JPH05175650A - Manufacture of circuit board - Google Patents
Manufacture of circuit boardInfo
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- JPH05175650A JPH05175650A JP34358991A JP34358991A JPH05175650A JP H05175650 A JPH05175650 A JP H05175650A JP 34358991 A JP34358991 A JP 34358991A JP 34358991 A JP34358991 A JP 34358991A JP H05175650 A JPH05175650 A JP H05175650A
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- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、回路基板の新規な製造
方法に関する。詳しくは、気泡を含有することにより低
誘電率化された絶縁基板に、該気泡による低誘電率化効
果を低減させることなく、スルーホールを形成して回路
基板を製造する方法である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel method for manufacturing a circuit board. Specifically, it is a method of manufacturing a circuit board by forming through holes in an insulating substrate having a low dielectric constant by containing bubbles without reducing the effect of reducing the dielectric constant by the bubbles.
【0002】[0002]
【従来技術】高度情報化社会の進展に伴う通信機器の高
度化より、高周波用回路基板に対する需要が増加しつつ
ある。特に、今後の発展が期待される衛星放送、衛星通
信、移動無線等の通信機器は、ギガヘルツ帯の高周波が
使用されるため、これらの通信機器に使用される回路基
板用材料は、ギガヘルツ帯で優れた高周波伝送特性を有
する低誘電率材料であることが要求される。また、コン
ピュター、磁気装置を始めとする情報処理装置の一層の
高度化、大容量化が求められている中で、特に信号伝送
速度については、多層回路基板の低誘電率化によって機
器としての高速演算性を向上させるアプローチが行われ
ている。2. Description of the Related Art The demand for high-frequency circuit boards is increasing due to the sophistication of communication equipment accompanying the development of an advanced information society. In particular, communication equipment such as satellite broadcasting, satellite communication, mobile radio, etc., which are expected to develop in the future, use high frequencies in the gigahertz band. Therefore, materials for circuit boards used in these communication equipment are in the gigahertz band. It is required to be a low dielectric constant material having excellent high frequency transmission characteristics. In addition, as information processing devices such as computers and magnetic devices are required to have higher sophistication and larger capacities, especially in terms of signal transmission speed, due to the low dielectric constant of the multilayer circuit board, high speed as a device is achieved. An approach is taken to improve the operability.
【0003】従来、低誘電率を目的とした絶縁基板をそ
の材料からみると、母体樹脂として、エポキシ樹脂、フ
ェノール樹脂、ポリイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂などの熱硬化性樹脂および補強材としてガラスクロ
ス、ガラスマット、紙などが主として用いられている。
また、極めて優れた低誘電率を示す高分子材料としては
ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)があり、誘電
率(以下、εと記す)は2.1で誘電正接(以下、ta
nδと記す)は0.0002である。Conventionally, when viewed from the material of an insulating substrate intended for a low dielectric constant, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a phenol resin, a polyimide resin or an unsaturated polyester resin as a base resin and a glass cloth as a reinforcing material. , Glass mats and paper are mainly used.
Further, there is polytetrafluoroethylene (PTFE) as a polymer material showing an extremely low dielectric constant, and the dielectric constant (hereinafter referred to as ε) is 2.1 and the dielectric loss tangent (hereinafter referred to as ta).
n 0) is 0.0002.
【0004】また、最近では、さらに低誘電率化を進め
る開発が顕著で、絶縁基板の内部に気泡を存在させるこ
とにより、絶縁基板の誘電率をさらに低下する試みがな
されている。例えば、ガラスや樹脂等の中空体をブレン
ドした基板(特開昭64ー60648)、また発泡させ
た基板(特開昭62ー69580)や1969年米国の
W.L.GORE&ASSOCIATES社によって開
発された延伸多孔質PTFEを用いた基板(電子材料、
1991年10月号、61頁、商品名「ゴアテック
ス」)などが提案されている。そのうち、特に、樹脂に
高い割合で気泡(ε=1)を含ませた絶縁基板は極めて
低いεとtanδを示す。例えば、「ゴアテックス」の
場合、空孔率80%の連続孔を有し、ε=1.16、t
anδ=0.00003を達成している。Further, recently, the development of further lowering the dielectric constant has been remarkable, and attempts have been made to further lower the dielectric constant of the insulating substrate by allowing bubbles to exist inside the insulating substrate. For example, a substrate in which a hollow body such as glass or resin is blended (JP-A-64-60648) or a foamed substrate (JP-A-62-69580) or 1969 U.S.A. L. Substrates (electronic materials, using expanded porous PTFE developed by GORE & ASSOCIATES)
The October 1991 issue, page 61, trade name "GORE-TEX") and the like have been proposed. Among them, the insulating substrate in which the resin contains a high proportion of bubbles (ε = 1) exhibits extremely low ε and tan δ. For example, in the case of “GORE-TEX”, it has continuous pores with a porosity of 80%, and ε = 1.16, t
An δ = 0.00003 is achieved.
