JPH05177535A - Method and device for polishing - Google Patents

Method and device for polishing

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Publication number
JPH05177535A
JPH05177535A JP4001891A JP189192A JPH05177535A JP H05177535 A JPH05177535 A JP H05177535A JP 4001891 A JP4001891 A JP 4001891A JP 189192 A JP189192 A JP 189192A JP H05177535 A JPH05177535 A JP H05177535A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polisher
workpiece
liquid
polishing
machining
Prior art date
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Pending
Application number
JP4001891A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eijiro Koike
栄二郎 小池
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH05177535A publication Critical patent/JPH05177535A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To supply the processing liquid uniformly while thermal deformation of a holder is suppressed, by immersing a work to be processed and a polisher completely in a processing solution, and supplying the solution having passed through the polisher to the work from the opposed face side of the polisher. CONSTITUTION:A polishing device is chiefly composed of a work holding part 2 which holds a work to be processed 1 and rotates it, a polisher holding part 4 which presses polisher 3 to the work 1 and rotates the polisher in reversals by a swing driving part 13, and a processing solution supply part 6 to supply a processing solution 5 to the part of processing. The processing solution 5 is interposed between the work 1 and polisher 3 and they are moved in relative motions, and thereby polishing is performed in the condition being contacted. At this time, the work 1 and polisher 3 are immersed completely in the processing solution 5 contained in a processing trough 7. The solution 5 having passed through the polisher 3 is supplied to the work 1 from the opposed face side of the polisher 3 to the work 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

[発明の目的] [Object of the Invention]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、非接触で形状精度の高
い研磨加工を実現することのできる研磨方法及びその装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing method and apparatus capable of achieving non-contact polishing with high shape accuracy.

【0002】[0002]

【従来の技術】近時、超精密加工分野において、例えば
特開昭63−180463号公報に開示されているよう
に、フロートポリシングと称される非接触研磨加工が盛
んとなっている。このフロートポリシングは、図6に示
すように、蒸留水に数10オングストロームの微細粉末
粒子を懸濁させた加工液A中で、一定距離偏心させたポ
リシングプレートBと被加工物Cを同時に回転させるも
のである。このとき、被加工物Cをフローティングが自
由で回転トルクだけが伝達されるようにしておくと、動
圧効果により被加工物CとポリシングプレートBとの間
にわずかな隙間ができ、被加工物Cは浮き上がる。しか
して、実際の加工は、この隙間を通過する微細粉末粒子
の被加工物Cへの衝突による微細破壊により進行する。
2. Description of the Related Art Recently, in the field of ultra-precision machining, a non-contact polishing process called float polishing has become popular as disclosed in, for example, JP-A-63-180463. In this float polishing, as shown in FIG. 6, a polishing plate B and a workpiece C, which are eccentric for a certain distance, are simultaneously rotated in a working fluid A prepared by suspending fine powder particles of several tens of angstroms in distilled water. It is a thing. At this time, if the workpiece C is allowed to float freely and only the rotational torque is transmitted, a slight gap is created between the workpiece C and the polishing plate B due to the dynamic pressure effect, and the workpiece C C rises. Then, the actual processing proceeds due to the fine destruction due to the collision of the fine powder particles passing through the gap with the workpiece C.

【0003】ところで、従来の非接触研磨加工の特徴は
以下のようになっている。すなわち、(1)加工槽D内
の加工液Aは、被加工物Cの表面が浸漬する程度であ
る。(2)加工液Aは、ポリシングプレートBの中央部
付近から数cm上にある加工液吐出ホースEから被加工
物C表面に供給されていた。(3)被加工物Cを保持し
ているホルダFは、ピンジョイントGを介して強制回転
駆動されていた。
The characteristics of the conventional non-contact polishing process are as follows. That is, (1) the working liquid A in the working tank D is such that the surface of the workpiece C is immersed. (2) The working fluid A was supplied to the surface of the workpiece C from the working fluid discharge hose E located several cm above the vicinity of the central portion of the polishing plate B. (3) The holder F holding the workpiece C was driven to rotate by force through the pin joint G.

【0004】しかるに、従来の非接触研磨加工は、次の
ような欠点をもっている。<1>被加工物Cを保持して
いるホルダFは、温度制御されていないために、加工中
に熱変形が生じ、これに伴って、被加工物Cも変形する
ので、超精密加工の阻害要因となっている。<2>加工
液Aは、被加工物Cの外周部から中心に向かって供給さ
れるので、被加工面の全面を均一に加工することが困難
となる。<3>ピンジョイントGのみで被加工物Cを保
持しているので、加工中、しばしば被加工物Cが不安定
な状態になることにより、被加工物Cとポリシングプレ
ートBとが接触してしまい、被加工物Cを損傷させるこ
とがある。また、被加工物Cの保持が不安定なため、被
加工物Cの運動は、強制回転運動のみであり、揺動運動
と組合わせることができない。その結果、被加工物Cは
ポリシングプレートBに対して同一の軌跡を描かざるを
えず、被加工物Cの形状精度向上の障害となっていた。
However, the conventional non-contact polishing process has the following drawbacks. <1> Since the temperature of the holder F holding the workpiece C is not controlled, thermal deformation occurs during machining, and the workpiece C is also deformed accordingly. It is an obstacle. <2> Since the machining liquid A is supplied from the outer peripheral portion of the workpiece C toward the center, it becomes difficult to uniformly machine the entire surface of the workpiece. <3> Since the work piece C is held only by the pin joint G, the work piece C is often in an unstable state during working, so that the work piece C and the polishing plate B come into contact with each other. In some cases, the workpiece C may be damaged. Further, since the holding of the work piece C is unstable, the movement of the work piece C is only the forced rotation movement and cannot be combined with the swing movement. As a result, the workpiece C has to draw the same locus with respect to the polishing plate B, which is an obstacle to improving the shape accuracy of the workpiece C.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
非接触研磨加工は、被加工物の熱変形、加工液の供給の
不均一並びに強制回転運動させている被加工物に揺動運
動を組合わせることができないという問題をもってい
る。
As described above, the conventional non-contact polishing process causes thermal deformation of the work piece, non-uniformity of supply of the working fluid, and swing motion of the work piece which is forced to rotate. Have the problem that they cannot be combined.

