JPH05186515A - 放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造方法 - Google Patents
放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造方法Info
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- JPH05186515A JPH05186515A JP4021900A JP2190092A JPH05186515A JP H05186515 A JPH05186515 A JP H05186515A JP 4021900 A JP4021900 A JP 4021900A JP 2190092 A JP2190092 A JP 2190092A JP H05186515 A JPH05186515 A JP H05186515A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 着色が少なく、磁気特性、耐久性に優れた
磁気記録媒体の製造を可能にする放射線硬化型の塩化ビ
ニル系樹脂の製造法を提供する。 【構成】 水酸基含有塩化ビニル系樹脂と分子中に１
個のエチレン不飽和基と１個のイソシアネート基を有す
る化合物とホスホン酸ソーダ基を有するカルボン酸とを
共存せしめて反応させる塩化ビニル系樹脂の製造法。
磁気記録媒体の製造を可能にする放射線硬化型の塩化ビ
ニル系樹脂の製造法を提供する。 【構成】 水酸基含有塩化ビニル系樹脂と分子中に１
個のエチレン不飽和基と１個のイソシアネート基を有す
る化合物とホスホン酸ソーダ基を有するカルボン酸とを
共存せしめて反応させる塩化ビニル系樹脂の製造法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】磁気記録媒体用の結合剤としての
放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造方法に関する。
放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】塩化ビニル系樹脂は強靭性等の機械的特
性に優れることから、磁気記録媒体用バインダーに使用
されている。近年、キュアリング等の処理の必要性が無
いところから放射線硬化型塩化ビニル系樹脂が検討され
てきている。放射線硬化型塩化ビニル系樹脂を製造する
方法としては、特開昭６１−５９６２１号公報から水酸
基を分子中に有する塩化ビニル系樹脂と分子中に１個以
上のエチレン性不飽和基と１個のイソシアネート基を有
する化合物を反応させることが開示されているが、反応
時間短縮の為に６０℃以上の温度では塩化ビニル系樹脂
は不安定で塩素を放出して分解するため着色、塗膜物性
の低下等が発生し問題である。また低温での反応性の向
上のためにアミン等のウレタン結合形成触媒を多量に添
加すると製造した樹脂の磁性粉分散性及び硬化後の塗膜
物性が低下するため好ましくない。
性に優れることから、磁気記録媒体用バインダーに使用
されている。近年、キュアリング等の処理の必要性が無
いところから放射線硬化型塩化ビニル系樹脂が検討され
てきている。放射線硬化型塩化ビニル系樹脂を製造する
方法としては、特開昭６１−５９６２１号公報から水酸
基を分子中に有する塩化ビニル系樹脂と分子中に１個以
上のエチレン性不飽和基と１個のイソシアネート基を有
する化合物を反応させることが開示されているが、反応
時間短縮の為に６０℃以上の温度では塩化ビニル系樹脂
は不安定で塩素を放出して分解するため着色、塗膜物性
の低下等が発生し問題である。また低温での反応性の向
上のためにアミン等のウレタン結合形成触媒を多量に添
加すると製造した樹脂の磁性粉分散性及び硬化後の塗膜
物性が低下するため好ましくない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、以上の
様な事情に鑑み、反応温度６０℃未満でも製造上問題の
ない製造を可能にし、機械特性及び電気特性に優れた磁
気記録媒体用に好適な着色のない放射線硬化型の塩化ビ
ニル系樹脂を得ることを目的として鋭意検討した結果、
本発明に到達した。
様な事情に鑑み、反応温度６０℃未満でも製造上問題の
ない製造を可能にし、機械特性及び電気特性に優れた磁
気記録媒体用に好適な着色のない放射線硬化型の塩化ビ
ニル系樹脂を得ることを目的として鋭意検討した結果、