【0005】一方、上記絶縁基板を使用して、両面回路
基板を製造するためには、スルーホールの形成工程が必
要である。スルーホールの形成方法としては、一般に、
絶縁基板に貫通孔を設け、該貫通孔への化学メッキや電
気メッキ、または、導電性ペーストの充填する方法が知
られている。On the other hand, in order to manufacture a double-sided circuit board using the above insulating substrate, a through hole forming step is required. As a method of forming a through hole, generally,
There is known a method in which a through hole is provided in an insulating substrate and the through hole is subjected to chemical plating, electroplating, or filling with a conductive paste.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、化学メ
ッキや電気メッキにより絶縁基板の貫通孔に導体層を形
成する方法では、該貫通孔の壁面に存在する単独または
連続孔に気泡がトラップされたり、貫通孔の壁面にメッ
キ液が浸透したりして均一なメッキ層が形成できないば
かりでなく、メッキ液が浸透した貫通孔周辺の誘電率が
上昇するという問題を有する。また、導電性ペーストを
充填する方法では、溶剤や有機成分が貫通孔壁面に浸透
し基板の膨れや、誘電率の上昇、場合によっては、貫通
孔同士の短絡を招くといった問題を生じ、信頼性のある
回路基板を得ることが困難であった。However, in the method of forming a conductor layer in a through hole of an insulating substrate by chemical plating or electroplating, air bubbles are trapped in a single hole or a continuous hole existing on the wall surface of the through hole, There is a problem that the plating solution permeates the wall surface of the through hole and a uniform plating layer cannot be formed, and the dielectric constant around the through hole where the plating solution permeates increases. In addition, in the method of filling the conductive paste, a solvent or an organic component permeates the wall surface of the through hole to swell the substrate, raises the dielectric constant, and in some cases causes a short circuit between the through holes. It was difficult to obtain a circuit board with
【0007】上記現象は、空孔率が上昇するほど、また
連続気泡の存在率が上昇するほど顕著に現れる。The above phenomenon becomes more prominent as the porosity increases and as the existence ratio of open cells increases.
【0008】[0008]
【問題点を解決するための手段】本発明者らは、気泡を
含有する絶縁基板を使用した回路基板の製造でのスルー
ホールの形成における上記問題点を解決すべく、研究を
重ねた結果、絶縁基板に設けるスルーホール用貫通孔の
内壁を特定の粘度を有するペーストにより被覆すること
により、該貫通孔内壁へのメッキ液、または硬化性導電
ペーストの浸透を確実に防止することができ、該貫通孔
に、誘電率の上昇を伴うことなく、通常のメッキ処理或
は、導電ペーストの充填を行って、信頼性の高いスルー
ホールを有する回路基板を、確実に製造し得ることを見
い出し、本発明を提供するに至った。[Means for Solving the Problems] The inventors of the present invention have conducted research to solve the above problems in forming through holes in the production of a circuit board using an insulating substrate containing bubbles. By coating the inner wall of the through-hole for the through-hole provided in the insulating substrate with a paste having a specific viscosity, it is possible to reliably prevent the plating solution or the curable conductive paste from penetrating into the inner wall of the through-hole. It has been found that a circuit board having a highly reliable through hole can be reliably manufactured by performing normal plating or filling with a conductive paste in the through hole without increasing the dielectric constant. The invention has been provided.
【0009】即ち、本発明は、気泡を含有する絶縁体よ
りなる基板(以下、単に絶縁基板ともいう)にスルホー
ル用貫通孔を設け、該貫通孔の内壁を粘度1000ポイ
ズ以上のペースト(以下、高粘度ペーストともいう)に
より被覆した後、メッキ処理、または粘度1000ポイ
ズ未満の硬化性導電ペースト(以下、低粘度硬化性導電
ペーストともいう)を充填、硬化してスルホールを形成
することを特徴とする回路基板の製造方法である。That is, according to the present invention, a through hole for a through hole is provided in a substrate made of an insulator containing bubbles (hereinafter also simply referred to as an insulating substrate), and an inner wall of the through hole has a viscosity of 1000 poise or more (hereinafter, referred to as a paste). After coating with a high-viscosity paste), a plating treatment or a curable conductive paste having a viscosity of less than 1000 poise (hereinafter, also referred to as a low-viscosity curable conductive paste) is filled and cured to form a through hole. And a method for manufacturing a circuit board.
【0010】本発明において、気泡を含有する絶縁基板
は、誘電率の低減効果を発揮する程度に気泡を含有する
ものであれば特に限定されず、公知の材料、構造を有す
るものが制限なく使用できる。代表的な材質を例示すれ
ば、ポリ4フッ化エチレン(PTFE)などのフッ素樹
脂、ポリスチレン、ABS、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリアセタール、アクリル樹脂、ナイロン、セル
ロース系樹脂、ポリカーボネート、フェノキシ樹脂、ポ
リエステル樹脂、ポリウレタン、などに代表される熱可
塑性樹脂、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、尿素樹
脂、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂、エポキシ樹脂、
フラン樹脂、キシレン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、
シルコーン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、などに代表
される熱硬化性樹脂、天然ゴム、クロロスルホン化ポリ
エチレン、塩素化ポリエチレンなどに代表されるエラス
トマー、アルミナ、窒化アルミニウム、シリカ、コージ
ェライト、窒化ケイ素、炭化ケイ素、などに代表される
セラミックスなどが挙げられる。また、本発明の効果が
顕著に現れるのは、空孔率で70%以上の割合で気泡を
含有するものであり、特に連続気泡を有する絶縁基板で
ある。In the present invention, the insulating substrate containing bubbles is not particularly limited as long as it contains bubbles to the extent that the effect of reducing the dielectric constant is exhibited, and known materials and structures can be used without limitation. it can. Examples of typical materials include polytetrafluoroethylene (PTFE) and other fluororesins, polystyrene, ABS, polyethylene, polypropylene, polyacetal, acrylic resin, nylon, cellulosic resin, polycarbonate, phenoxy resin, polyester resin, polyurethane. , Thermoplastic resin such as, phenol / formaldehyde resin, urea resin, melamine / formaldehyde resin, epoxy resin,
Furan resin, xylene resin, unsaturated polyester resin,
Thermosetting resins typified by sillcone resin and diallyl phthalate resin, natural rubber, elastomers typified by chlorosulfonated polyethylene, chlorinated polyethylene, alumina, aluminum nitride, silica, cordierite, silicon nitride, silicon carbide Ceramics represented by, and the like are included. Further, the effect of the present invention is remarkably exhibited when the insulating substrate contains bubbles at a porosity of 70% or more, and in particular, an insulating substrate having open cells.
