JP3125948B2 - 放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造法 - Google Patents

放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】磁気記録媒体用の結合剤として有
用な放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】塩化ビニル系樹脂は強靭性等の機械的特
性に優れることから、磁気記録媒体用バインダーに使用
されている。近年、キュアリング等の処理の必要性が無
いところから放射線硬化型塩化ビニル系樹脂が検討され
てきている。放射線硬化型塩化ビニル系樹脂を製造する
方法としては、特開昭61−59621号公報におい
て、水酸基を分子中に有する塩化ビニル系樹脂と分子中
に1個以上のエチレン性不飽和基と1個のイソシアネー
ト基を有する化合物を反応させることが開示されている
が、反応時間短縮の為に60℃以上の温度にすると、塩
化ビニル系樹脂は不安定で塩素を放出して分解し、着
色、塗膜物性の低下等が発生し問題である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、以上の
様な事情に鑑み、反応温度60℃以上で着色及び物性の
低下ない製造を可能にし、機械特性及び電気特性に優れ
た磁気記録媒体を製造し得る放射線硬化型の塩化ビニル
系樹脂を得ることを目的として鋭意検討した結果、本発
明に到達した。
【0004】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、水酸基
を分子中に有する塩化ビニル系樹脂と分子中に1個以上
のエチレン性不飽和基と1個のイソシアネート基を有す
る化合物とを分子量500以下のグリシジル基含有化合
物を反応させるに際し、グリシジル基を全反応性成分1
トン当り1〜1000当量になるように存在せしめて反
応させることを特徴とする放射線硬化型塩化ビニル系樹
脂の製造法である。
【0005】本発明者等は放射線硬化型塩化ビニル系樹
脂を製造する方法として、グリシジル基含有化合物を全
反応性成分1トン当り、系中に1〜1000当量存在さ
せることにより、塩化ビニル系樹脂を分解させる事な
く、ウレタン化反応に実用上充分な60℃以上の温度
で、水酸基を分子中に有する塩化ビニル系樹脂と分子中
に1個以上のエチレン性不飽和基と1個のイソシアネー
ト基を有する化合物とを反応させ得ることを見いだした
のである。
【0006】本発明に於ける水酸基を持つ塩化ビニル系
樹脂として、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール
−グリシジル(メタ)アクリレート共重合体などがあ
り、水酸基の数としては1分子中に3〜60個、好まし
くは5〜30個である。また分子中に極性基を1種類以
上含有してもよく、極性基としては、−OSO3 M基、
−SO3 M基、−OPO3 M基、−PO3 M基、−CO
OM基などがある(M原子はH、アミン 、アルカリ金
属などを示す)。
【0007】本発明において、エチレン性不飽和二重結
合を1個以上およびイソシアネート基1個を1分子中に
有しかつウレタン結合を分子中に持たない化合物として
は、(メタ)アクロイルイソシアネート、2−イソシア
ネートエチル(メタ)アクリレート、ポリイソシアネー
トとヒドロキシ(メタ)アクリレートとの反応物などが
ある。上記化合物の添加量としては主鎖ポリマーの2〜
20wt%の範囲が良く、2wt%未満では硬化性が不
十分であり、20wt%を越えて添加しても硬化性の向
上は認められず、かえって塗膜物性に悪影響が出る。
【0008】分子量500以下のグリシジル基含有化合
物としては、活性水素基を持たないグリシジルエステル
類及びグリシジルエーテル類がよく、特に硬化性の点か
らグリシジル(メタ)アクリレートが好ましい。添加量
としてはグリシジル基が、全反応性樹脂構成成分1トン
当り、1当量未満では効果がなく、1000当量を越え
ると塗膜物性等に悪影響を及ぼすので好ましくない。ま
た分子量が500を越えると、硬化膜の物性に悪影響を
与えるだけでなく、塩化ビニル系樹脂の重合時の安定効
果が低下する。
【0009】反応条件としては、反応温度60〜90℃
の範囲が好ましい。溶媒としては、活性水素を持たない