【0006】本発明は、上記事情を顧慮してなされたも
ので、被加工物を保持しているホルダの熱変形を抑制し
ながら、加工液を被加工物の表面に均一に供給し、なお
かつ、ホルダを回転および揺動駆動させることにより、
非接触で超精密研磨加工を実現することのできる研磨方
法及びその装置を提供することを目的とする。 [発明の構成]
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and supplies the working liquid uniformly to the surface of the workpiece while suppressing thermal deformation of the holder holding the workpiece, and By rotating and swinging the holder,
It is an object of the present invention to provide a polishing method and a polishing apparatus capable of realizing ultra-precision polishing processing without contact. [Constitution of Invention]

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、ポリシャ及び
被加工物を加工液中に完全に浸漬させ、かつ、加工液を
ポリシャの研磨作用面に設けられた開口を介してポリシ
ャと被加工物との間隙に直接噴射するようにし、かつ、
ポリシャを被加工物に対し相対的に押付けた状態でポリ
シャと被加工物を回転駆動するとともに相対的に揺動駆
動するようにしたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, a polisher and a work piece are completely immersed in a working fluid, and the working fluid is worked with the polisher through an opening provided in a polishing action surface of the polisher. Direct injection into the gap between the object and
In the state where the polisher is pressed relatively to the work piece, the polisher and the work piece are rotationally driven and relatively rocked.

【0008】[0008]

【作用】このような本発明は、ポリシャ及び被加工物の
加工中の熱変形を抑制することができるとともに、ポリ
シャと被加工物との間隙に均一な加工液膜を安定して介
在させることができるようになり、さらに、ポリシャを
被加工物に忠実に倣って且つ安定して移動させることが
できるようになる結果、被加工物の表面粗さ及び形状精
度を飛躍的に向上させることができる。
According to the present invention as described above, the thermal deformation of the polisher and the work piece during processing can be suppressed, and a uniform working liquid film can be stably interposed in the gap between the polisher and the work piece. As a result, it becomes possible to move the polisher in a manner that faithfully follows the work piece and stably, and as a result, the surface roughness and shape accuracy of the work piece can be dramatically improved. it can.

【0009】[0009]