【0011】本発明において、上記の絶縁基板には、ス
ルーホール用貫通孔の形成に先立って、両面に導電層を
形成するのが一般的である。この導電層の材質、及びそ
の形成方法は特に制限されない。代表的な材質を例示す
れば、銅、アルミ、鉄、ニッケルなどが挙げられる。ま
た、形成方法は、銅箔を積層する方法、無電解メッキに
より、または、無電解メッキと電解メッキとを組み合わ
せる方法等が一般的である。更に、上記の導電層の厚み
についても特に制限されないが、一般には、5〜100
ミクロンが適当である。In the present invention, it is common to form conductive layers on both surfaces of the above insulating substrate prior to forming the through holes for through holes. The material of the conductive layer and the method of forming the conductive layer are not particularly limited. Examples of typical materials include copper, aluminum, iron and nickel. The forming method is generally a method of laminating copper foil, a method of electroless plating, or a method of combining electroless plating and electrolytic plating. Further, the thickness of the conductive layer is not particularly limited, but generally 5 to 100.
Micron is suitable.
【0012】勿論、必要に応じて、スルーホール用貫通
孔を形成し、本発明の方法によりスルーホールを形成し
た後、該導電層を形成することも可能である。この場
合、導電層の形成は、無電解メッキ等の公知の方法が特
に制限なく採用される。Of course, if necessary, it is also possible to form through holes for through holes, form the through holes by the method of the present invention, and then form the conductive layer. In this case, a known method such as electroless plating may be used for forming the conductive layer without particular limitation.
【0013】本発明において、上記の絶縁基板には、ス
ルホール用貫通孔が設けられる。上記貫通孔の径は、高
粘度ペーストによる被覆及び低粘度硬化性導電ペースト
の充填が可能な径であれば、特に制限されない。一般に
は、0.3mm以上、好ましくは0.3〜1.0mmよ
り選択することが好ましい。In the present invention, the above-mentioned insulating substrate is provided with through holes for through holes. The diameter of the through hole is not particularly limited as long as it can be covered with the high-viscosity paste and filled with the low-viscosity curable conductive paste. Generally, it is preferable to select 0.3 mm or more, preferably 0.3 to 1.0 mm.
【0014】上記スルホール用貫通孔の形成方法は、ド
リリング加工、パンチング加工、レーザー加工等の公知
の手段が特に限定されずに用いられる。As the method for forming the through hole for through hole, known means such as drilling, punching, and laser processing are used without particular limitation.
【0015】本発明において、スルホール形成用貫通孔
に低粘度硬化性導電ペーストを充填或は、メッキ処理を
施す前に、その内壁を、粘度が1000ポイズ以上、好
ましくは、2000〜5000ポイズの高粘度ペースト
により被覆することが重要である。即ち、上記高粘度ペ
ーストの粘度が、1000ポイズより小さい場合、高粘
度ペーストが貫通孔の内壁に浸透し易くなり、該ペース
トの浸透により絶縁基板内の気泡を潰し、誘電率を上昇
させるため、本発明の目的を達成することができない。
また、該粘度があまり大きい場合は、スルーホール貫通
孔の内壁への確実な被覆が困難となるので、5000ポ
イズ程度に止めることが好ましい。In the present invention, before filling the through holes for forming the through holes with the low-viscosity curable conductive paste or performing the plating treatment, the inner wall of the through holes has a viscosity of 1000 poise or more, preferably 2000 to 5000 poise. It is important to coat with a viscous paste. That is, when the viscosity of the high-viscosity paste is less than 1000 poise, the high-viscosity paste easily permeates the inner wall of the through hole, and the permeation of the paste crushes the bubbles in the insulating substrate to increase the dielectric constant. The object of the present invention cannot be achieved.
Further, if the viscosity is too large, it becomes difficult to reliably coat the inner wall of the through-hole through hole, so it is preferable to set the viscosity to about 5000 poise.
【0016】また、高粘度ペーストとして、後記するよ
うに導電性を有するものを使用し、該ペーストによって
スルーホール用貫通孔を目詰してスルーホールを形成す
ることも考えられる。しかしながら、上記方法は、目詰
めが完全に行われた場合には、十分な効果を発揮するこ
とができるが、一般には、ペーストが高粘度であるた
め、該スルーホール貫通孔を信頼性良く形成することが
困難である。本発明にあっては、高粘度ペーストによ
り、内壁のみを被覆し、その後、信頼性の高いメッキ処
理、または低粘度硬化性導電ペーストの充填を行うこと
により、上記処理におけるメッキ液、低粘度硬化性導電
ペーストがスルーホール用貫通孔の内壁に浸透すること
を防止しながら、しかも、確実にスルーホールを形成す
ることが可能である。It is also conceivable to use a highly viscous paste having conductivity as will be described later, and plug the through holes for through holes with the paste to form through holes. However, the above method can exhibit a sufficient effect when the filling is completely performed, but since the paste generally has a high viscosity, the through-hole through-hole can be formed with high reliability. Difficult to do. In the present invention, by coating only the inner wall with a high-viscosity paste, and then performing a highly reliable plating treatment or filling with a low-viscosity curable conductive paste, the plating solution in the above treatment, a low-viscosity cure It is possible to prevent the conductive conductive paste from penetrating into the inner wall of the through-hole for through-holes, and to form the through-holes reliably.
