JPH05173158A - 反射型液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 良好な反射特性を有し、表示品位が向上した
反射型液晶表示装置を提供する。 【構成】 スイッチング素子である薄膜トランジスタ４
０上に反射電極３８を形成する際に、相互に平行な帯状
の凸部４２ａを有する有機絶縁膜４２を形成し、その上
に反射電極３８を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、入射光を反射すること
によって表示を行う反射型液晶表示装置およびその製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ワードプロセッサ、ラップトップ
パソコン、ポケットテレビなどへの液晶表示装置の応用
が急速に進展している。特に、液晶表示装置の中でも外
部から入射した光を反射させて表示を行う反射型液晶表
示装置は、バックライトが不要であるため消費電力が低
く、薄型であり軽量化が可能であるため注目されてい
る。

【０００３】従来から、反射型液晶表示装置にはＴＮ
（ツイステッドネマティック）方式、並びにＳＴＮ（ス
ーパーツイステッドネマティック）方式が用いられてい
るけれども、これらの方式では偏光板によって必然的に
自然光の光強度の１／２が表示に利用されないことにな
り、表示が暗くなるという問題がある。

【０００４】このような問題に対して、偏光板を用い
ず、自然光の全ての光線を有効に利用しようとする表示
モードが提案されている。このようなモードの例とし
て、相転移型ゲスト・ホスト方式が挙げられる（Ｄ．
Ｌ．Ｗｈｉｔｅ ａｎｄ Ｇ．Ｎ．Ｔａｙｌｏｒ：Ｊ．Ａ
ｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．４５ ４７１８ １９７４）。この
モードでは、電界によるコレステリック・ネマティック
相転移現象が利用されている。この方式に、さらにマイ
クロカラーフィルタを組合わせた反射型マルチカラーデ
ィスプレイも提案されている（Ｔｏｈｒｕ Ｋｏｉｚｕ
ｍｉ ａｎｄ Ｔａｔｓｕｏ Ｕｃｈｉｄａ Ｐｒｏｃｅｅ
ｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ ＳＩＤ，Ｖｏｌ．２９／２，
１５７，１９８８）。

【０００５】このような偏光板を必要としないモードで
さらに明るい表示を得るためには、あらゆる角度からの
入射光に対し、表示画面に垂直な方向へ散乱する光の強
度を増加させる必要がある。そのためには、最適な反射
特性を有する反射板を作成することが必要となる。上述
の文献には、ガラスなどからなる基板の表面を研磨剤で
粗面化し、フッ化水素酸でエッチングする時間を変える
ことによって表面の凹凸を制御し、その凹凸上に銀の薄
膜を形成した反射板について記載されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記文
献に記載の反射板には、ガラス基板に研磨剤によって傷
をつけることによって凹凸部が形成されるため、均一な
形状の凹凸部が形成されない。また、凹凸部の形状の再
現性が悪いという問題点があるため、このようなガラス
基板を用いると再現性よく良好な反射特性を有する反射
型液晶表示装置を提供することができない。

【０００７】本発明の目的は、上述の問題を解決し、良
好な反射特性を有する反射板を容易に、かつ再現性良く
作成することができ、表示品位が向上する反射型液晶表
示装置およびその製造方法を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、液晶層を介在
して対向配置される一対の基板の一方基板上に、他方基
板側からの入射光を反射する反射板を有する反射型液晶
表示装置において、前記反射板は、相互に平行な帯状の
複数の凸部を有する絶縁膜上に形成されていることを特
徴とする反射型液晶表示装置である。

【０００９】また本発明は、前記反射板は、表示絵素と
なる電極であることを特徴とする。

【００１０】また本発明は、液晶層を介在して対向配置
される一対の基板の一方基板上に、他方基板側からの入
射光を反射する反射板を有する反射型液晶表示装置の製
造方法において、前記一方基板上に感光性樹脂を塗布
し、前記感光性樹脂を相互に平行な帯状の透孔が形成さ
れた遮光手段を介して露光および現像した後に熱処理を
行い、得られた帯状の凸部上に、前記帯状の凸部に沿う
金属薄膜から成る前記反射板を形成することを特徴とす
る反射型液晶表示装置の製造方法である。