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳
述する。
An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0010】図1は、この実施例の研磨装置を示してい
る。この研磨装置は、被加工物1を保持して回転駆動す
る被加工物保持部2と、この被加工物保持部2の上方位
置に設けられポリシャ3を保持して被加工物保持部2に
保持されている被加工物1に押し付けるとともにポリシ
ャ3を回転・揺動させるポリシャ保持部4と、加工部位
に加工液5を供給する加工液供給部6とからなってい
る。しかして、被加工物保持部2は、有底円筒状の加工
槽7と、この加工槽7を支持する基台8と、この基台8
に取付けられ加工槽7をその軸線のまわりに回転駆動す
るモータ9とからなっている。上記加工槽7の内底部に
は、例えば凹球面ミラーなどの円盤状の被加工物1が図
示せぬ治具を介して同軸に固定されるようになってい
る。一方、ポリシャ保持部4は、一方の主面が凸球面1
0に形成された例えば錫製の円盤状ポリシャ3と、この
ポリシャ3の他方の主面に同軸に連結されこのポリシャ
3に一定の範囲内で上下動自在に回転トルクを伝達する
回転伝達部11と、この回転伝達部11に隣接して設け
られ回転伝達部11を介して回転しているポリシャ3を
被加工物1に対して加圧するポリシャ加圧部3aと、こ
の回転伝達部11を介してポリシャ3を回転駆動する回
転駆動部12と、この回転駆動部12を載置して図1の
矢印X1,X2方向に揺動させる揺動駆動部13と、こ
の揺動駆動部13を被加工物保持部2を跨ぐように保持
する橋絡部14とからなっている。しかして、ポリシャ
3は、被加工物1の外径の1/4以下の外径を有し、且
つ、図2及び図3に示すように、円盤状の本体部15
と、この本体部15の一方の主面に形成された凸球面1
0と、この凸球面10上に刻設された螺旋溝11(図に
ては断面形状のみ示してある。)と、本体部15の内部
に設けられ且つ一端部開口16,16が本体部15の他
方の主面中央付近に設けられ他端部開口17…が凸球面
10に設けられ開口16,16から導入された加工液5
を開口17…から外部に噴出させる加工液案内孔18と
からなっている。そして、加工液案内孔18の開口1
6,16は、本体部15の他方の主面の対称位置となる
2か所に設けられている。また、ポリシャ3には、凸球
面10の中央部に形成された円形の凹部19と、この凹
部19を中心として放射状に等配して4本刻設された直
線溝20…とを有している。そして、前記加工液案内孔
18の開口17…は、直線溝20…の内部にて、径方向
に等間隔で配設されている。一方、回転伝達部11は、
図4に示すように、ポリシャ3の他方の主面に同軸に連
結された第1回転軸21と、この第1回転軸21に連結
された等速玉継手22と、この等速玉継手22を介して
第1回転軸21に連結された第2回転軸23と、この第
2回転軸23を軸支する軸受24とからなっている。上
記等速玉継手22は、図5に示すように、第1回転軸2
1の先端に嵌合されたリング体25と、このリング体2
5を包囲する継手空間26が形成され且つこの継手空間
26と反対側が第2回転軸23に同軸に連結された継手
箱体27と、継手箱体27の内面とリング体25の外面
に刻設された軸方向の溝28…,29…に転動自在に介
装された鋼球30…とからなっている。上記溝28…,
29…はそれぞれ例えば6本ずつ刻設されている。これ
ら鋼球30…の互いに相対する2個ずつの鋼球30,3
0の中心を結ぶ線は、連結する第1回転軸21と第2回
転軸23の軸線の交点を通り、しかも紙面に垂直な平面
内に存在するような構造に設けられている。そして、こ
れら鋼球30…を介して第1回転軸21は、溝28…の
長さの範囲内でZ方向に移動自在であるとともに、前記
交点を中心として全方向に回動自在となっている。さら
に、橋絡部14は、基台8の上部両側にその辺に沿って
位置調節自在に立設された橋脚32,32と、これら橋
脚32,32に立設された橋体33とからなっている。
そして、揺動駆動部13は、橋体33上に固定された揺
動テーブル部34と、同じく橋体33上に揺動テーブル
部34に隣接して固定された駆動部35とからなってい
る。上記揺動テーブル部34は、例えばクロスローラテ
ーブルなどの高精度テーブルであって、橋体33上に固
定して設けられたベース体36と、このベース体36上
記に矢印X1,X2方向に揺動自在に載架されたテーブ
ル体37とからなっている。また、駆動部35は、詳細
には、、モータ13aと、このモータ13aにより回転
駆動されるカム機構13bと、このカム機構13bとテ
ーブル体37との間に連結されカム機構13bの回転運
動を矢印X1,X2方向の揺動運動に変換する連結杆3
8とからなっている。さらに、回転駆動部12は、図4
に示すように、テーブル体37上に固設された取付柱3
9と、一端部が取付柱39に固定され且つ他端部が軸受
24に連結され上記回転伝達部11とポリシャ3を片持
状に支持する支持アーム部40と、第2回転軸23の上
記端部に嵌着された第1のプーリ41と、取付柱39に
固定されたモータ42と、このモータ42の回転軸に嵌
着された第2のプーリ43と、第1のプーリ40と第2
のプーリ43の間に巻き掛けられたベルト44とからな
っている。上記支持アーム部40は、取付柱39に対す
るZ方向の取付位置調節自在に設けられている。さら
に、ポリシャ加圧部3aは、回転伝達部11の軸受24
に一体的に連設・固定された保持体45と、この保持体
45の下部に設けられた保持孔46に上端部が出入自在
に嵌挿された加圧軸46と、この加圧軸46の下端部に
取付けられた球体座47と、この球体座47に転動自在
に取付けられた加圧球48と、保持孔46の内部に装填
され加圧軸46を加圧球48側に弾性的に付勢するばね
49とからなっている。他方、加工液供給部6は、加工
液5を強制的に循環させるとともに加工液5を一定温度
に制御する加工液コントローラ50と、加工液5をポリ
シャ3の開口16,16に案内する加工液案内部51
と、加工槽7に滞留している加工液5を攪拌する加工液
攪拌部52とからなっている。上記加工液コントローラ
50は、図示せぬが加工液5を強制的に循環させるポン
プと、加工液5を例えば22±0.1°Cの一定温度に
維持制御するサーモスタット(ヒータ及びクーラを含
む。)とを有している。また、加工液案内部51は、第
2回転軸23の上端部に取付けられたロータリカップリ
ング53と、このロータリカップリング53を介して加
工液5を加工液コントローラ50側から導入する加工液
供給ホース53aと、ロータリカップリング53に直結
し第2回転軸23の上端部から中途部まで軸心に沿って
穿設され且つ第2回転軸23の中央部外周面にて開口す
る加工液導入孔54と、一端部が軸受24の側部に連結
され他端部がポリシャ3の開口16,16に接続された
加工液案内ホース55,55と、加工槽7内部の加工液
5を加工液コントローラ50に回収する加工液回収ホー
ス55aとからなっている。一方、加工液攪拌部52
は、加工槽7の側板に固定された支持治具56と、この
支持治具56に支持されたモータ57と、このモータ5
7の回転軸に連結され加工液5に浸漬されて加工液5を
攪拌する攪拌扇58とからなっている。つぎに、上記構
成の研磨装置を用いて本発明の研磨方法について述べ
る。
FIG. 1 shows a polishing apparatus of this embodiment. This polishing apparatus includes a workpiece holder 2 for holding and rotating the workpiece 1, and a polisher 3 provided above the workpiece holder 2 for holding the workpiece 3 on the workpiece holder 2. It comprises a polisher holding portion 4 that presses against the held work piece 1 and rotates / rocks the polisher 3, and a working liquid supply portion 6 that supplies a working liquid 5 to a working portion. The workpiece holder 2 has a bottomed cylindrical processing tank 7, a base 8 for supporting the processing tank 7, and a base 8 for supporting the processing tank 7.
And a motor 9 for driving the processing tank 7 to rotate around its axis. A disk-shaped workpiece 1 such as a concave spherical mirror is coaxially fixed to the inner bottom of the processing tank 7 via a jig (not shown). On the other hand, the polisher holder 4 has a convex spherical surface 1 on one main surface.
A disk-shaped polisher 3 made of, for example, tin and formed in 0, and a rotation transmitting portion 11 which is coaxially connected to the other main surface of the polisher 3 and which transmits a rotation torque to the polisher 3 so as to be vertically movable within a certain range. And a polisher pressurizing section 3a which is provided adjacent to the rotation transmitting section 11 and presses the polisher 3 rotating through the rotation transmitting section 11 against the work piece 1, and the rotation transmitting section 11 1 to rotate the polisher 3 and to rotate the polisher 3, a swing drive unit 13 on which the rotary drive unit 12 is mounted and swings in the directions of arrows X1 and X2 in FIG. It comprises a bridging portion 14 that holds the workpiece holder 2 so as to straddle it. Therefore, the polisher 3 has an outer diameter that is ¼ or less of the outer diameter of the workpiece 1, and as shown in FIGS. 2 and 3, the disk-shaped main body 15
And the convex spherical surface 1 formed on one main surface of the main body portion 15.
0, a spiral groove 11 (only the cross-sectional shape is shown in the drawing) formed on the convex spherical surface 10, and one end openings 16 and 16 provided inside the main body portion 15 and the main body portion 15. , Which is provided near the center of the other main surface of the other end 17 and is provided on the convex spherical surface 10 and introduced through the openings 16 and 16.
And a machining liquid guide hole 18 for ejecting the liquid from the opening 17 to the outside. And the opening 1 of the machining fluid guide hole 18