【0017】本発明において、高粘度ペーストは、前記
粘度を有するものであれば、絶縁性であっても導電性で
あってもよい。例えば、絶縁性の高粘度ペーストとして
は、絶縁樹脂に必要に応じて溶剤を配合し、前記粘度範
囲に調節されたペーストの組成のものが特に制限なく使
用される。また、上記絶縁樹脂としては、エポキシ樹
脂、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、不飽和ポリエ
ステル樹脂、2重結合を分子中に1つ以上含む不飽和化
合物、尿素樹脂、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂、フ
ラン樹脂、キシレン樹脂、シリコーン樹脂、ジアリルフ
タレート樹脂、アミド樹脂、イミド樹脂、等の硬化性樹
脂が一般に使用される。これらの樹脂は、単独または2
種以上を組み合わせて使用することができる。In the present invention, the high viscosity paste may be insulative or conductive as long as it has the above viscosity. For example, as the insulating high-viscosity paste, a paste composition in which a solvent is blended with the insulating resin as necessary and the viscosity range is adjusted is used without particular limitation. Examples of the insulating resin include epoxy resin, phenol / formaldehyde resin, unsaturated polyester resin, unsaturated compound containing at least one double bond in the molecule, urea resin, melamine / formaldehyde resin, furan resin, xylene resin, Curable resins such as silicone resins, diallyl phthalate resins, amide resins, imide resins and the like are commonly used. These resins can be used alone or
A combination of two or more species can be used.
【0018】また、導電性の高粘度ペーストとしては、
上記絶縁性の高粘度ペーストに導電性フィラーを配合し
て硬化後における導電性を付与したものが特に制限なく
使用される。上記導電性フィラーとしては、金、銀、
銅、ニッケル、鉛、半田、カーボンなどの導電性物質が
一般に使用される。上記絶縁性樹脂に対する導電性フィ
ラーの配合量は、特に制限されないが、一般に、絶縁性
樹脂100容量部に対して、導電性フィラー100〜2
000容量部の範囲内となるように配合することが好ま
しい。尚、上記導電性フィラーの容量部は、JIS K
2504に基づいて測定された見掛け密度の値を基準
にして算出したものである。As the conductive high viscosity paste,
The insulating high-viscosity paste with a conductive filler added thereto to give conductivity after curing is used without particular limitation. As the conductive filler, gold, silver,
Conductive materials such as copper, nickel, lead, solder, carbon are commonly used. The compounding amount of the conductive filler with respect to the insulating resin is not particularly limited, but generally 100 to 2 parts of the conductive filler are added to 100 parts by volume of the insulating resin.
It is preferable that the compounding amount be within the range of 000 parts by volume. The capacity part of the conductive filler is JIS K
It is calculated based on the value of the apparent density measured based on 2504.
【0019】本発明において、高粘度ペーストのスルー
ホール貫通孔の内壁への被覆方法は、特に制限されな
い。代表的な被覆方法を例示すれば、印刷法によってペ
ーストを目詰めした後、片面より減圧または加圧空気に
より余分なペーストを吹き飛ばす方法や、高粘度ペース
トを付着したピンをスルーホール用貫通孔に通しその内
壁に被覆する方法などがある。In the present invention, the method of coating the inner wall of the through hole through hole with the high viscosity paste is not particularly limited. As a typical coating method, after filling the paste by the printing method, the excess paste is blown off from one side by decompressing or pressurizing air from one side, or the pin with the high-viscosity paste attached to the through hole for the through hole. There is a method of coating the inner wall thereof.
【0020】本発明において、高粘度ペーストは、被覆
後、直ちに硬化することが好ましいが、次工程におい
て、低粘度硬化性導電ペーストを充填する場合は、未硬
化のまま低粘度硬化性導電ペーストの充填を行い、該低
粘度硬化性導電ペーストと同時に硬化を行ってもよい。In the present invention, it is preferable that the high-viscosity paste is hardened immediately after coating. However, when the low-viscosity curable conductive paste is filled in the next step, the low-viscosity curable conductive paste is left unhardened. Filling may be performed and curing may be performed simultaneously with the low-viscosity curable conductive paste.
【0021】本発明において、スルーホール用貫通孔を
高粘度ペーストにより被覆した後、メッキ処理または、
粘度1000ポイズ未満の低粘度硬化性導電ペーストを
充填、硬化してスルーホールが形成される。In the present invention, the through holes for through holes are coated with a high-viscosity paste and then plated or
A low-viscosity curable conductive paste having a viscosity of less than 1000 poise is filled and cured to form a through hole.
【0022】上記メッキ処理は、公知の方法が特に制限
なく実施される。例えば、無電解メッキを施した後、必
要に応じて電気メッキを行う方法が推奨される。上記無
電解メッキは、絶縁基板の両面に形成される導電層と同
材質のメッキ層を形成するものが一般的である。また、
必要に応じて、絶縁基板の両面に導電層を形成すること
なくスルーホール用貫通孔の高粘度ペーストによる被覆
を行い、上記メッキ処理を実施することにより、導電層
の形成とスルーホールの形成を同時に行うことも可能で
ある。A known method can be used for the plating treatment without any particular limitation. For example, a method of performing electroless plating after performing electroless plating is recommended. The electroless plating generally forms a plating layer of the same material as the conductive layers formed on both surfaces of the insulating substrate. Also,
If necessary, the through-hole through-holes may be coated with a high-viscosity paste without forming conductive layers on both sides of the insulating substrate, and the above plating treatment may be performed to form conductive layers and through-holes. It is also possible to do it at the same time.