本発明に到達した。
【０００４】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、水酸基
を分子中に有する塩化ビニル系樹脂と分子中に１個以上
のエチレン性不飽和基と１個のイソシアネート基を有す
る化合物とを反応させて放射線硬化型塩化ビニル系樹脂
を製造するに際し、下記一般式（Ｉ）〜（VI）の燐系極
性基を共存せしめて反応させることを特徴とする放射線
硬化型塩化ビニル系樹脂の製造方法。
を分子中に有する塩化ビニル系樹脂と分子中に１個以上
のエチレン性不飽和基と１個のイソシアネート基を有す
る化合物とを反応させて放射線硬化型塩化ビニル系樹脂
を製造するに際し、下記一般式（Ｉ）〜（VI）の燐系極
性基を共存せしめて反応させることを特徴とする放射線
硬化型塩化ビニル系樹脂の製造方法。
【０００５】
【化７】
【０００６】
【化８】
【０００７】
【化９】
【０００８】
【化１０】
【０００９】
【化１１】
【００１０】
【化１２】
【００１１】Ｒ1 は炭素数８〜１０の３価の炭化水素
基、Ｒ2 は炭素数１〜１２のアルキル基、アリール基、
炭素数１〜１２のアルコキシ基、シクロアルコキシ基、
又はアリールオキシ基を示す。アリール基及びアリール
オキシ基はハロゲン原子、ヒドロキシル基、−ＯＭ’
（Ｍ’はアルカリ金属を示す。）またはアミノ基が結合
したものでもよい。Ｒ3 、Ｒ4 は、炭素数１〜１２のア
ルキレン基、シクロアルキレン基、アリール基、次式：
−（ＣＨ2 −ＯＲ5 ）m −で表される基（Ｒ5 は炭素数
１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリー
レン基を示す。ｍは１〜４の任意の数値を取ることがで
きる。）、Ｍはアルカリ金属原子、又はアミノ基を示
す。
基、Ｒ2 は炭素数１〜１２のアルキル基、アリール基、
炭素数１〜１２のアルコキシ基、シクロアルコキシ基、
又はアリールオキシ基を示す。アリール基及びアリール
オキシ基はハロゲン原子、ヒドロキシル基、−ＯＭ’
（Ｍ’はアルカリ金属を示す。）またはアミノ基が結合
したものでもよい。Ｒ3 、Ｒ4 は、炭素数１〜１２のア
ルキレン基、シクロアルキレン基、アリール基、次式：
−（ＣＨ2 −ＯＲ5 ）m −で表される基（Ｒ5 は炭素数
１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリー
レン基を示す。ｍは１〜４の任意の数値を取ることがで
きる。）、Ｍはアルカリ金属原子、又はアミノ基を示
す。
【００１２】本発明者等は放射線硬化型塩化ビニル系樹
脂を製造するに際して、燐系極性基を有する化合物を共
存せしめて、該化合物の燐系極性基を反応性の全樹脂構
成成分１トンに対し、０．０１〜１０００当量に含有さ
せて反応させることで、水酸基等の活性水素基と、イソ
シアネート基との反応性、即ち、ウレタン結合生成反応
が促進され、４０℃という低温でも水酸基を有する塩化
ビニル系樹脂と分子中に１個以上のエチレン性不飽和基
と１個のイソシアネート基を有する化合物から着色の少
なく、かつ物性の低下が起こることない放射線硬化型塩
化ビニル系樹脂が製造でき、かつ反応終了後は添加した
燐系極性基が分散剤となり、磁性粉の分散性向上にも効
果がある。
脂を製造するに際して、燐系極性基を有する化合物を共
存せしめて、該化合物の燐系極性基を反応性の全樹脂構
成成分１トンに対し、０．０１〜１０００当量に含有さ
せて反応させることで、水酸基等の活性水素基と、イソ
シアネート基との反応性、即ち、ウレタン結合生成反応
が促進され、４０℃という低温でも水酸基を有する塩化
ビニル系樹脂と分子中に１個以上のエチレン性不飽和基
と１個のイソシアネート基を有する化合物から着色の少
なく、かつ物性の低下が起こることない放射線硬化型塩
化ビニル系樹脂が製造でき、かつ反応終了後は添加した
燐系極性基が分散剤となり、磁性粉の分散性向上にも効
果がある。
【００１３】本発明に於ける水酸基を持つ塩化ビニル系
樹脂としては、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合
体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレ
ート共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール−グリシジル（メタ）アクリレート共重合体などが
あり、水酸基の数としては１分子中に３〜６０個、好ま