Reference numerals 6 and 16 are provided at two symmetrical positions on the other main surface of the main body 15. Further, the polisher 3 has a circular concave portion 19 formed in the central portion of the convex spherical surface 10 and four linear grooves 20 ... There is. The openings 17 ... Of the machining liquid guide holes 18 are arranged at equal intervals in the radial direction inside the linear grooves 20. On the other hand, the rotation transmission unit 11
As shown in FIG. 4, a first rotary shaft 21 coaxially connected to the other main surface of the polisher 3, a constant velocity ball joint 22 coupled to the first rotary shaft 21, and a constant velocity ball joint 22 The second rotary shaft 23 is connected to the first rotary shaft 21 and a bearing 24 that supports the second rotary shaft 23. The constant velocity ball joint 22 is, as shown in FIG.
1 and the ring body 25 fitted to the tip of the ring body 2
5, a joint space 26 is formed to surround the joint space 26, and the opposite side of the joint space 26 is coaxially connected to the second rotating shaft 23, and the inner surface of the joint space 27 and the outer surface of the ring body 25 are engraved. ., 29. The steel balls 30 are rotatably interposed in the axial grooves 28, 29. The groove 28 ...
For example, each of 29 ... Is engraved. Two steel balls 30, 3 facing each other of these steel balls 30.
The line that connects the centers of 0 passes through the intersection of the axes of the first rotating shaft 21 and the second rotating shaft 23 that are connected to each other, and is provided in a structure that is present in a plane perpendicular to the paper surface. The first rotating shaft 21 is movable in the Z direction within the range of the length of the grooves 28 through the steel balls 30 and is rotatable in all directions around the intersection. There is. Further, the bridge portion 14 is composed of bridge piers 32 and 32 erected on both sides of the upper portion of the base 8 along the sides thereof so as to be positionally adjustable, and a bridge body 33 erected on these piers 32 and 32. ing.
The swing drive unit 13 includes a swing table unit 34 fixed on the bridge body 33, and a drive unit 35 also fixed on the bridge body 33 adjacent to the swing table unit 34. .. The swing table section 34 is, for example, a high-precision table such as a cross roller table, and includes a base body 36 fixedly provided on the bridge body 33, and the base body 36 that swings in the directions of arrows X1 and X2. The table 37 is movably mounted. Further, in detail, the drive unit 35 is connected between the motor 13a, the cam mechanism 13b rotationally driven by the motor 13a, the cam mechanism 13b and the table body 37, and rotates the cam mechanism 13b. Connecting rod 3 for converting into swinging motion in the directions of arrows X1 and X2
It consists of 8. Further, the rotation drive unit 12 is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, the mounting column 3 fixedly mounted on the table body 37
9, a support arm 40 having one end fixed to the mounting post 39 and the other end connected to the bearing 24 to support the rotation transmission part 11 and the polisher 3 in a cantilevered manner, and the second rotation shaft 23 described above. A first pulley 41 fitted to an end portion, a motor 42 fixed to a mounting post 39, a second pulley 43 fitted to a rotation shaft of this motor 42, a first pulley 40 and a first pulley 40. Two
The belt 44 is wound around the pulleys 43 of FIG. The support arm portion 40 is provided so that the mounting position in the Z direction with respect to the mounting column 39 can be adjusted. Further, the polisher pressurizing unit 3 a includes the bearing 24 of the rotation transmitting unit 11.
A holding body 45 integrally connected to and fixed to the holding body 45, a pressing shaft 46 having an upper end portion fitted in a holding hole 46 provided at a lower portion of the holding body 45 so as to be freely inserted and removed, and the pressing shaft 46. Sphere seat 47 attached to the lower end of the sphere, a pressurizing sphere 48 rotatably attached to the sphere seat 47, and a pressurizing shaft 46 loaded in the holding hole 46 and elastically moving the pressurizing shaft 46 to the pressurizing sphere 48 side. And a spring 49 for urging the target. On the other hand, the machining fluid supply unit 6 forcibly circulates the machining fluid 5 and controls the machining fluid 5 at a constant temperature, and the machining fluid that guides the machining fluid 5 to the openings 16 and 16 of the polisher 3. Guide 51
And a working liquid stirring section 52 for stirring the working liquid 5 accumulated in the working tank 7. The machining fluid controller 50 includes a pump (not shown) forcibly circulating the machining fluid 5 and a thermostat (heater and cooler) for maintaining and controlling the machining fluid 5 at a constant temperature of, for example, 22 ± 0.1 ° C. ) And have. Further, the machining fluid guide portion 51 is a rotary coupling 53 attached to the upper end portion of the second rotary shaft 23, and a machining fluid supply for introducing the machining fluid 5 from the machining fluid controller 50 side via the rotary coupling 53. A working fluid introduction hole that is directly connected to the hose 53a and the rotary coupling 53, is bored along the axis from the upper end of the second rotary shaft 23 to the middle, and is open at the outer peripheral surface of the central part of the second rotary shaft 23. 54, a machining fluid guide hose 55, 55 having one end connected to the side portion of the bearing 24 and the other end connected to the openings 16, 16 of the polisher 3, and the machining fluid 5 in the machining tank 7 And a working fluid recovery hose 55a to be recovered in 50. On the other hand, the working fluid agitator 52
Is a supporting jig 56 fixed to the side plate of the processing tank 7, a motor 57 supported by the supporting jig 56, and a motor 5
The stirring fan 58 is connected to the rotary shaft of No. 7 and is immersed in the working fluid 5 to stir the working fluid 5. Next, the polishing method of the present invention using the polishing apparatus having the above structure will be described.