【0023】また、低粘度硬化性導電ペーストを充填す
る場合、該低粘度硬化性導電ペーストとしては、前記導
電性の高粘度ペーストの粘度を、配合する溶剤量等を増
加させて1000ポイズ未満、好ましくは、200〜5
00ポイズの粘度に調節したものを使用することができ
る。この場合、低粘度硬化性導電ペーストは、良好なス
ルホール抵抗を得るために、硬化後の電気抵抗が1×1
0-2Ω・cm以下となるように、導電材料の選択および
使用量を調節することが好ましい。When the low-viscosity curable conductive paste is filled, the viscosity of the low-viscosity curable conductive paste is less than 1000 poise by increasing the viscosity of the conductive high-viscosity paste by increasing the amount of solvent to be blended. Preferably 200-5
Those having a viscosity adjusted to 00 poise can be used. In this case, the low-viscosity curable conductive paste has an electrical resistance of 1 × 1 after curing in order to obtain good through-hole resistance.
It is preferable to select the conductive material and adjust the amount to be used so that it becomes 0 −2 Ω · cm or less.
【0024】上記低粘度硬化性導電ペーストのスルーホ
ール用貫通孔への充填方法は、公知の方法が特に制限な
く採用される。例えば、印刷法により1回或は複数回の
塗布により行う方法、基板片面よりペーストを圧入する
方法、ディスペンサーにより1孔毎、自動的に目詰めす
る方法などがある。また、スルーホール用貫通孔に充填
された低粘度硬化性導電ペーストの硬化は、熱風炉、赤
外線炉、遠赤外線炉、紫外線硬化炉、電子線硬化設備な
どの公知の硬化法により、低粘度硬化性導電ペーストの
硬化に適するものを適宜選んで硬化させればよい。ま
た、低粘度硬化性導電ペーストを硬化後、続いて実施す
る、エッチングレジストの積層、エッチング等による配
線パターンの形成を容易にするため、低粘度硬化性導電
ペーストの硬化体と導電層とによって構成される面を平
滑に研削することが好ましい。As a method for filling the low-viscosity curable conductive paste into the through-hole through hole, a known method can be adopted without any particular limitation. For example, there are a method of applying once or a plurality of times by a printing method, a method of press-fitting the paste from one side of the substrate, a method of automatically filling each hole by a dispenser, and the like. Further, the low-viscosity curable conductive paste filled in the through-holes for through-holes can be cured with a known low-viscosity curing method such as a hot-air oven, an infrared oven, a far-infrared oven, an ultraviolet curing oven, or an electron beam curing facility. A material suitable for curing the conductive conductive paste may be appropriately selected and cured. Further, after the low-viscosity curable conductive paste is cured, it is constituted by a cured body of the low-viscosity curable conductive paste and a conductive layer in order to facilitate the formation of a wiring pattern by laminating etching resist, etching, etc., which is subsequently performed. It is preferable to grind the surface to be smoothed.
【0025】本発明において、メッキ処理、或いは、低
粘度硬化性導電ペーストの硬化後、該スルーホールを含
む導電層に配線パターンが形成される。該配線パターン
の形成方法は、レジストによりエッチングパターンを形
成し、エッチングを行う方法が一般的である。ここで用
いられるレジストは、ドライフィルム、液状レジスト、
インク、感光性電着レジストなどが挙げられ、パターン
のファイン度によって適宜選択して使用すればよい。ま
た、感光性レジスト層はその用途に応じて、ポジ型また
はネガ型を適宜使い分ければよい。本発明においては、
スルホール用貫通孔に低粘度硬化性導電ペーストを充
填、硬化した場合、必要に応じて、該硬化物の表面を液
状レジスト等により保護することが好ましい。In the present invention, after the plating treatment or the curing of the low-viscosity curable conductive paste, a wiring pattern is formed on the conductive layer including the through holes. As a method of forming the wiring pattern, a method of forming an etching pattern with a resist and performing etching is generally used. The resist used here is a dry film, a liquid resist,
Examples thereof include ink and photosensitive electrodeposition resist, which may be appropriately selected and used depending on the fineness of the pattern. Further, the photosensitive resist layer may be properly used as a positive type or a negative type depending on its use. In the present invention,
When the through holes for through holes are filled with a low-viscosity curable conductive paste and cured, it is preferable to protect the surface of the cured product with a liquid resist or the like, if necessary.
【0026】レジスト層を形成後、導電層は塩化第二
鉄、塩化第二銅、過硫酸塩類、過酸化水素・硫酸、アル
カリエッチャントなどのエッチング液によりエッチング
され、配線パターンが形成される。その後、レジスト層
は、アルカリ水溶液、アルコール類、塩素系有機溶剤な
ど適当な処理液を用いて、剥離される。しかし、レジス
ト層が保護または絶縁を目的とした永久マスクである場
合には剥離の必要はない。After forming the resist layer, the conductive layer is etched with an etching solution such as ferric chloride, cupric chloride, persulfates, hydrogen peroxide / sulfuric acid, and alkali etchant to form a wiring pattern. After that, the resist layer is stripped using an appropriate treatment liquid such as an alkaline aqueous solution, alcohols, and a chlorine-based organic solvent. However, when the resist layer is a permanent mask for the purpose of protection or insulation, peeling is not necessary.
【0027】以上の方法は、主として、配線パターンを
形成前に、スルーホールを形成する方法について説明し
たが、本発明は、配線パターンの形成後においても同様
にしてスルーホールを形成することも可能である。この
場合、スルーホール形成時に配線パターンを保護するた
め、メッキ処理の場合は、メッキレジストにより配線パ
ターンを被覆してメッキを施すことが好ましい。In the above method, the method of forming the through hole before the formation of the wiring pattern was mainly described, but the present invention can also form the through hole in the same manner after the formation of the wiring pattern. Is. In this case, in order to protect the wiring pattern when forming the through holes, it is preferable to cover the wiring pattern with a plating resist and perform plating in the case of plating.