しくは５〜３０個である。また分子中に極性基を１種類
以上含有してもよく、極性基としては、−ＯＳＯ3 Ｍ
基、−ＳＯ3 Ｍ基、−ＯＰＯ3 Ｍ基、−ＰＯ3 Ｍ基、−
ＣＯＯＭ基などがある（Ｍ原子はＨ、アミン 、アルカ
リ金属などを示す）。
樹脂としては、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合
体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレ
ート共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール−グリシジル（メタ）アクリレート共重合体などが
あり、水酸基の数としては１分子中に３〜６０個、好ま
しくは５〜３０個である。また分子中に極性基を１種類
以上含有してもよく、極性基としては、−ＯＳＯ3 Ｍ
基、−ＳＯ3 Ｍ基、−ＯＰＯ3 Ｍ基、−ＰＯ3 Ｍ基、−
ＣＯＯＭ基などがある（Ｍ原子はＨ、アミン 、アルカ
リ金属などを示す）。
【００１４】本発明において、エチレン性不飽和二重結
合を１個以上およびイソシアネート基１個を１分子中に
有し、かつウレタン結合を分子中に持たない化合物とし
ては、（メタ）アクロイルイソシアネート、２−イソシ
アネートエチル（メタ）アクリレート、ポリイソシアネ
ートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応物など
がある。上記化合物の添加量としては主鎖ポリマーの２
〜２０ｗｔ％の範囲が良く、２ｗｔ％未満では硬化性が
不十分であり、２０ｗｔ％を越えて添加しても添加によ
る硬化性の向上は見られない。
合を１個以上およびイソシアネート基１個を１分子中に
有し、かつウレタン結合を分子中に持たない化合物とし
ては、（メタ）アクロイルイソシアネート、２−イソシ
アネートエチル（メタ）アクリレート、ポリイソシアネ
ートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応物など
がある。上記化合物の添加量としては主鎖ポリマーの２
〜２０ｗｔ％の範囲が良く、２ｗｔ％未満では硬化性が
不十分であり、２０ｗｔ％を越えて添加しても添加によ
る硬化性の向上は見られない。
【００１５】本発明の燐系極性基を有する化合物は前記
式（Ｉ）〜（VI）で示されるの燐系極性基及びエステル
形成性官能基とを有する燐化合物である。これらの燐化
合物の代表例の構造式の化１３〜化１８に示す。し
式（Ｉ）〜（VI）で示されるの燐系極性基及びエステル
形成性官能基とを有する燐化合物である。これらの燐化
合物の代表例の構造式の化１３〜化１８に示す。し
【００１６】反応系中に存在する燐系極性基は、全反応
性樹脂構成成分１トンに対し、０．０４〜１０００当
量、好ましくは０．０５〜５０当量、さらに好ましく
は、０．１〜５．０当量である。前記範囲より小さくな
れば、イソシアネート基と水酸基等の活性水素を有する
官能基との反応における触媒としての作用がなくり、ウ
レタン結合形成反応が進まず好ましくない。また、前記
範囲より大きくなれば、吸湿性の増大、物理的特性の低
下等を生じ実用生が少なくなり好ましくない。
性樹脂構成成分１トンに対し、０．０４〜１０００当
量、好ましくは０．０５〜５０当量、さらに好ましく
は、０．１〜５．０当量である。前記範囲より小さくな
れば、イソシアネート基と水酸基等の活性水素を有する
官能基との反応における触媒としての作用がなくり、ウ
レタン結合形成反応が進まず好ましくない。また、前記
範囲より大きくなれば、吸湿性の増大、物理的特性の低
下等を生じ実用生が少なくなり好ましくない。
【００１７】一般式（Ｉ）〜（VI）の燐系極性基の系中
への添加は、溶剤に対する溶解性、反応性の点でポリエ
ステルとして望ましい。またポリエステルとしての添加
量が多くなると硬化性低下等を起こすので、ポリイソシ
アネート、活性水素基を有する（メタ）アクリレート化
合物との反応により、硬化性の優れたポリウレタンアク
リレートとして系に加えてもよい。
への添加は、溶剤に対する溶解性、反応性の点でポリエ
ステルとして望ましい。またポリエステルとしての添加
量が多くなると硬化性低下等を起こすので、ポリイソシ
アネート、活性水素基を有する（メタ）アクリレート化
合物との反応により、硬化性の優れたポリウレタンアク
リレートとして系に加えてもよい。
【００１８】反応条件としては、反応温度は２５〜６０
℃の範囲が好ましい。溶媒としては、活性水素を持たな