【００１１】

【作用】本発明に従えば、液晶層を介在して対向配置さ
れる一対の基板の一方基板上に、他方基板からの入射光
を反射する反射板を有する反射型液晶表示装置におい
て、相互に平行な帯状の複数の凸部を有する絶縁膜上
に、前記反射板が形成されている。前記反射板は、絶縁
膜の帯状の凸部に沿った凸部を有する形状となる。絶縁
膜には帯状の凸部を均一に形成することができるため、
反射板の凸部も均一となり、全面的に均一な反射特性が
得られる。

【００１２】また本発明に従えば、前記反射板は表示絵
素となる電極であり、液晶層側に位置しているため視差
がなくなる。

【００１３】また本発明に従えば、液晶層を介在して対
向配置される一対の基板の一方基板上に、他方基板から
の入射光を反射する反射板を有する反射型液晶表示装置
の製造方法において、まず前記一方基板上に感光性樹脂
を塗布する。塗布された感光性樹脂は、相互に平行な帯
状の透孔が形成された遮光手段を介して露光後、現像さ
れ、その後熱処理が行われる。前述の工程で形成された
相互に平行な帯状の凸部上に、前記帯状の凸部に沿う金
属薄膜から成る反射板を形成する。感光性樹脂の加工は
容易に行えるため、反射板の形状を容易に制御すること
ができる。感光性樹脂には、帯状の凸部を均一に形成す
ることができるため、反射板の凸部も均一となり、全面
的に均一な反射特性が得られる。

【００１４】

【実施例】図１は本発明の一実施例である反射型液晶表
示装置３０の断面の斜視図であり、図２は図１に示され
る基板３１の平面図である。ガラスなどから成る絶縁性
の基板３１上に、クロム、タンタル等から成る複数のゲ
ートバス配線３２が互いに平行に設けられ、ゲートバス
配線３２からはゲート電極３３が分岐している。ゲート
バス配線３２は走査線として機能している。

【００１５】ゲート電極３３を覆って基板３１上の全面
に、窒化シリコン（ＳｉＮ_x ）、酸化シリコン（ＳｉＯ
_x ）等から成るゲート絶縁膜３４が形成されている。ゲ
ート電極３３の上方のゲート絶縁膜３４上には、非晶質
シリコン（以下、ａ−Ｓｉと記す）、多結晶シリコン、
ＣｄＳｅ等から成る半導体層３５が形成されている。半
導体層３５の両端部には、ａ−Ｓｉなどから成るコンタ
クト電極４１が形成されている。一方のコンタクト電極
４１上にはチタン、モリブデン、アルミニウム等から成
るソース電極３６が重畳形成され、他方のコンタクト電
極４１上には、ソース電極３６と同様にチタン、モリブ
デン、アルミニウム等から成るドレイン電極３７が重畳
形成されている。

【００１６】図２に示すようにソース電極３６には、ゲ
ートバス配線３２に前述のゲート絶縁膜３４を挟んで交
差するソースバス配線３９が接続されている。ソースバ
ス配線３９は、信号線として機能している。ソースバス
配線３９も、ソース電極３６と同様の金属で形成されて
いる。ゲート電極３３、ゲート絶縁膜３４、半導体層３
５、ソース電極３６およびドレイン電極３７は薄膜トラ
ンジスタ（以下、ＴＦＴと記す）４０を構成し、該ＴＦ
Ｔ４０は、スイッチング素子の機能を有する。ゲートバ
ス配線３２、ソースバス配線３９およびＴＦＴ４０を覆
って、基板３１上全面に有機絶縁膜４２が形成されてい
る。有機絶縁膜４２の反射電極３８が形成される領域に
は相互に平行な複数の凸部４２ａが帯状に形成されてお
り、ドレイン電極３７部分にはコンタクトホール４３が
形成されている。

【００１７】有機絶縁膜４２の形成方法やこれにコンタ
クトホール４３を形成する工程上の問題、および液晶表
示装置３０を作成する際のセル厚のばらつきを小さくす
るため、凸部４２ａの高さＨは１０μｍ以下が好ましい
（一般にセルの厚さは１０μｍ以下である）。また帯状
の凸部４２ａのピッチは、１００μｍ以下が好ましい。

