can read the wiring pattern of the main surface different from the main surface to be inspected in step S21.
After the wafer is placed on the transport table 1, the wiring pattern is inspected. In step S23, the inspection is performed in the same procedure as in step S21.

【0054】ステップS24では、ステップS10と同
様に、他のプリント配線板2を検査すべきかどうかを判
断し、他のプリント配線板2を検査すべきであれば、ス
テップS19へ至り、新たな検査すべきプリント配線板
2を用意する。ステップS24で、他のプリント配線板
2を検査する必要がないと判断するならば、検査を終了
する。
In step S24, as in step S10, it is determined whether another printed wiring board 2 should be inspected. If another printed wiring board 2 should be inspected, the process proceeds to step S19 and a new inspection is performed. The printed wiring board 2 to be prepared is prepared. If it is determined in step S24 that it is not necessary to inspect another printed wiring board 2, the inspection is ended.

【0055】この実施例では以上のように、2種類のプ
リント配線板2の表裏両主面の検査対象画像パターンと
比較すべき2種類の基準画像パターンの各1を、4個の
半導体メモリの各1にあらかじめ記憶信号として記憶さ
せておき、検査対象画像パターンと比較すべき基準パタ
ーンを4個の半導体メモリの中から1を選択することに
より読み出して欠陥の検出を行うので、両主面に配線パ
ターンを有する2種類のプリント配線板2の配線パター
ンの検査を効率よく行うことができる。特に、基準画像
パターンと検査すべき画像パターンとが誤って対応して
いないときでも、誤りを自動的に短時間で発見しかつ選
択すべき半導体メモリを切り換えて、自動的に欠陥の検
出をやり直すので更に効率よく配線パターンの検査を行
うことができる。
In this embodiment, as described above, each one of the two types of reference image patterns to be compared with the image patterns to be inspected on the front and back main surfaces of the two types of printed wiring boards 2 is stored in four semiconductor memories. Since a reference pattern to be stored in each 1 as a storage signal in advance and a reference pattern to be compared with the inspection target image pattern is selected by selecting 1 from the four semiconductor memories to detect a defect, a defect is detected on both main surfaces. The wiring patterns of the two types of printed wiring boards 2 having the wiring patterns can be efficiently inspected. In particular, even when the reference image pattern and the image pattern to be inspected do not correspond by mistake, the error is automatically detected in a short time and the semiconductor memory to be selected is switched, and the defect is automatically detected again. Therefore, the wiring pattern can be inspected more efficiently.