ものが使用でき、例えば、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素またはメチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン類が挙げられる。触媒としては、通常のイ
ソシアネート反応触媒が用いられ、例えば、ジブチルチ
ンジラウリレート、ジブチルチンオキサイド等の金属化
合物またはトリエチルアミン等のアミン化合物を用いる
ことが出来る。また、反応中でのエチレン性不飽和二重
結合の安定化のため重合禁止剤等を用いてもよい。
【0010】電子線照射機としては、スキャニング方
式、あるいはカーテンビーム方式が採用でき、吸収線量
は1〜20Mrad、好ましくは2〜15Mradが良
い。吸収線量は1Mrad未満では硬化反応が不充分で
あり、20Mradを越えると、硬化に使用されるエネ
ルギー効率が低下したり、過度の架橋が進行したりする
ため、好ましくない。
【0011】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。 実施例1 温度計、撹拌機、還流式冷却器を具備した反応容器中
に、水酸基を含有する塩化ビニル系樹脂であるVAGH
(ユニオンカーバイド社製)100部とメチルエチルケ
トン250部を仕込み、溶解後、2−メタクロイルオキ
シエチルイソシアネート10部、グリシジルメタクリレ
ート0.1部、ジブチルチンジラウレート0.02部及
びハイドロキノン0.003部を仕込み、70〜80℃
で6時間反応させて放射線硬化型塩化ビニル系樹脂Aを
得た。同様に表1に示す組成で放射線硬化型塩化ビニル
系樹脂B及びCを得た。
【0012】比較例1 温度計、撹拌機、還流式冷却器を具備した反応容器中に
前出のVAGH100部とメチルエチルケトン250部
を仕込み、溶解後、2−メタクロイルオキシエチルイソ
シアネート10部、ジブチルチンジラウレート0.02
部及びハイドロキノン0.003部を仕込み、70〜8
0℃で6時間反応させて放射線硬化型塩化ビニル系樹脂
Dを得た。同様に放射線硬化型塩化ビニル系樹脂E及び
Fを得た。その結果を表1に示す。
【0013】 磁性塗料の製造方法 磁性粉末(コバルト被覆γ−酸化鉄) 60部 ポリウレタンアクリレート樹脂(BK4102:東洋紡績社製) (固形分濃度35wt%) 15部 放射線硬化型塩化ビニル系樹脂溶液A(固形分濃度30.6wt%)15部 トルエン 25部 メチルイソブチルケトン 25部
【0014】上記組成物をボールミルで24時間混合し
た後、この磁性塗料を25μmのポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に乾燥後の厚みが6μmとなるように
塗布した。次いで0.05秒間、2500ガウスの直流
磁場により、フィルムの長さ方向に磁場配向処理を行
い、100℃で1分間熱風乾燥した後、カレンダー処理
を行い、5Mradの放射線処理を行なった。次いでこ
のフイルムを幅1.5cmに切断して磁気テープを作成し
た。
【0015】表1に示した放射線硬化型塩化ビニル系樹
脂B〜Fを用いて、同様の方法によりポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に磁化可能層を形成させ、幅1.
5cmの磁気テープを作成した。各々の磁化可能層の特性
測定結果を表2に示した。
【0016】
【表1】
【0017】
【表2】
【0018】
【発明の効果】表1及び2から明らかなように、本発明
より製造された放射線硬化型塩化ビニル系樹脂は着色が
少なく、この樹脂を用いて得られた磁気記録媒体は磁気
特性及び耐久性に優れる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08F 8/00 C08F 2/48

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水酸基を分子中に有する塩化ビニル系樹
    脂と分子中に1個以上のエチレン性不飽和基と1個のイ
    ソシアネート基を有する化合物とを反応させるに際し、
    分子量500以下のグリシジル基含有化合物を全反応性
    成分1トン当りグリシジル基が1〜1000当量になる
    ように存在せしめて反応させることを特徴とする放射線
    硬化型塩化ビニル系樹脂の製造法。
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