いものが使用でき、例えば、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル類またはメチルエチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類が挙げられる。
℃の範囲が好ましい。溶媒としては、活性水素を持たな
いものが使用でき、例えば、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル類またはメチルエチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類が挙げられる。
【００１９】触媒としては、通常は加える必要がない
が、燐系化合物以外の触媒を併用してもよい。その他の
触媒としてはイソシアネート反応触媒が用いられ、例え
ば、ジブチルチンジラウリレート、ジブチルチンオキサ
イド等の金属化合物またはトリエチルアミン等のアミン
化合物を用いることが出来る。また、反応中でのエチレ
ン性不飽和二重結合の安定化のため重合禁止剤等を用い
てもよい。
が、燐系化合物以外の触媒を併用してもよい。その他の
触媒としてはイソシアネート反応触媒が用いられ、例え
ば、ジブチルチンジラウリレート、ジブチルチンオキサ
イド等の金属化合物またはトリエチルアミン等のアミン
化合物を用いることが出来る。また、反応中でのエチレ
ン性不飽和二重結合の安定化のため重合禁止剤等を用い
てもよい。
【００２０】電子線照射機としてはスキャニング方式、
あるいはカーテンビーム方式が採用でき、吸収線量は１
〜２０Ｍｒａｄ、好ましくは２〜１５Ｍｒａｄが良い。
吸収線量は１Ｍｒａｄ未満では硬化反応が不充分であ
り、２０Ｍｒａｄを越えると、硬化に使用されるエネル
ギー効率が低下したり、過度の架橋が進行したりするた
め、好ましくない。
あるいはカーテンビーム方式が採用でき、吸収線量は１
〜２０Ｍｒａｄ、好ましくは２〜１５Ｍｒａｄが良い。
吸収線量は１Ｍｒａｄ未満では硬化反応が不充分であ
り、２０Ｍｒａｄを越えると、硬化に使用されるエネル
ギー効率が低下したり、過度の架橋が進行したりするた
め、好ましくない。
【００２１】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。 （燐系化合物含有ポリエステルの製造例）温度計、撹拌
機を具備した反応容器中にジメチルテレフタレート３５
７部、ジメチルイソフタレート３５７部、前記燐化合物
（５４）６５部、エチレングリコール３２０部、テトラ
ブトキシチタネート０．４部を仕込み、１５０〜２３０
℃で１２０分間加熱し、エステル交換反応を行った。つ
いで反応系を３０分間で２５０℃まで昇温し、系の圧力
を徐々に減じ４５分後に１０ｍｍＨｇとし、この条件で
さらに６０分間反応を続けた。得られたポリエステルジ
オールＡの分子量は２０００、燐化合物の含有量は３７
６当量／トンであった。
する。 （燐系化合物含有ポリエステルの製造例）温度計、撹拌
機を具備した反応容器中にジメチルテレフタレート３５
７部、ジメチルイソフタレート３５７部、前記燐化合物
（５４）６５部、エチレングリコール３２０部、テトラ
ブトキシチタネート０．４部を仕込み、１５０〜２３０
℃で１２０分間加熱し、エステル交換反応を行った。つ
いで反応系を３０分間で２５０℃まで昇温し、系の圧力
を徐々に減じ４５分後に１０ｍｍＨｇとし、この条件で
さらに６０分間反応を続けた。得られたポリエステルジ
オールＡの分子量は２０００、燐化合物の含有量は３７
６当量／トンであった。
【００２２】同様にジメチルテレフタレート３８８部、
ジメチルイソフタレート３８８部、エチレングリコール
３５５部、ネオペンチルグリコール３２０部を原料に反
応を行った。得られたポリエステルジオールＢの分子量
は２０００、燐化合物の含有量は０当量／トンであっ
た。
ジメチルイソフタレート３８８部、エチレングリコール
３５５部、ネオペンチルグリコール３２０部を原料に反
応を行った。得られたポリエステルジオールＢの分子量
は２０００、燐化合物の含有量は０当量／トンであっ
た。
【００２３】実施例１ 温度計、撹拌機、還流式冷却器を具備した反応容器中に
水酸基含有塩化ビニル系樹脂であるＶＡＧＨ（ユニオン
カーバイド社製）１００部とメチルエチルケトン２５０
部を仕込み、溶解後、２−メタクロイルオキシエチルイ
ソシアネート１０部、ポリエステルジオールＡ０．１部
及びハイドロキノン０．００３部を仕込み、５０℃で６