【0056】この実施例と同様の要領で、一般に複数種
類のプリント配線板2の複数種類の検査すべき配線パタ
ーンを検査することができる。このとき、半導体メモリ
は、検査すべき配線パターンの種類の数だけ用意すれば
よい。セレクタSL5はこれら半導体メモリのいずれに
も択一的に接続し得る構造であればよい。プリント配線
板2は片面だけに配線パターンを有するプリント配線板
2を含んでいてもよい。 [実施例4]図10は、この
発明の第4の実施例による画像パターンの検査装置の概
略ブロック図である。この装置は、図1の概略ブロック
図に示す構成に、マスターデータ検査装置22を付加し
て備えている。基準とすべき配線パターンを読み込み、
マスターデータMSを半導体メモリSM1又はSM2へ
記憶する過程の中で、セレクタSL5に接続されるマス
ターデータ検査装置本体22aで、特徴抽出法によりマ
スターデータMSを検査する。例えば、配線パターンの
幅に対する許容範囲を超えて細い配線パターンの欠陥部
分があれば、マスターデータ検査装置本体22aは、欠
陥の存在を欠陥の位置(例えば座標値)とともに、ディ
スプレー22bに表示させる。マスターデータMSの半
導体メモリSM1又はSM2への書き込みが終了した後
で、キーボード22cを操作することにより、半導体メ
モリSM1又はSM2に記憶されたマスターデータMS
をマスターデータ検査装置本体22aへ読み出し、読み
だしたマスターデータMSの中のディスプレー22bに
表示された欠陥箇所を逐一、キーボード22cを操作す
ることにより修正する。修正されたマスターデータMS
は、キーボード22cを操作することにより、マスター
データ検査装置本体22aから、元の半導体メモリSM
1又はSM2へ書き込まれる。半導体メモリSM1又は
SM2からマスターデータ検査装置本体22aへマスタ
ーデータMSを読み込むとき、及びマスターデータ検査
装置本体22aから半導体メモリSM1またはSM2へ
修正されたマスターデータMSを書き込むときには、マ
スターデータ検査装置本体22aはセレクタSL5を動
作させ、半導体メモリSM1またはSM2を選択させ
る。なお、ディスプレー22bはディスプレー11b
と、キーボード22cはキーボード11cとを兼ねてい
てもよい。
In general, a plurality of types of wiring patterns to be inspected on a plurality of types of printed wiring boards 2 can be inspected in the same manner as this embodiment. At this time, as many semiconductor memories as the number of types of wiring patterns to be inspected may be prepared. The selector SL5 may have a structure capable of being selectively connected to any of these semiconductor memories. The printed wiring board 2 may include the printed wiring board 2 having a wiring pattern on only one surface. [Fourth Embodiment] FIG. 10 is a schematic block diagram of an image pattern inspection apparatus according to a fourth embodiment of the present invention. This device is provided with a master data inspection device 22 in addition to the configuration shown in the schematic block diagram of FIG. Load the wiring pattern that should be the reference,
In the process of storing the master data MS in the semiconductor memory SM1 or SM2, the master data inspection device main body 22a connected to the selector SL5 inspects the master data MS by the feature extraction method. For example, if there is a defective portion of the wiring pattern that is narrower than the permissible range for the width of the wiring pattern, the master data inspection device body 22a displays the presence of the defect on the display 22b together with the position of the defect (for example, coordinate value). The master data MS stored in the semiconductor memory SM1 or SM2 is operated by operating the keyboard 22c after writing the master data MS into the semiconductor memory SM1 or SM2.
Is read out to the master data inspecting apparatus main body 22a, and the defective portion displayed on the display 22b in the read master data MS is corrected one by one by operating the keyboard 22c. Modified master data MS
Operating the keyboard 22c causes the master data inspection device main body 22a to move to the original semiconductor memory SM.
1 or SM2. When the master data MS is read from the semiconductor memory SM1 or SM2 to the master data inspection device main body 22a, and when the corrected master data MS is written from the master data inspection device main body 22a to the semiconductor memory SM1 or SM2, the master data inspection device main body 22a. Operates the selector SL5 to select the semiconductor memory SM1 or SM2. The display 22b is the display 11b.
The keyboard 22c may also serve as the keyboard 11c.

【0057】以上のように、この実施例では半導体メモ
リSM1、SM2に記憶されるマスターデータMSが、
特徴抽出法により検査され、これに基づき欠陥部分を事
前に修正しているので、基準とするには不完全である配
線パターンを有するプリント配線板2を、マスターデー
タMSの作成のために選択した場合においても、検査対
象とすべき配線パターンの欠陥の検査を誤りなく実行す
ることができる。
As described above, in this embodiment, the master data MS stored in the semiconductor memories SM1 and SM2 is
The printed wiring board 2 having a wiring pattern that is incomplete as a reference is selected for the creation of the master data MS, because it is inspected by the feature extraction method and the defective portion is corrected in advance based on the inspection. Even in such a case, the inspection of the defect of the wiring pattern to be inspected can be executed without error.

【0058】[実施例5]上記各実施例において、差分
検出装置7及び判定回路10の技術には、本出願人によ
る特開昭62−140009号公報に開示された技術を
利用することができる。すなわち、差分検出装置7及び
判定回路10の代わりに、図11のブロック図で示され
る内部構造を有する比較検査部23を用いることができ
る。
[Embodiment 5] In each of the above embodiments, the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-140009 by the present applicant can be used for the technique of the difference detection device 7 and the determination circuit 10. .. That is, instead of the difference detection device 7 and the determination circuit 10, the comparison inspection unit 23 having the internal structure shown in the block diagram of FIG. 11 can be used.