【0011】まず、被加工物保持部2の加工槽7の内底
部に被加工物1を図示せぬ治具を介して同軸に固定す
る。この被加工物1は、予め研磨加工により凹球面1a
(図4参照)が形成されている。つぎに、橋絡部14に
よりポリシャ3のY方向(図1紙面垂直方向)の位置決
めを行い、ポリシャ3が被加工物1のほぼ径方向中央部
に位置するようにする。ついで、支持アーム部40をZ
方向に動かして、ポリシャ3が被加工物1に当接する位
置にて固定する。そして、加工液5を、この加工液5
が、ポリシャ3を完全に浸漬するまで、加工槽7に供給
する。この加工液5は、蒸留水に数10オングストロー
ムの微細粉末粒子からなる砥粒を懸濁させたものであ
る。そして、モータ9を起動して、被加工物1を矢印θ
1方向に例えば毎分50回転で回転させる。同時に、回
転駆動部12のモータ42を起動し、ポリシャ3を矢印
θ2方向に例えば毎分55回転で回転させる。すなわ
ち、モータ42の回転は、第2のプーリ43、ベルト4
4、第1のプーリ40を介して、第2回転軸23に伝達
される。すると、第2回転軸23の回転は、等速玉継手
22を介して、第1回転軸21に連結されているポリシ
ャ3に伝達される。さらに、このポリシャ3の回転運動
と合わせて、揺動駆動部13を起動させ、ポリシャ3を
矢印X1,X2方向に例えば毎分10往復で、揺動させ
る。すなわち、揺動駆動部13のモータ13aを起動さ
せるとカム機構13bの作動により、連結杆38は矢印
X1,X2方向に揺動する。その結果、テーブル体37
上に固設された回転駆動部12も矢印X1,X2方向に
揺動し、ポリシャ3は、被加工物1上にて、矢印θ2方
向の回転と矢印X1,X2方向の揺動を行う。このと
き、ポリシャ3は、ばね49の弾性的付勢力により加圧
球48を介して、被加工物1に押付けられている。この
ことと、ポリシャ3が、等速玉継手22を介して第2回
転軸23に接続されていることにより、ポリシャ3は、
凹球面1aに倣って忠実に動く。一方、加工液コントロ
ーラ50を起動することにより、加工液5を、加工液供
給ホース53aを介して、加工液導入孔54に導入す
る。この加工液導入孔54に導入された加工液5は、加
工液案内ホース55,55を経由してポリシャ3の加工
液案内孔18に案内される。そして、この加工液案内孔
18に導入された加工液5は、開口17…からポリシャ
3と被加工物1との間隙に噴射される。この結果、加工
液5は、ポリシャ3の回転に伴う遠心力により、ポリシ
ャ3の中心部から外周部に向かって広がり、ポリシャ3
と被加工物1との間には、常に、例えば μm程度の
均一な液膜が存在することになり、ポリシャ3は、被加
工物1から常に安定して浮上した状態となり、被加工物
1は、加工液5に懸濁されている砥粒の衝突による微細
破壊により、超高精度に研磨される。そして、ポリシャ
3が、被加工物1から常に安定して浮上した状態となっ
ていることは、被加工物1のポリシャ3の直接衝突によ
りキズが入るなどの損傷を防止にも役立っている。また
このとき、加工槽7内の加工液5は、加工液攪拌部52
により攪拌する。これにより、砥粒の加工槽7への沈澱
を防止し、加工槽7内に砥粒を分散させることができ
る。さらにまた、加工液5が加工液コントローラ50で
温度制御されていること、ポリシャ3及び被加工物1が
完全に加工液5中に浸漬されていること、並びに、加工
液5をポリシャ3の加工液案内孔18の開口17…を介
してポリシャ3と被加工物1との間隙に直接噴射するよ
うにしていることとが相俟って、ポリシャ3と被加工物
1の熱変形を抑制することができる。しかして、ポリシ
ャ3は、ポリシャ加圧部3aにより被加工物1に押付け
られている状態で、等速玉継手22を有する回転駆動部
12により矢印θ2方向に回転駆動されているととも
に、揺動駆動部13により矢印X1,X2方向に揺動駆
動されているので、ポリシャ3の螺旋溝11が形成され
た凸球面10を、被加工物1の凹球面1aに忠実に倣っ
て且つ安定して移動させることができる。かくして、こ
の実施例の研磨方法によれば、被加工物1の凹球面1a
を表面粗さ0.1μmRaから表面粗さ1オングストロ
ームRaまで、また、形状精度0.3μmP−Vから表
面粗さ0.06μmRaまで向上させることができる。
First, the workpiece 1 is coaxially fixed to the inner bottom of the processing tank 7 of the workpiece holder 2 via a jig (not shown). This work piece 1 has a concave spherical surface 1a which is previously polished.
(See FIG. 4) are formed. Next, the bridging portion 14 positions the polisher 3 in the Y direction (direction perpendicular to the paper surface of FIG. 1) so that the polisher 3 is positioned substantially at the center of the workpiece 1 in the radial direction. Then, the support arm portion 40 is moved to Z
And is fixed at a position where the polisher 3 abuts the workpiece 1. Then, the machining fluid 5 is replaced with the machining fluid 5
Is supplied to the processing tank 7 until the polisher 3 is completely immersed. The working liquid 5 is a suspension of abrasive grains composed of fine powder particles of several tens of angstroms in distilled water. Then, the motor 9 is started to move the workpiece 1 to the arrow θ.
For example, it is rotated at 50 rpm in one direction. At the same time, the motor 42 of the rotary drive unit 12 is activated to rotate the polisher 3 in the direction of the arrow θ2 at, for example, 55 revolutions per minute. That is, the rotation of the motor 42 depends on the rotation of the second pulley 43 and the belt 4.
4, transmitted to the second rotary shaft 23 via the first pulley 40. Then, the rotation of the second rotating shaft 23 is transmitted to the polisher 3 connected to the first rotating shaft 21 via the constant velocity ball joint 22. Further, in conjunction with the rotational movement of the polisher 3, the swing drive unit 13 is activated to swing the polisher 3 in the directions of the arrows X1 and X2 at, for example, 10 reciprocations per minute. That is, when the motor 13a of the swing drive unit 13 is started, the connecting rod 38 swings in the directions of arrows X1 and X2 by the operation of the cam mechanism 13b. As a result, the table body 37
The rotation drive unit 12 fixed on the top also swings in the directions of arrows X1 and X2, and the polisher 3 rotates on the workpiece 1 in the direction of arrow θ2 and swings in the directions of arrows X1 and X2. At this time, the polisher 3 is pressed against the workpiece 1 via the pressing ball 48 by the elastic biasing force of the spring 49. By this and the polisher 3 being connected to the second rotary shaft 23 via the constant velocity ball joint 22, the polisher 3 is
It moves faithfully following the concave spherical surface 1a. On the other hand, by activating the machining fluid controller 50, the machining fluid 5 is introduced into the machining fluid introduction hole 54 via the machining fluid supply hose 53a. The machining fluid 5 introduced into the machining fluid introduction hole 54 is guided to the machining fluid guide hole 18 of the polisher 3 via the machining fluid guide hoses 55, 55. Then, the machining fluid 5 introduced into the machining fluid guide hole 18 is sprayed from the openings 17 ... into the gap between the polisher 3 and the workpiece 1. As a result, the machining liquid 5 spreads from the central portion of the polisher 3 toward the outer peripheral portion thereof due to the centrifugal force caused by the rotation of the polisher 3,
Since a uniform liquid film of, for example, about μm always exists between the workpiece 1 and the workpiece 1, the polisher 3 is always in a stable floating state above the workpiece 1, and the workpiece 1 Is finely broken by collision of the abrasive grains suspended in the working liquid 5, and is polished with an extremely high precision. The fact that the polisher 3 is always in a stable floating state above the workpiece 1 also helps prevent damage such as scratches due to direct collision of the polisher 3 of the workpiece 1. Further, at this time, the working fluid 5 in the working tank 7 is treated by the working fluid stirring unit 52.
Stir by. Accordingly, it is possible to prevent the abrasive grains from precipitating in the processing tank 7 and disperse the abrasive particles in the processing tank 7. Furthermore, the temperature of the machining fluid 5 is controlled by the machining fluid controller 50, the polisher 3 and the workpiece 1 are completely immersed in the machining fluid 5, and the machining fluid 5 is processed by the polisher 3. This is combined with the fact that the liquid is directly injected into the gap between the polisher 3 and the workpiece 1 through the openings 17 of the liquid guide hole 18, so that thermal deformation of the polisher 3 and the workpiece 1 is suppressed. be able to. Then, the polisher 3 is rotationally driven in the direction of the arrow θ2 by the rotary drive unit 12 having the constant velocity ball joint 22 while being pressed against the workpiece 1 by the polisher pressurizing unit 3a, and also the swing drive is performed. Since the portion 13 is swingably driven in the directions of the arrows X1 and X2, the convex spherical surface 10 of the polisher 3 in which the spiral groove 11 is formed faithfully follows the concave spherical surface 1a of the workpiece 1 and is stably moved. Can be made Thus, according to the polishing method of this embodiment, the concave spherical surface 1a of the workpiece 1 is
Can be improved from a surface roughness of 0.1 μmRa to a surface roughness of 1 angstrom Ra, and a shape accuracy of 0.3 μmP-V to a surface roughness of 0.06 μmRa.