【0028】[0028]
【効果】本発明によれば、気泡を含有することにより低
誘電率化された絶縁基板に、該気泡による低誘電率化効
果を低減させることなく、スルーホールを形成して回路
基板を製造することが可能である。従って、本発明によ
って得られた基板は、かかる絶縁基板の特性を利用した
両面回路基板や多層回路基板等の用途に好適に使用する
ことができる。According to the present invention, a circuit board is manufactured by forming through holes in an insulating substrate having a low dielectric constant by containing bubbles without reducing the effect of reducing the dielectric constant by the bubbles. It is possible. Therefore, the substrate obtained by the present invention can be suitably used for applications such as a double-sided circuit substrate and a multilayer circuit substrate that utilize the characteristics of such an insulating substrate.
【0029】[0029]
【実施例】以下、本発明を具体的に説明するために実施
例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。EXAMPLES Examples will be shown below for specifically explaining the present invention, but the present invention is not limited to these examples.
【0030】実施例1 図1に示した方法によって回路基板を製造した。先ず、
両面に導電層2を有する絶縁基板1として、延伸多孔質
ポリテトラフルオロエチレン(商品名「ゴアテックス銅
張積層板 GTL−1000」ジャパンゴアテックス社
製)を用いた。 (a)厚さ1.0mmで直径0.4mmのスルーホール
用貫通孔3をドリル加工により直列に100穴作成し
た。スルーホール用貫通孔3の内壁間隙は3.0mmで
あった。(b)次いで、連続孔の露出したスルーホール
貫通孔3の内壁にスクリーン印刷法で高粘度ペースト
(Sartomer3000(エポキシジアクリレー
ト、粘度10000ポイズ(25℃での測定値)とO.
5重量%(wt%)ベンゾイルパーオキサイドの混合
物、SARTOMER社製)を目詰めした後、片面を減
圧にして貫通孔3内の余分な高粘度ペーストを除去し
て、スルーホール用貫通孔の内壁に高粘度ペーストの被
覆層4を形成した。その後、80℃、2時間、窒素中で
加熱し、高粘度ペーストを硬化した。(c)次に、下記
に示す方法によって得られた低粘度硬化性導電ペースト
をスクリーン印刷法でスルーホール用貫通孔3に目詰め
し、180℃、10分、遠赤外線炉で加熱硬化して硬化
体5を得た。(d)このようにして作製した目詰め基板
の両面に、配線パターンに対応したレジスト層6(タム
ラ製作所製、熱硬化型エッチングレジストER−402
C−7)をスクリーン印刷後、125℃×4分の条件で
硬化することにより形成した。(e)そして、塩化第二
鉄のエッチング浴で露出している銅箔(導電層2)をエ
ッチングし、(f)40℃の2%NaOH水溶液でレジ
スト層6を剥離して回路基板を製造した。Example 1 A circuit board was manufactured by the method shown in FIG. First,
As the insulating substrate 1 having the conductive layers 2 on both sides, a stretched porous polytetrafluoroethylene (trade name “GORE-TEX Copper Clad Laminate GTL-1000” manufactured by Japan GORE-TEX Co., Ltd.) was used. (A) Through-holes 3 having a thickness of 1.0 mm and a diameter of 0.4 mm were formed in series by drilling. The inner wall gap of the through hole 3 for through hole was 3.0 mm. (B) Next, a high-viscosity paste (Sartomer 3000 (epoxy diacrylate, viscosity 10000 poise (measured value at 25 ° C.)) and O.
After filling a mixture of 5 wt% (wt%) benzoyl peroxide, manufactured by SARTOMER, one side is depressurized to remove the excess high-viscosity paste in the through holes 3 to form the inner wall of the through holes. A coating layer 4 of high-viscosity paste was formed on. Then, it heated in nitrogen at 80 degreeC for 2 hours, and hardened the high viscosity paste. (C) Next, the low-viscosity curable conductive paste obtained by the method shown below is screen-filled into the through-holes 3 for through holes and heat-cured at 180 ° C. for 10 minutes in a far-infrared furnace. A cured product 5 was obtained. (D) A resist layer 6 corresponding to the wiring pattern (a thermosetting etching resist ER-402 manufactured by Tamura Manufacturing Co., Ltd.) is formed on both surfaces of the thus-prepared substrate.
C-7) was screen-printed and then cured by curing at 125 ° C. for 4 minutes. (E) Then, the exposed copper foil (conductive layer 2) is etched with an etching bath of ferric chloride, and (f) the resist layer 6 is peeled off with a 2% NaOH aqueous solution at 40 ° C. to produce a circuit board. did.
【0031】得られた回路基板のスルホール抵抗値を測
定したところ30mΩ〜50mΩ/穴であった。また、
スルホール断面を観察したところ、スルーホール用貫通
孔内壁より1mm以上入った絶縁基板1の内部には高粘
度ペースト4および導電性ペースト5の浸透は全く認め
られず、絶縁基板1は連続孔の原形を保ち、低誘電特性
に影響がないことが確認された。The through-hole resistance value of the obtained circuit board was measured and found to be 30 mΩ to 50 mΩ / hole. Also,
When the cross section of the through hole was observed, no penetration of the high-viscosity paste 4 and the conductive paste 5 was observed inside the insulating substrate 1 1 mm or more from the inner wall of the through hole for the through hole, and the insulating substrate 1 had the original shape of the continuous hole. It was confirmed that the low dielectric constant was not affected.