【0059】評価区画設定部24は前出の評価区画設定
部14aと同一構成物であり、オブジェクトデータOS
の評価区画CRに対応する部分、すなわち評価オブジェ
クトデータODを比較部25へ出力する。補正区画設定
部26は、評価区画CRを一定画素分だけ拡張した領域
(拡張区画SR)の中で評価区画CRを位置ずれさせて
得られる複数個の領域(補正区画HRi)に対応するマ
スターデータMSの部分(補正評価マスターデータMD
i)を比較部25へ出力する。ここで、記号iは1つの
拡張区画SRに対応する複数の補正区画の各1を識別す
る指標である。複数の比較部25の各1は、前出の比較
部15と同一構成物であり、入力される評価オブジェク
トデータODと補正評価マスターデータMDiとの間
で、互いに同一位置にある画素毎に排他的論理和を演算
し、演算結果である差分データDISiを判定回路27
へ出力する。これにより差分データDISiは、評価オ
ブジェクトデータODと補正評価マスターデータMDi
の間の不一致部分に相当する画素において”1”をと
り、一致部分に相当する画素において”0”をとる。
The evaluation section setting unit 24 has the same structure as that of the evaluation section setting unit 14a described above.
The part corresponding to the evaluation section CR, that is, the evaluation object data OD is output to the comparison unit 25. The correction section setting unit 26 includes master data corresponding to a plurality of areas (correction sections HRi) obtained by displacing the evaluation section CR in the area (extended section SR) in which the evaluation section CR is expanded by a certain number of pixels. MS part (correction evaluation master data MD
i) is output to the comparison unit 25. Here, the symbol i is an index for identifying each one of the plurality of correction sections corresponding to one expansion section SR. Each 1 of the plurality of comparison units 25 has the same structure as the comparison unit 15 described above, and is exclusive for each pixel in the same position between the input evaluation object data OD and the corrected evaluation master data MDi. The logical OR is calculated, and the difference data DISi as the calculation result is determined by the determination circuit 27.
Output to. As a result, the difference data DISi becomes the evaluation object data OD and the correction evaluation master data MDi.
"1" is taken in the pixel corresponding to the non-coincidence portion, and "0" is taken in the pixel corresponding to the coincidence portion.

【0060】判定回路27の各1は前出の判定回路10
と同一構成物であり、画素オペレータOPを用いて、各
差分データDISiにおける欠陥の有無を判定する。判
定回路27の各1は、差分データDISiにおける”
1”を有する画素の領域Dの中で、画素オペレータOP
に一致する部分又は画素オペレータOPを包含し得る部
分が1箇所でもあれば、欠陥候補であると判定し、値”
1”を出力し、逆に前記部分が一箇所もない場合には、
欠陥候補でないと判定し、値”0”を出力する。
Each 1 of the judgment circuit 27 is the judgment circuit 10 described above.
It is the same structure as the above, and the presence or absence of a defect in each difference data DISi is determined using the pixel operator OP. Each 1 of the determination circuit 27 is "in the difference data DISi".
In the region D of pixels having 1 ", the pixel operator OP
If there is at least one part that coincides with or a part that can include the pixel operator OP, it is determined to be a defect candidate and the value "
1 "is output, and conversely, if there is no such part,
It is determined that it is not a defect candidate, and the value "0" is output.

【0061】AND回路28には各判定回路27の出力
が入力され、全ての判定回路27が欠陥候補を意味する
値”1”を出力した場合に限って、評価区画CRにおい
て欠陥ありと判断することに対応する値”1”を出力
し、逆に判定回路27の中の1つでも欠陥候補でないこ
とを意味する値”0”を出力した場合には、評価区画C
Rにおいて欠陥なしと判断することに対応する値”0”
を出力する。
The outputs of the respective judgment circuits 27 are input to the AND circuits 28, and it is judged that there is a defect in the evaluation section CR only when all the judgment circuits 27 output the value "1" which means a defect candidate. If the value "1" corresponding to the above is output and conversely the value "0" indicating that even one of the determination circuits 27 is not a defect candidate is output, the evaluation section C
Value "0" corresponding to judging that there is no defect in R
Is output.

【0062】比較検査部23を用いることにより、プリ
ント配線板2を搬送テーブル1の所定の位置へ載置する
ときの位置ずれによる欠陥の検出における誤判断を防止
することができる。
By using the comparison inspection unit 23, it is possible to prevent an erroneous determination in the detection of a defect due to a positional deviation when the printed wiring board 2 is placed on the transport table 1 at a predetermined position.

【0063】以上の実施例1〜5に示されるこの発明
は、プリント配線板2の配線パターンだけではなく、集
積回路に組込まれるリードフレームのパターンなど、2
値化された画像パターンの比較法による欠陥の検査を行
う対象物一般に実施が可能である。
The present invention shown in the above-described first to fifth embodiments is not limited to the wiring pattern of the printed wiring board 2 but also the lead frame pattern to be incorporated in the integrated circuit.
It can be generally carried out on an object to be inspected for defects by a method of comparing the binarized image patterns.