【００１８】有機絶縁膜４２の凸部４２ａ形成領域上に
アルミニウム、銀などから成る反射電極３８が形成さ
れ、反射電極３８はコンタクトホール４３においてドレ
イン電極３７と接続される。さらにその上には配向膜４
４が形成される。

【００１９】反射電極３８は、図２に示されるようにゲ
ートバス配線３２の一部およびソースバス配線３９の一
部に有機絶縁膜４２を介して重畳されるように形成され
ている。このため反射電極３８の面積を大きくすること
ができ、表示画面の開口率が大きくなり、明るい表示が
可能となる。反射電極３８のパターニング不良をなくす
ためには、反射電極３８の端部には凸部４２ａを形成し
ない構成とすればよい。また反射電極３８とゲートバス
配線３２およびソースバス配線３９との絶縁不良が生じ
るときには、重畳する部分には凸部４２ａを形成しない
構成とすればよい。

【００２０】基板４５上には、カラーフィルタ４６が形
成される。カラーフィルタ４６の基板３１の反射電極３
８に対向する位置にはマゼンタまたはグリーンのフィル
タ４６ａが形成され、反射電極３８に対向しない位置に
はブラックのフィルタ４６ｂが形成される。カラーフィ
ルタ４６上の全面にはＩＴＯ（Indium TinOxide）など
から成る透明な電極４７、さらにその上には配向膜４８
が形成される。

【００２１】両基板３１，４５は、反射電極３８とフィ
ルタ４６ａとが一致するように対向して貼り合わせら
れ、間に液晶４９が注入されて反射型液晶表示装置３０
が完成する。

【００２２】図３は図１および図２に示される帯状の凸
部を有する反射電極３８を基板３１上に形成する形成方
法を説明する工程図であり、図４は図３に示す形成方法
を説明する図２に示される切断面線ＩＶ−ＩＶから見た
断面図であり、図５は図３に示す形成方法を説明する図
２に示される切断面線Ｖ−Ｖから見た断面図であり、図
６は図３の工程ａ７で用いられるマスク５１の平面図で
ある。図４（１）および図５（１）は図３の工程ａ４を
示し、図４（２）および図５（２）は図３の工程ａ７を
示し、図４（３）および図５（３）は図３の工程ａ９を
示している。

【００２３】工程ａ１ではガラスなどから成る絶縁性の
基板３１上にスパッタリング法によって３０００Åの厚
さのタンタル金属層を形成し、この金属層をホトリソグ
ラフ法およびエッチングによってパターニングを行い、
ゲートバス配線３２およびゲート電極３３を形成する。
工程ａ２では、プラズマＣＶＤ法によって４０００Åの
厚さの窒化シリコンから成るゲート絶縁膜３４を形成す
る。

【００２４】工程ａ３では半導体層３５となる厚さ１０
００Åのａ−Ｓｉ層と、コンタクト層４１となる厚さ４
００Åのｎ⁺ 型ａ−Ｓｉ層とをこの順で連続的に形成す
る。形成されたｎ⁺ 型ａ−Ｓｉ層およびａ−Ｓｉ層のパ
ターニングを行い、半導体層３５およびコンタクト層４
１を形成する。工程ａ４では、基板３１の全面に厚さ２
０００Åのモリブデン金属をスパッタ法によって形成
し、このモリブデン金属層のパターニングを行って、ソ
ース電極３６、ドレイン電極３７およびソースバス配線
３９を形成し、ＴＦＴ４０が完成する。図４（１）およ
び図５（１）は、工程ａ４までの処理終了後のＴＦＴ４
０が形成された基板３１の断面図である。

【００２５】工程ａ５では、ＴＦＴ４０を形成した基板
３１上全面にポリイミド樹脂を２μｍの厚さに形成し、
有機絶縁膜４２を形成する。工程ａ６では、ホトリソグ
ラフ法およびドライエッチング法を用いて有機絶縁膜４
２にコンタクトホール４３を形成する。工程ａ７では、
有機絶縁膜４２上にホトレジスト５０を塗布し、図６に
示されるマスク５１を用いて反射電極３８形成領域に相
互に平行な帯状の凸部５０ａをパターニングする。図４
（２）および図５（２）に、工程ａ７までの処理終了後
の基板３１の断面図を示す。マスク５１には、反射電極
３８形成領域に図６に示されるように斜線で示す相互に
平行な帯状の遮光領域５１ａが形成されている。