【0012】以上のように、この実施例の研磨方法及び
その装置は、<1>加工液5を加工液コントローラ50
で一定温度に温度制御し、かつ、ポリシャ3及び被加工
物1を完全に加工液5中に浸漬させ、かつ、加工液5を
ポリシャ3の加工液案内孔18の開口17…を介してポ
リシャ3と被加工物1との間隙に直接噴射するようにし
たことにより、ポリシャ3及び被加工物1の加工中の熱
変形を抑制することができる。<2>加工液5をポリシ
ャ3の加工液案内孔18の開口17…を介してポリシャ
3と被加工物1との間隙に直接噴射するようにし、か
つ、加工槽7内の加工液5を加工液攪拌部52により攪
拌して加工槽7内における砥粒の分散を促進するように
したことにより、ポリシャ3と被加工物1との間隙に均
一な加工液膜を安定して介在させることができるように
なった。<3>ポリシャ3をポリシャ加圧部3aにより
被加工物1に押付けた状態で、等速玉継手22を有する
回転駆動部12により矢印θ2方向に回転駆動するとと
もに、揺動駆動部13により矢印X1,X2方向に揺動
駆動したので、ポリシャ3の螺旋溝11が形成された凸
球面10を、被加工物1の凹球面1aに忠実に倣って且
つ安定して移動させることができるようになり、前記<
1>,<2>の諸効果と相俟って、被加工物1の凹球面
1aを表面粗さ0.1μmRaから表面粗さ1オングス
トロームRaまで、また、形状精度0.3μmP−Vか
ら表面粗さ0.06μmP−Vまで向上させることがで
きる。
As described above, according to the polishing method and the apparatus thereof of this embodiment, <1> the machining fluid 5 is fed to the machining fluid controller 50.
The temperature is controlled to a constant temperature with the polisher 3 and the workpiece 1 is completely immersed in the machining fluid 5, and the machining fluid 5 is passed through the openings 17 of the machining fluid guide holes 18 of the polisher 3 ... By directly injecting into the gap between the workpiece 3 and the workpiece 1, thermal deformation during polishing of the polisher 3 and the workpiece 1 can be suppressed. <2> The machining liquid 5 is directly jetted into the gap between the polisher 3 and the workpiece 1 through the openings 17 of the machining liquid guide hole 18 of the polisher 3, and the machining liquid 5 in the machining tank 7 is injected. Stirring by the machining liquid agitator 52 to promote the dispersion of the abrasive grains in the machining tank 7, so that a uniform machining liquid film can be stably present in the gap between the polisher 3 and the workpiece 1. Is now possible. <3> While the polisher 3 is pressed against the workpiece 1 by the polisher pressurizing unit 3a, the rotary drive unit 12 having the constant velocity ball joint 22 rotationally drives it in the direction of the arrow θ2, and the swing drive unit 13 drives the arrow X1. , X2 direction, so that the convex spherical surface 10 of the polisher 3 in which the spiral groove 11 is formed can be moved in a stable manner by faithfully following the concave spherical surface 1a of the workpiece 1. , The above
Combined with the effects of 1> and <2>, the concave spherical surface 1a of the workpiece 1 has a surface roughness of 0.1 μmRa to a surface roughness of 1 angstrom Ra, and a surface accuracy of 0.3 μmP-V. The roughness can be improved to 0.06 μm PV.