【0064】[0064]

【発明の効果】この発明における画像パターンの検査方
法及びその装置では、複数の記憶手段、例えば高速読み
出しが可能な半導体メモリを準備して、複数種類の検査
対象画像パターンと比較すべき複数の基準画像パターン
の各1を、複数の記憶手段の各1にあらかじめ記憶信号
として記憶させておき、検査対象画像パターンと比較す
べき基準パターンを複数の記憶手段の中から1を選択す
ることにより読み出して欠陥の検出を行うので、両主面
に配線パターンを有するプリント配線板の配線パターン
の検査、あるいは複数種類のプリント配線板の配線パタ
ーンの検査等を能率よく行うことができる(請求項1〜
6)。
According to the image pattern inspection method and the apparatus therefor of the present invention, a plurality of storage means, for example, a semiconductor memory capable of high-speed reading are prepared, and a plurality of standards to be compared with a plurality of types of image patterns to be inspected. Each one of the image patterns is previously stored in each one of the plurality of storage means as a storage signal, and the reference pattern to be compared with the image pattern to be inspected is read out by selecting one from the plurality of storage means. Since the defect is detected, the inspection of the wiring pattern of the printed wiring board having the wiring patterns on both main surfaces, the inspection of the wiring patterns of a plurality of types of printed wiring boards, etc. can be efficiently performed.
6).

【0065】また、検査対象画像パターンを基準画像パ
ターンと比較してその欠陥の検出を行う中で、欠陥の個
数を計数して所定の基準値を超えて欠陥の個数が大とな
ったときには、欠陥の検出を中断して、複数の記憶手段
の中から他の1を選択して新たな基準パターンを読み出
して、再度欠陥の検出をやり直すので、基準画像パター
ンの種類と検査すべき画像パターンの種類とが誤って対
応していないときでも、誤りを短時間で発見して、欠陥
の検出をやり直すことができ、その結果両主面に配線パ
ターンを有するプリント配線板の配線パターンの検査、
あるいは複数種類のプリント配線板の配線パターンの検
査等を一層能率よく行うことができる(請求項2、4〜
6)。
When the inspection target image pattern is compared with the reference image pattern to detect the defect, when the number of defects is counted and the number of defects exceeds a predetermined reference value, The defect detection is interrupted, another 1 is selected from the plurality of storage means to read a new reference pattern, and the defect detection is performed again. Therefore, the type of the reference image pattern and the image pattern to be inspected are determined. Even when the type does not correspond by mistake, the error can be found in a short time and the defect can be detected again, and as a result, the inspection of the wiring pattern of the printed wiring board having the wiring patterns on both main surfaces can be performed.
Alternatively, it is possible to more efficiently inspect the wiring patterns of a plurality of types of printed wiring boards.
6).

【0066】特に、欠陥の検出及び欠陥の個数の計数を
自動的に行いかつ、所定の基準値を超えて欠陥の個数が
大となったときには、自動的に複数の記憶手段の中から
他の1を選択して新たな基準パターンを読み出すので、
基準画像パターンの種類と検査すべき画像パターンの種
類とが誤って対応していないときでも、両主面に配線パ
ターンを有するプリント配線板の配線パターンの検査、
あるいは複数種類のプリント配線板の配線パターンの検
査等を更に効率よく行うことができる(請求項5、
6)。
In particular, the detection of defects and the counting of the number of defects are automatically performed, and when the number of defects exceeds a predetermined reference value and becomes large, another defect is automatically selected from a plurality of storage means. Since 1 is selected and a new reference pattern is read out,
Even when the type of the reference image pattern and the type of the image pattern to be inspected do not correspond by mistake, the inspection of the wiring pattern of the printed wiring board having the wiring patterns on both main surfaces,
Alternatively, it is possible to more efficiently inspect the wiring patterns of a plurality of types of printed wiring boards (claim 5,
6).

【0067】更に、欠陥の検出及び欠陥の個数の計数を
自動的に行いかつ、所定の基準値を超えて欠陥の個数が
大となったときには、自動的に複数の記憶手段の中から
他の1を選択して新たな基準パターンを読み出すととも
に、自動的に欠陥の検出を始めからやり直すので、両主
面に配線パターンを有するプリント配線板の配線パター
ンの検査、あるいは複数種類のプリント配線板の配線パ
ターンの検査等を更に効率よく実行することができる
(請求項6)。
Further, defects are detected and the number of defects is automatically counted, and when the number of defects exceeds a predetermined reference value and becomes large, another defect is automatically selected from a plurality of storage means. 1 is selected and a new reference pattern is read out, and the defect detection is automatically restarted from the beginning. Therefore, it is possible to inspect a wiring pattern of a printed wiring board having wiring patterns on both main surfaces or to check a plurality of types of printed wiring boards. The inspection of the wiring pattern and the like can be executed more efficiently (claim 6).