【００２６】工程ａ８では、ホトレジスト５０に応じて
有機絶縁膜４２をドライエッチングして有機絶縁膜４２
に帯状の凸部４２ａを形成する。その後、熱処理を行
い、凸部４２ａを角が取れた形に形成する。コンタクト
ホール４３およびＴＦＴ４０上の有機絶縁膜４２はホト
レジスト５０によって保護されており、エッチングは行
われない。

【００２７】工程ａ９では凸部４２ａを有する機絶縁膜
４２上全面にアルミニウム層を形成し、図４（３）およ
び図５（３）に示されるように凸部４２ａ上に反射電極
３８を形成する。反射電極３８は、有機絶縁膜４２に形
成されたコンタクトホール４３を介してＴＦＴ４０のド
レイン電極３７と接続されている。

【００２８】有機絶縁膜４２上の凸部４２ａの形状は、
マスク５１の形状、ホトレジスト５０の厚さ、ドライエ
ッチングの時間によって制御することができることが確
認されている。また、凸部４２ａの角は、凸部４２ａの
形成後、熱処理をすることによって容易に取ることがで
きる。

【００２９】図１に示される他方の基板４５に形成され
る電極４７は、たとえばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）
から成り、厚さは１０００Åである。電極３８，４７上
の配向膜４４，４８は、ポリイミドなどを塗布後焼成す
ることによって形成されている。基板３１，４５間には
たとえば７μｍのスペーサを混入した図示しない接着性
シール剤をスクリーン印刷することによって液晶４９を
封入する空間が形成され、前記空間を真空脱気すること
によって液晶４９が注入される。液晶４９としては、た
とえば黒色色素を混入したゲストホスト液晶（メルク社
製、商品名 ＺＬＩ２３２７）に光学活性物質（メルク
社製、商品名 Ｓ８１１）を４．５％混入したものを用
いる。

【００３０】図７は、本発明の反射型液晶表示装置３０
の反射特性の測定に用いられる反射板７０の製造工程を
説明する工程図であり、図８は図７の工程を説明する断
面図である。工程ｂ１では、図８（１）に示すように厚
さ１．１ｍｍのガラス（商品名 ７０５９ コーニング
社製）７１の一方表面に、レジスト材料としてたとえば
ＯＦＰＲ−８００（東京応化社製）を好ましくは５００
ｒｐｍ〜３０００ｒｐｍでスピンコートによって塗布す
る。本実施例では８００ｒｐｍで３０秒間塗布し、レジ
スト７２を厚さ４μｍに成膜した。工程ｂ２では、レジ
スト７２を１００℃で３０分間プリベークし、工程ｂ３
では、図８（２）に示すようにレジスト７２上に帯状の
透光７３ａを有するホトマスク７３を配置して露光を行
い、工程ｂ４では、図８（３）に示すようにレジスト７
２を現像し、基板７１表面に微細な帯状の凸部７４を形
成した。現像液としては、「ＮＭＤ−３ ２．３８％
（東京応化社製）」を用いた。

【００３１】工程ｂ５では、ガラス基板７１上の凸部７
４を好ましくは１２０〜２５０℃で熱処理し、図８
（４）に示されるように角がとれて滑らかな凸部７４を
形成する。本実施例では１８０℃で３０分間熱処理を行
った。工程ｂ６では、凸部７４を形成した基板７１上に
金属薄膜７５を形成した。金属薄膜としてはアルミニウ
ム、ニッケル、クロム、銀、銅などをあげることができ
る。金属薄膜７５の厚さは０．０１μｍ〜１．０μｍ程
度が適している。本実施例ではアルミニウムを真空蒸着
することによって金属薄膜７５を形成した。以上によっ
て反射板７０を得た。