【0013】なお、上記実施例においては、被加工物1
を下に、かつ、ポリシャ3を上に配設したが、被加工物
1を上に、ポリシャ3を下に配設してもよい。この場
合、ポリシャ3は回転駆動するだけで、被加工物1側を
回転駆動とともに揺動駆動させるようにする。要する
に、揺動駆動は相対的なものであればよい。また、この
場合、等速玉継手22は、被加工物1側の回転軸あるい
はポリシャ3側の回転軸のいずれに設けてもよいし、被
加工物1の被加工面が平面である場合は、この等速玉継
手22を省略してもよい。さらに、ポリシャ加圧部3a
の弾性的付勢源として、ばね49を用いているが、磁石
を採用してもよい。
In the above embodiment, the workpiece 1
Although the lower part and the polisher 3 are arranged above, the workpiece 1 may be arranged above and the polisher 3 may be arranged below. In this case, the polisher 3 is driven to rotate, and the workpiece 1 side is driven to rotate and swing. In short, the swing drive may be relative. Further, in this case, the constant velocity ball joint 22 may be provided on either the rotating shaft on the side of the workpiece 1 or the rotating shaft on the side of the polisher 3, and when the surface to be processed of the workpiece 1 is a flat surface, The constant velocity ball joint 22 may be omitted. Further, the polisher pressurizing unit 3a
Although the spring 49 is used as the elastic biasing source of the above, a magnet may be adopted.