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例による画像パターンの検査
方法の概略手順を示すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing a schematic procedure of an image pattern inspection method according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の一実施例による、図1のフローチャ
ートに示される方法を実現する画像パターンの検査装置
の概略ブロック図である。
FIG. 2 is a schematic block diagram of an image pattern inspection apparatus for implementing the method shown in the flowchart of FIG. 1 according to an embodiment of the present invention.

【図3】差分検出装置の内部構造を示すブロック図であ
る。
FIG. 3 is a block diagram showing an internal structure of a difference detection device.

【図4】評価区画を説明する模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram illustrating an evaluation section.

【図5】オペレータの働きを説明する模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram illustrating the operation of an operator.

【図6】搬送テーブルの動作説明図である。FIG. 6 is an operation explanatory diagram of a transport table.

【図7】この発明の第2の実施例による画像パターンの
検査装置の概略ブロック図である。
FIG. 7 is a schematic block diagram of an image pattern inspection device according to a second embodiment of the present invention.

【図8】この発明の第3の実施例による画像パターンの
検査方法の概略手順を示すフローチャートである。
FIG. 8 is a flowchart showing a schematic procedure of an image pattern inspection method according to a third embodiment of the present invention.

【図9】この発明の第3の実施例による画像パターンの
検査装置の概略ブロック図である。
FIG. 9 is a schematic block diagram of an image pattern inspection device according to a third embodiment of the present invention.

【図10】この発明の第4の実施例による画像パターン
の検査装置の概略ブロック図である。
FIG. 10 is a schematic block diagram of an image pattern inspection device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図11】比較検査部23の内部構造を示すブロック図
である。
11 is a block diagram showing an internal structure of a comparison inspection unit 23. FIG.

【図12】従来の画像パターンの検査装置の概略ブロッ
ク図である。
FIG. 12 is a schematic block diagram of a conventional image pattern inspection device.

【図13】従来の画像パターンの検査装置のもう一つの
例の概略ブロック図である。
FIG. 13 is a schematic block diagram of another example of a conventional image pattern inspection device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 搬送テーブル 2 プリント配線板 3 読取装置 4 A/D変換装置 5 2値化処理部 7 差分検出装置 10 判定回路 12 CAD 13 補正回路 15 比較部 16 カウンタ 17 比較器 18 基準値設定部 19 コントローラ 20 モータ SM1〜SM4 半導体メモリ SL5 セレクタ 1 Transport Table 2 Printed Wiring Board 3 Reader 4 A / D Converter 5 Binarization Processor 7 Difference Detector 10 Judgment Circuit 12 CAD 13 Correction Circuit 15 Comparing Section 16 Counter 17 Comparator 18 Reference Value Setting Section 19 Controller 20 Motor SM1 to SM4 Semiconductor memory SL5 Selector