【0032】また、上記回路基板を20℃と260℃の
オイルバスに各20秒ずつ10回連続して浸漬してもス
ルホール抵抗はほとんど変化がなかった。更に、マイグ
レーション試験として、60℃、90%RHの雰囲気で
スルホール間に直流50Vを印加し、1000時間後の
絶縁抵抗を測定したところ、2×109Ωを示し良好
で、特に外観も異常なかった。Even if the circuit board was immersed in an oil bath at 20 ° C. and 260 ° C. 10 times for 20 seconds each, the through-hole resistance hardly changed. Further, as a migration test, a DC voltage of 50 V was applied between the through holes in an atmosphere of 60 ° C. and 90% RH, and the insulation resistance was measured 1000 hours later. The insulation resistance was 2 × 10 9 Ω, which was good and the appearance was not abnormal. It was
【0033】(低粘度硬化性導電ペーストの組成)平均
粒径6.8ミクロン、タップ密度2.99g/cm3、
比表面積4200cm2/gの樹脂状電解銅粉に、リノ
ール酸を銅粉表面積に対し、0.25×10-5mmol
/cm2の割合で配合し、窒素雰囲気下で15分間、乳
鉢により予備混合した。このようにして得た前処理銅粉
を、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(エ
ポキシ当量=150)/ノボラック型フェノール樹脂
(ヒドロキシ当量=105)=74/26(重量比)の
バインダー100重量部に対し、456重量部添加し、
さらに2ーエチルー4ーメチルイミダゾールを、バイン
ダー100重量部に対し、2.8重量部添加した後、3
本ロールミルで30分間混練りし、ペースト状とした。
得られたペーストの粘度は350ポイズであった。(Composition of low-viscosity curable conductive paste) Average particle size 6.8 μm, tap density 2.99 g / cm 3 ,
Resinous electrolytic copper powder with a specific surface area of 4200 cm 2 / g, linoleic acid to the copper powder surface area, 0.25 × 10 -5 mmol
/ Cm 2 and compounded in a mortar for 15 minutes under a nitrogen atmosphere. The pretreated copper powder thus obtained was used with respect to 100 parts by weight of a binder of neopentyl glycol diglycidyl ether (epoxy equivalent = 150) / novolac type phenol resin (hydroxy equivalent = 105) = 74/26 (weight ratio). Add 456 parts by weight,
After adding 2.8 parts by weight of 2-ethyl-4-methylimidazole to 100 parts by weight of the binder, 3
The mixture was kneaded with this roll mill for 30 minutes to form a paste.
The viscosity of the obtained paste was 350 poise.
【0034】実施例2 実施例1で用いた高粘度ペーストの代わりにSP−40
60(商品名:5官能エポキシアクリレート、粘度/2
5℃=2500ポイズ:昭和高分子社製)を用いた以外
は実施例1と同様に行った。Example 2 Instead of the high viscosity paste used in Example 1, SP-40
60 (Product name: 5-functional epoxy acrylate, viscosity / 2
The same procedure as in Example 1 was performed except that 5 ° C. = 2500 poise: manufactured by Showa High Polymer Co., Ltd. was used.
【0035】得られた回路基板のスルホール抵抗値を測
定したところ30mΩ〜50mΩ/穴であった。スルホ
ール断面を観察したところ、スルーホール用貫通孔の内
壁より1mm以上入った絶縁基板1の内部には高粘度ペ
ースト4および低粘度硬化性導電ペースト5の浸透は認
められず、絶縁基板1は連続孔の原形を保ち、低誘電特
性を維持していることが確認された。The through hole resistance value of the obtained circuit board was measured and found to be 30 mΩ to 50 mΩ / hole. When the cross section of the through hole was observed, no penetration of the high-viscosity paste 4 and the low-viscosity curable conductive paste 5 was observed inside the insulating substrate 1 1 mm or more from the inner wall of the through-hole for through hole, and the insulating substrate 1 was continuous. It was confirmed that the original shape of the hole was maintained and the low dielectric property was maintained.
【0036】また、上記回路基板を20℃と260℃の
オイルバスに各20秒ずつ10回連続して浸漬してもス
ルホール抵抗はほとんど変化がなかった。また、マイグ
レーション試験として、60℃、90%RHの雰囲気で
スルホール間に直流50Vを印加し、1000時間後の
絶縁抵抗を測定したところ、2×109Ωを示し良好
で、特に外観も異常なかった。Further, even if the circuit board was immersed in an oil bath at 20 ° C. and 260 ° C. 10 times for 20 seconds each, the through-hole resistance was hardly changed. As a migration test, a DC voltage of 50 V was applied between the through holes in an atmosphere of 60 ° C. and 90% RH, and the insulation resistance was measured 1000 hours later. The insulation resistance was 2 × 10 9 Ω, which was good and the appearance was not abnormal. It was
【0037】また、本発明においては、高粘度ペースト
として、粘度が1500ポイズ、また、上記したように
2500ポイズのものを使用した場合においても、ほぼ
同様な結果が得られたが、特に、2000ポイズ以上の
場合が、その効果が顕著であった。Further, in the present invention, substantially the same result was obtained even when the high viscosity paste having a viscosity of 1500 poise, or 2500 poise as described above was used. The effect was remarkable when it was more than poise.
【0038】比較例1 実施例1で用いた高粘度ペーストの代わりに、EBEC
RYL264(商品名:3官能ウレタンアクリレート、
粘度/25℃=450ポイズ:ダイセル・ユーシービー
社製)を用いた以外は実施例1と同様に行った。Comparative Example 1 Instead of the high viscosity paste used in Example 1, EBEC
RYL264 (trade name: trifunctional urethane acrylate,
Viscosity / 25 ° C. = 450 poise: manufactured by Daicel UCB Co., Ltd., except that the same procedure as in Example 1 was performed.