【００３２】図９は、反射板７０の反射特性の測定法を
説明する斜視図である。通常、液晶表示装置３０に用い
られる基板３１，４５および液晶４９層の屈折率は各々
約１．５である。反射板７０の表面と液晶４９層とが接
する構成を想定し、本実施例では屈折率１．５の紫外線
硬化樹脂７７を用いてガラス基板７６を反射板７０に密
着させて、反射板７０の反射特性を測定した。この測定
結果は、反射板７５の表面と液晶４９層の境界における
反射特性と同様の結果を与えることを確認している。

【００３３】図９に示すように、反射特性の測定は、反
射板７０に入射する入射光７９の散乱光８０をホトマル
チメータ７８で検出することによって行われる。反射板
７０には、その法線方向に対し角度θ、反射板面内の回
転角度ψをもって入射光７９が入射する。ホトマルチメ
ータ７８は、金属薄膜７５上の入射光７９が照射される
点を通る反射板７０の法線方向に固定されている。入射
光７９の入射角度θと面内角度ψを変えて入射光７９の
金属薄膜７５による散乱光８０の強度を測定することに
よって反射特性が得られた。

【００３４】本実施例で用いた凸部７４の形状は微細な
帯状であり、凸部７４は凸部７４の長手方向が面内回転
角度ψ＝−９０°からψ＝９０°の方向に沿うように形
成されている。

【００３５】図１０は、入射角度θと反射強度との関係
を示すグラフである。入射角度θである入射光７８の反
射強度は、θ＝０°の線に対する角度θの方向に、原点
０からの距離として表されている。θ＝８０°の反射強
度をＰ１、θ＝７０°の反射強度をＰ２、θ＝６０°の
反射強度をＰ３、θ＝５０°の反射強度をＰ４、θ＝４
０°の反射強度をＰ５、θ＝３０°の反射強度をＰ６、
θ＝−３０°の反射強度をＰ７、θ＝−４０°の反射強
度をＰ８、θ＝−５０°の反射強度をＰ９、θ＝−６０
°の反射強度をＰ１０、θ＝−８０°の反射強度をＰ１
１で示している。図１０では、酸化マグネシウムの標準
白色板の反射特性曲線を破線８１で示している。

【００３６】図１１は、面内回転角度ψと反射強度との
関係を示すグラフである。面内回転角度ψが０°付近に
おいて、反射強度はピークに達する。したがって反射板
７０の凸部７４の長手方向に対して直交する方向からの
入射光７８が、最も強く反射する。

【００３７】図１２は、本発明の一実施例の液晶表示装
置３０において、印加電圧と反射率との関係を示すグラ
フである。反射率は、標準白色板における法線方向への
拡散光に対するパネル法線方向への拡散光８０の強度の
比率を求めることによって得られる。図１２の反射率
は、入射角度θ＝３０°、面内回転角度ψ＝０°の入射
光７８について測定されている。電圧を印加すれば、１
０Ｖ以上の電圧で反射率は１５０％、コントラスト比は
８であり、明るい表示が得られた。

【００３８】以上のように本実施例によれば、反射電極
３８の凹凸を、形状の制御が容易な有機絶縁膜４２に形
成された凸部４２ａに沿って形成するため、容易に反射
電極３８に凹凸を形成でき、また反射電極３８の凹凸を
再現性良く形成できる。このため反射型液晶表示装置の
表示品位が向上する。

【００３９】本実施例の反射型液晶表示装置３０では、
反射電極３８を形成した面が液晶４９側に位置している
ため視差がなくなり、良好な表示画面が得られる。ま
た、本実施例では凹凸を有する反射電極３８が液晶４９
層側すなわち液晶４９層にほぼ隣接する位置に配置され
ている構成となるため、凸部４２ａの高さＨはセル厚よ
りも小さく、凸部の傾斜角度は液晶の配向を乱さない程
度に穏やかにすることが望ましい。

【００４０】また本実施例では、反射電極３８の形成領
域のみに凸部４２ａを形成したけれども、基板３１全面
に凸部４２ａを形成してもよい。また反射電極３８を透
明電極として、別に反射板を設けても良く、この場合に
も同様に、帯状の凸部を形成した有機絶縁膜上に反射板
が形成される。また、スイッチング素子としてＴＦＴ４
０を用いるアクティブマトリクス駆動方式の反射型液晶
表示装置３０について説明したけれどもこれに限られる
ものではなく、単純マトリクス駆動方式などの反射型液
晶表示装置でも同様の効果が得られる。