【0014】[0014]

【発明の効果】本発明は、ポリシャ及び被加工物を加工
液中に完全に浸漬させ、かつ、加工液をポリシャの研磨
作用面に設けられた開口を介してポリシャと被加工物と
の間隙に直接噴射するようにしたことにより、ポリシャ
及び被加工物の加工中の熱変形を抑制することができる
とともに、ポリシャと被加工物との間隙に均一な加工液
膜を安定して介在させることができるようになる。さら
にまたポリシャを加圧部により被加工物に対し相対的に
押付けた状態で、ポリシャと被加工物を回転駆動すると
ともに、ポリシャを被加工物に対し相対的に揺動駆動さ
せるようにしているので、ポリシャを、被加工物に忠実
に倣って且つ安定して移動させることができるようにな
り、前記の諸効果と相俟って、被加工物の表面粗さ及び
形状精度を飛躍的に向上させることができる。
According to the present invention, the polisher and the work piece are completely immersed in the working fluid, and the working fluid is allowed to leave a gap between the polisher and the work piece through an opening provided on the polishing surface of the polisher. By directly injecting into the nozzle, thermal deformation during machining of the polisher and the workpiece can be suppressed, and a uniform machining liquid film can be stably interposed in the gap between the polisher and the workpiece. Will be able to. Furthermore, while the polisher is pressed against the work piece by the pressing portion, the polisher and the work piece are rotationally driven, and the polisher is rockably driven relative to the work piece. Therefore, it becomes possible to move the polisher in a manner that faithfully follows the work piece and stably, and in combination with the above-mentioned effects, the surface roughness and shape accuracy of the work piece are dramatically improved. Can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の研磨装置の全体構成図であ
る。
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例の研磨装置のポリシャの断面
図である。
FIG. 2 is a sectional view of a polisher of a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例の研磨装置のポリシャの要部
下面図である。
FIG. 3 is a bottom view of the essential parts of the polisher of the polishing apparatus according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例の研磨装置の要部拡大構成図
である。
FIG. 4 is an enlarged configuration diagram of a main part of a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施例の研磨装置の等速玉継手の断
面図である。
FIG. 5 is a sectional view of a constant velocity ball joint of a polishing device according to an embodiment of the present invention.

【図6】従来技術の説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:被加工物,2:被加工物保持部,3:ポリシャ,3
a:ポリシャ加圧部,4:ポリシャ保持部,5:加工
液,6:加工液供給部,7:加工槽,13:揺動駆動
部,16:開口,18:加工液案内孔。
1: Workpiece, 2: Workpiece holding part, 3: Polisher, 3
a: polisher pressurizing part, 4: polisher holding part, 5: working liquid, 6: working liquid supply part, 7: working tank, 13: swing drive part, 16: opening, 18: working liquid guide hole.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】被加工物とポリシャとの間に加工液を介挿
させ、かつ、上記被加工物と上記ポリシャを相対的に移
動させることにより上記被加工物を上記ポリシャにより
非接触で研磨する研磨方法において、上記加工液中に上
記被加工物と上記ポリシャを完全に浸漬させる工程と、
上記ポリシャ内部を通過した加工液を上記被加工物に対
する上記ポリシャの対向面側から上記被加工物に供給す
る工程とを具備することを特徴とする研磨方法。
1. A polishing liquid is inserted between a work piece and a polisher, and the work piece and the polisher are relatively moved to polish the work piece with the polisher in a non-contact manner. In the polishing method, the step of completely immersing the workpiece and the polisher in the working liquid,
And a step of supplying the working liquid, which has passed through the inside of the polisher, to the workpiece from the side of the facing surface of the polisher with respect to the workpiece.
【請求項2】下記構成を具備することを特徴とする研磨
装置。 (イ)被加工物を保持して回転駆動する第1の回転駆動
手段。 (ロ)上記被加工物に研磨液を介して当接するポリシ
ャ。 (ハ)上記ポリシャを保持して回転駆動する第2の回転
駆動手段。 (ニ)上記第2の回転駆動手段に保持されているポリシ
ャをこのポリシャが当接している被加工物に対して相対
的に揺動させる揺動駆動手段。 (ホ)上記被加工物に対して上記ポリシャを弾性的に押
圧する加圧手段。 (ヘ)上記加工液を収納し、この収納した加工液中に上
記被加工物と上記ポリシャを浸漬させる加工液保持手
段。 (ト)上記加工液を上記ポリシャ内部を通過させ上記被
加工物に対する上記ポリシャの対向面側から上記被加工
物に供給する加工液供給手段。
2. A polishing apparatus having the following structure. (A) First rotation driving means for holding and rotating the workpiece. (B) A polisher that comes into contact with the workpiece through a polishing liquid. (C) Second rotation driving means for holding and rotating the polisher. (D) Swing drive means for swinging the polisher held by the second rotation drive means relative to the workpiece with which the polisher is in contact. (E) A pressing means for elastically pressing the polisher against the work piece. (F) A machining fluid holding means for accommodating the machining fluid and immersing the workpiece and the polisher in the stored machining fluid. (G) Machining liquid supply means for passing the machining liquid through the inside of the polisher and supplying the machining liquid to the workpiece from the surface of the polisher facing the workpiece.
【請求項3】加工液を一定温度に制御する加工液温度制
御手段を有することを特徴とする請求項2記載の研磨装
置。
3. The polishing apparatus according to claim 2, further comprising a working liquid temperature control means for controlling the working liquid at a constant temperature.
【請求項4】加工液保持手段に収納されている加工液を
攪拌する加工液攪拌手段を有することを特徴とする請求
項2記載の研磨装置。
4. The polishing apparatus according to claim 2, further comprising a working fluid stirring means for stirring the working fluid contained in the working fluid holding means.
【請求項5】ポリシャには、上記ポリシャの被加工物に
対する対向面の複数箇所にて開口し上記ポリシャの内部
を貫通する加工液案内孔が穿設され、この加工液案内孔
を経由して加工液供給手段による加工液が供給されるこ
とを特徴とする請求項2記載の研磨装置。
5. A polishing liquid guide hole is formed in the polisher at a plurality of positions on the surface facing the workpiece, and penetrates through the inside of the polisher. The polishing apparatus according to claim 2, wherein the processing liquid is supplied by the processing liquid supply means.
【請求項6】第1の回転駆動手段または第2の回転駆動
手段の回転軸には、等速玉継手が介設されていることを
特徴とする請求項2記載の研磨装置。
6. The polishing apparatus according to claim 2, wherein a constant velocity ball joint is provided on the rotary shaft of the first rotary drive means or the second rotary drive means.
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