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 検査対象画像パターンを基準画像パター
ンと比較して欠陥の検出を行う画像パターンの検査方法
であって、 (a)複数の記憶手段を準備する工程と、 (b)複数の前記基準画像パターンの各1を前記記憶手
段の各1にあらかじめ記憶信号として記憶させる工程
と、 (c)前記複数の記憶手段の中から1を選択して前記記
憶信号を読み出すことにより、前記基準画像パターンを
得る工程と、 (d)前記検査対象画像パターンを得る工程と、 (e)前記検査対象画像パターンと前記基準画像パター
ンとを比較して前記欠陥の検出を行う工程と、 を備える画像パターンの検査方法。
1. An image pattern inspection method for detecting a defect by comparing an inspection target image pattern with a reference image pattern, comprising: (a) preparing a plurality of storage means; A step of storing each one of the reference image patterns in each one of the storage means in advance as a storage signal; and (c) selecting one from the plurality of storage means and reading out the storage signal, whereby the reference image An image pattern comprising: a step of obtaining a pattern; (d) a step of obtaining the inspection target image pattern; and (e) a step of comparing the inspection target image pattern with the reference image pattern to detect the defect. Inspection method.
【請求項2】 (f)少なくとも前記工程(e)より前
に、基準値を設定する工程、を更に備え、 前記工程(e)を、 (e−1)前記検査対象画像パターンと前記基準画像パ
ターンとを比較して前記欠陥の検出を行う工程と、 (e−2)前記工程(e−1)の中で、前記欠陥の個数
を計数する工程と、 (e−3)前記工程(e−2)において、計数された前
記欠陥の個数が前記基準値を超えて検出されるならば、
そのときに前記工程(e−1)を中断する工程と、 (e−4)前記工程(e−3)において前記工程(e−
1)が中断されたならば、前記複数の記憶手段の中から
工程(c)以後において選択されていない記憶手段の1
を選択して前記記憶データを読み出すことにより、新た
に別の基準画像パターンを得る工程と、 (e−5)前記工程(e−1)から前記工程(e−4)
までを反復する工程と、 で置き換える請求項1に記載の画像パターンの検査方
法。
2. The method further comprises (f) at least a step of setting a reference value before the step (e), wherein the step (e) includes (e-1) the inspection target image pattern and the reference image. Detecting the defect by comparing with a pattern; (e-2) counting the number of the defect in the process (e-1); (e-3) the process (e) In -2), if the number of counted defects is detected exceeding the reference value,
At that time, a step of interrupting the step (e-1), and (e-4) the step (e-) in the step (e-3).
If 1) is interrupted, one of the storage means not selected after the step (c) from the plurality of storage means.
To obtain another reference image pattern by reading the stored data. (E-5) the steps (e-1) to (e-4)
The method of inspecting an image pattern according to claim 1, wherein the steps of repeating up to are replaced with.
【請求項3】 検査対象画像パターンを基準画像パター
ンと比較して欠陥の検出を行う画像パターンの検査装置
であって、 (a)複数の記憶手段と、 (b)複数の前記基準画像パターンの各1を前記記憶手
段の各1にあらかじめ記憶信号として記憶させる手段
と、 (c)前記複数の記憶手段の中から1を選択して前記記
憶信号を読み出すことにより、前記基準画像パターンを
得る手段と、 (d)前記検査対象画像パターンを得る手段と、 (e)前記検査対象画像パターンと前記基準画像パター
ンとを比較して前記欠陥の検出を行う手段と、を備える
画像パターンの検査装置。
3. An image pattern inspection apparatus for detecting defects by comparing an inspection target image pattern with a reference image pattern, comprising: (a) a plurality of storage means; and (b) a plurality of the reference image patterns. A means for storing each 1 as a storage signal in advance in each of the storage means; and (c) means for obtaining the reference image pattern by selecting 1 from the plurality of storage means and reading the storage signal. An image pattern inspection apparatus comprising: (d) means for obtaining the inspection target image pattern; and (e) means for comparing the inspection target image pattern with the reference image pattern to detect the defect.
【請求項4】 (f)基準値を設定する手段と、 (g)前記手段(e)で検出される欠陥の個数を計数す
る手段と、 (h)前記手段(g)で計数した前記欠陥の個数と前記
手段(f)で設定される前記基準値との大小の比較を行
いその結果を信号として出力する手段と、を更に備える
請求項3に記載の画像パターンの検査装置。
4. (f) means for setting a reference value; (g) means for counting the number of defects detected by the means (e); (h) the defects counted by the means (g). 4. The image pattern inspection apparatus according to claim 3, further comprising: a unit that compares the number of each of the numbers with the reference value set by the unit (f) and outputs the result as a signal.
【請求項5】 (i)前記欠陥の個数が前記基準値を超
えることに対応する信号を前記手段(h)が出力したと
きに、前記手段(c)が前記複数の記憶手段の中から新
たな1を選択して新たな前記基準画像パターンを得るよ
う前記手段(c)を動作させる手段、を更に備える請求
項4に記載の画像パターンの検査装置。
5. (i) When the means (h) outputs a signal corresponding to the number of the defects exceeding the reference value, the means (c) newly creates a new one from the plurality of storage means. 5. The image pattern inspection device according to claim 4, further comprising means for operating the means (c) so as to obtain a new reference image pattern by selecting No.
【請求項6】 (j)前記欠陥の個数が前記基準値を超
えることに対応する信号を前記手段(h)が出力したと
きに、前記手段(e)の動作を中断させ、その動作をは
じめから行うべく制御する手段、を更に備える請求項5
に記載の画像パターンの検査装置。
6. (j) When the means (h) outputs a signal corresponding to the number of the defects exceeding the reference value, the operation of the means (e) is interrupted and the operation is started. 6. Further comprising means for controlling to perform from
The image pattern inspection device according to 1.
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