時間反応させて残存イソシアネートが赤外分析器により
なくなったことを確認して、反応を終了させ放射線硬化
型塩化ビニル系樹脂Ａを得た。同様に残存イソシアネー
トがなくなるまで反応させ放射線硬化型塩化ビニル系樹
脂Ｂ及びＣを得た。
水酸基含有塩化ビニル系樹脂であるＶＡＧＨ（ユニオン
カーバイド社製）１００部とメチルエチルケトン２５０
部を仕込み、溶解後、２−メタクロイルオキシエチルイ
ソシアネート１０部、ポリエステルジオールＡ０．１部
及びハイドロキノン０．００３部を仕込み、５０℃で６
時間反応させて残存イソシアネートが赤外分析器により
なくなったことを確認して、反応を終了させ放射線硬化
型塩化ビニル系樹脂Ａを得た。同様に残存イソシアネー
トがなくなるまで反応させ放射線硬化型塩化ビニル系樹
脂Ｂ及びＣを得た。
【００２４】比較例１ 温度計、撹拌機、還流式冷却器を具備した反応容器中に
前出のＶＡＧＨ１００部とメチルエチルケトン２５０部
を仕込み、溶解後、２−メタクロイルオキシエチルイソ
シアネート１０部、ポリエステルジオールＢ０．１部、
ジブチルチンジラウレート０．０２部及びハイドロキノ
ン０．００３部を仕込み、５０℃で６時間反応させたが
反応が遅いため、７０℃に昇温してさらに６時間反応さ
せて残存イソシアネートを消失させ、放射線硬化型塩化
ビニル系樹脂Ｄを得た。同様に放射線硬化型塩化ビニル
系樹脂Ｅ及びＦを得た。その結果を表１に示す。
前出のＶＡＧＨ１００部とメチルエチルケトン２５０部
を仕込み、溶解後、２−メタクロイルオキシエチルイソ
シアネート１０部、ポリエステルジオールＢ０．１部、
ジブチルチンジラウレート０．０２部及びハイドロキノ
ン０．００３部を仕込み、５０℃で６時間反応させたが
反応が遅いため、７０℃に昇温してさらに６時間反応さ
せて残存イソシアネートを消失させ、放射線硬化型塩化
ビニル系樹脂Ｄを得た。同様に放射線硬化型塩化ビニル
系樹脂Ｅ及びＦを得た。その結果を表１に示す。
【００２５】 磁性塗料の製造方法 磁性粉末（コバルト被覆γ−酸化鉄） ６０部 ポリウレタンアクリレート樹脂（ＢＫ４１０２：東洋紡績社製） （固形分濃度３５ｗｔ％） １５部 放射線硬化型塩化ビニル系樹脂溶液Ａ（固形分濃度３１ｗｔ％） １５部 トルエン ２５部 メチルイソブチルケトン ２５部
【００２６】上記組成物をボールミルで２４時間混合し
た後、この磁性塗料を２５μｍのポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に乾燥後の厚みが６μｍとなるように
塗布した。次いで０．０５秒間、２５００ガウスの直流
磁場により、フィルムの長さ方向に磁場配向処理を行
い、１００℃で１分間熱風乾燥した後、カレンダー処理
を行い、５Ｍｒａｄの放射線処理を行なった。表１に示
した放射線硬化型塩化ビニル系樹脂を用いて、同様の方
法によりポリエチレンテレフタレートフイルム上に磁化
可能層を形成させ、磁気テープを製造した。各々の磁化
可能層の測定結果を表２に示した。
た後、この磁性塗料を２５μｍのポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に乾燥後の厚みが６μｍとなるように
塗布した。次いで０．０５秒間、２５００ガウスの直流
磁場により、フィルムの長さ方向に磁場配向処理を行
い、１００℃で１分間熱風乾燥した後、カレンダー処理
を行い、５Ｍｒａｄの放射線処理を行なった。表１に示
した放射線硬化型塩化ビニル系樹脂を用いて、同様の方
法によりポリエチレンテレフタレートフイルム上に磁化
可能層を形成させ、磁気テープを製造した。各々の磁化
可能層の測定結果を表２に示した。
【００２７】
【発明の効果】表１及び２から明らかなように本発明よ
り製造された放射線硬化型塩化ビニル系樹脂は着色が少
なく、この樹脂を用いて得られた磁気記録媒体は磁気特
性及び耐久性の向上したものが得られる。
り製造された放射線硬化型塩化ビニル系樹脂は着色が少
なく、この樹脂を用いて得られた磁気記録媒体は磁気特
性及び耐久性の向上したものが得られる。
【００２８】
【化１３】
【００２９】
【化１４】
【００３０】
【化１５】
【００３１】
【化１６】
【００３２】
【化１７】
【００３３】
【化１８】
【００３４】
【表１】
【００３５】
【表２】
Claims (1)
- 【請求項１】 水酸基を分子中に有する塩化ビニル系樹
脂と分子中に１個以上のエチレン性不飽和基と１個のイ
ソシアネート基を有する化合物とを反応させて放射線硬
化型ビニル系樹脂を製造するに際し、下記一般（Ｉ）〜