【0039】得られた回路基板のスルホール抵抗値を測
定したところ60mΩ〜350mΩ/穴であった。スル
ホール断面を観察したところ、貫通孔内壁より10mm
以上入った絶縁基板1の内部にも高粘度ペースト4およ
び導電性ペースト5の浸透が認められた。これにより、
絶縁基板1の低誘電率が維持されていなかったことが確
認された。また、マイグレーション試験として、60
℃、90%RHの雰囲気でスルホール間に直流50Vを
印加し、200時間後の絶縁抵抗を測定したところ、9
穴が1kΩ以下を示し、信頼性に問題があった。The through-hole resistance value of the obtained circuit board was measured and found to be 60 mΩ to 350 mΩ / hole. The cross section of the through hole was observed, and it was 10 mm from the inner wall of the through hole.
Penetration of the high-viscosity paste 4 and the conductive paste 5 was also confirmed inside the insulating substrate 1 containing the above. This allows
It was confirmed that the low dielectric constant of the insulating substrate 1 was not maintained. As a migration test, 60
A direct current of 50 V was applied between the through holes in an atmosphere of 90 ° C. and 90% RH, and the insulation resistance after 200 hours was measured.
The hole showed 1 kΩ or less, and there was a problem in reliability.
【0040】実施例3 実施例1において、(c)の低粘度硬化性導電ペースト
の硬化後、その硬化体5と導電層2によって構成される
面を平滑に研削した後、無電解銅メッキ、電気メッキを
施して両面に均一なメッキ層を形成した以外は、実施例
1と同様に行った。Example 3 In Example 1, after curing the low-viscosity curable conductive paste (c), the surface constituted by the cured body 5 and the conductive layer 2 was ground smoothly, and then electroless copper plating was performed. Example 1 was repeated except that electroplating was performed to form uniform plated layers on both sides.
【0041】得られた回路基板のスルホール抵抗値を測
定したところ30mΩ〜60mΩ/穴であった。また、
スルホール断面を観察したところ、貫通孔内壁より1m
m以上入った絶縁基板1の内部には高粘度ペースト4お
よび導電性ペースト5の浸透は認められず、絶縁基板1
は連続孔の原形を保ち、低誘電特性を維持していること
が確認された。The through-hole resistance value of the obtained circuit board was measured and found to be 30 mΩ to 60 mΩ / hole. Also,
When observing the cross section of the through hole, 1m from the inner wall of the through hole
No penetration of the high-viscosity paste 4 and the conductive paste 5 was observed inside the insulating substrate 1 containing m or more.
It was confirmed that the original shape of the continuous hole was maintained and the low dielectric property was maintained.
【0042】また、上記回路基板を20℃と260℃の
オイルバスに各20秒ずつ10回連続して浸漬してもス
ルホール抵抗はほとんど変化がなかった。更に、マイグ
レーション試験として、60℃、90%RHの雰囲気で
スルホール間に直流50Vを印加し、1000時間後の
絶縁抵抗を測定したところ、1×109Ωを示し良好
で、特に外観も異常なかった。Further, even if the circuit board was immersed in an oil bath at 20 ° C. and 260 ° C. 10 times for 20 seconds each, the through-hole resistance hardly changed. Further, as a migration test, a direct current of 50 V was applied between the through holes in an atmosphere of 60 ° C. and 90% RH, and the insulation resistance after 1000 hours was measured, which was 1 × 10 9 Ω and was good, and the appearance was not abnormal. It was
【図1】 図1は、本発明の方法の代表的な態様を示す
工程である。FIG. 1 is a process showing a representative embodiment of the method of the present invention.
1 絶縁基板 2 導電層 3 スルーホール用貫通孔 4 高粘度ペーストによる被覆層 5 低粘度硬化性導電ペーストの硬化体 6 レジスト層 8 配線パターン 1 Insulating Substrate 2 Conductive Layer 3 Through Hole Through Hole 4 Covering Layer with High Viscosity Paste 5 Cured Body of Low Viscosity Curable Conductive Paste 6 Resist Layer 8 Wiring Pattern
Claims (1)
ホール用貫通孔を設け、該貫通孔の内壁を粘度1000
ポイズ以上のペーストにより被覆した後、メッキ処理、
または粘度1000ポイズ未満の硬化性導電ペーストを
充填、硬化してスルホールを形成することを特徴とする
回路基板の製造方法。1. A through hole for a through hole is provided in a substrate made of an insulator containing bubbles, and the inner wall of the through hole has a viscosity of 1000.
After coating with paste of poise or more, plating treatment,
Alternatively, a method for manufacturing a circuit board is characterized in that a curable conductive paste having a viscosity of less than 1000 poise is filled and cured to form a through hole.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34358991A JPH05175650A (en) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | Manufacture of circuit board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34358991A JPH05175650A (en) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | Manufacture of circuit board |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05175650A true JPH05175650A (en) | 1993-07-13 |
Family
ID=18362702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34358991A Pending JPH05175650A (en) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | Manufacture of circuit board |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05175650A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0651602A1 (en) * | 1993-10-29 | 1995-05-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Conductive paste compound for via hole filling, printed circuit board which uses the conductive paste, and method of manufacturing the same |
US6139904A (en) * | 1998-10-20 | 2000-10-31 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Method of making a printed board |
WO2006132063A1 (en) * | 2005-06-07 | 2006-12-14 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Multilayer substrate and semiconductor package |
US7264482B2 (en) | 2004-03-10 | 2007-09-04 | J.S.T. Mfg. Co., Ltd. | Anisotropic conductive sheet |
-
1991
- 1991-12-25 JP JP34358991A patent/JPH05175650A/en active Pending
Cited By (6)
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US5977490A (en) * | 1993-10-29 | 1999-11-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Conductive paste compound for via hole filling, printed circuit board which uses the conductive paste, and method of manufacturing the same |
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JP2006344646A (en) * | 2005-06-07 | 2006-12-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Multilayer substrate and semiconductor package |
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