（VI）の燐系極性基を有する化合物を共存せしめて反応
させることを特徴とする放射線硬化型塩化ビニル系樹脂
の製造方法。 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 【化６】 〔Ｒ1 は炭素数８〜１０の３価の炭化水素基、Ｒ2 は炭
素数１〜１２のアルキル基、アリール基、炭素数１〜１
２のアルコキシ基、シクロアルコキシ基、又はアリール
オキシ基を示す。アリール基及びアリールオキシ基はハ
ロゲン原子、ヒドロキシル基、−ＯＭ’（Ｍ’はアルカ
リ金属を示す。）またはアミノ基が結合したものでもよ
い。Ｒ3 、Ｒ4 は、炭素数１〜１２のアルキレン基、シ
クロアルキレン基、アリール基、次式：−（ＣＨ2 −Ｏ
Ｒ5 ）m −で表される基（Ｒ5 は炭素数１〜１２のアル
キレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基を示す。
ｍは１〜４の任意の数値を取ることができる。）、Ｍは
アルカリ金属原子、又はアミノ基を示す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04021900A JP3125947B2 (ja) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | 放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04021900A JP3125947B2 (ja) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | 放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05186515A true JPH05186515A (ja) | 1993-07-27 |
| JP3125947B2 JP3125947B2 (ja) | 2001-01-22 |
Family
ID=12067984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04021900A Expired - Fee Related JP3125947B2 (ja) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | 放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3125947B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8632896B2 (en) | 2009-11-12 | 2014-01-21 | Fujifilm Corporation | Radiation-curable vinyl chloride copolymer, radiation-curable composition, and magnetic recording medium |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5450300B2 (ja) | 2009-07-31 | 2014-03-26 | 富士フイルム株式会社 | 放射線硬化性塩化ビニル系樹脂組成物およびその製造方法、塩化ビニル系樹脂、磁気記録媒体、ならびに放射線硬化性塩化ビニル系樹脂用保存安定剤 |
| JP5391286B2 (ja) | 2011-01-12 | 2014-01-15 | 富士フイルム株式会社 | 磁気記録媒体用結合剤樹脂組成物およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 |
-
1992
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|---|---|---|---|---|
| US8632896B2 (en) | 2009-11-12 | 2014-01-21 | Fujifilm Corporation | Radiation-curable vinyl chloride copolymer, radiation-curable composition, and magnetic recording medium |
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