【００４１】さらに、本実施例では有機絶縁膜４２のパ
ターンニングをドライエッチング法によって行ったが、
有機絶縁膜４２がポリイミド樹脂の場合にはアルカリ溶
液によるウエットエッチング法によって行ってもよい。
また有機絶縁膜４２としてポリイミド樹脂を用いたが、
アクリル樹脂等の他の有機材料を用いてもよい。さらに
本実施例では基板３１として、ガラスなどからなる透明
な材料を用いたが、シリコン基板のような不透明な材料
でも同様な効果が発揮され、この場合には回路を基板上
に集積できる利点がある。

【００４２】なお、前記実施例においては、表示モード
として相転移型ゲスト・ホストモードを取り挙げたけれ
どもこれに限定されることはなく、たとえば２層式ゲス
ト・ホストのような他の光吸収モード、高分子分散型液
晶表示装置のような光散乱型表示モード、強誘電性液晶
表示装置で使用される複屈折表示モードなどでも同様の
効果が得られる。また本実施例では、スイッチング素子
としてＴＦＴ４０を用いた場合について説明したが、た
とえばＭＩＭ(Metal-Insulator-Metal）素子、ダイオー
ド、バリスタ等を用いたアクティブマトリクス基板にも
適用することができる。

【００４３】

【発明の効果】本発明によれば、感光性樹脂を露光、現
像し、熱処理を行って得られた帯状の相互に平行な凸部
上に、反射板を前記凸部に沿って形成する。反射板の形
状は感光性樹脂によって形成される凸部によって決ま
る。感光性樹脂は容易に凸部を形成することができるた
め、反射板形成が容易であり、また形成の再現性が向上
し、反射型液晶表示装置の表示品位が向上する。

【００４４】相互に平行な帯状の凸部に沿って反射板を
形成するため、良好な反射特性が得られ、反射型液晶表
示装置の表示品位が向上する。

【００４５】また、反射板を表示絵素となる電極とする
ことによって、反射板が液晶層側に位置するため視差が
なくなり、反射型液晶表示装置の表示品位が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である反射型液晶表示装置３
０の断面の斜視図である。

【図２】図１に示される基板３１の平面図である。

【図３】図１および図２に示される基板３１上に凹凸を
有する反射電極３８を形成する形成方法を説明する工程
図である。

【図４】図３に示す形成方法を説明する図２に示される
切断面線ＩＶ−ＩＶから見た断面図である。

【図５】図３に示す形成方法を説明する図２に示される
切断面線Ｖ−Ｖから見た断面図である。

【図６】図３の工程ｓ７で用いるマスク５１の平面図で
ある。

【図７】本発明の反射型液晶表示装置３０の反射特性の
測定に用いられる反射板７０の製造工程を説明する工程
図である。

【図８】図７の工程を説明する断面図である。

【図９】反射板７０の反射特性の測定法を説明する斜視
図である。

【図１０】入射角度θと反射強度との関係を示すグラフ
である。

【図１１】回転角度ψと反射強度との関係を示すグラフ
である。

【図１２】本発明の一実施例の液晶表示装置３０におい
て、印加電圧と反射強度との関係を示すグラフ出ある。

【符号の説明】

３０ 反射型液晶表示装置 ３１ 基板 ３８ 反射電極 ４２ 有機絶縁膜 ４２ａ 凸部 ４５ 基板 ４９ 液晶 ５１ ホトマスク

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液晶層を介在して対向配置される一対の
   基板の一方基板上に、他方基板側からの入射光を反射す
   る反射板を有する反射型液晶表示装置において、 前記反射板は、相互に平行な帯状の複数の凸部を有する
   絶縁膜上に形成されていることを特徴とする反射型液晶
   表示装置。
2. 【請求項２】 前記反射板は、表示絵素となる電極であ
   ることを特徴とする請求項１記載の反射型液晶表示装
   置。
3. 【請求項３】 液晶層を介在して対向配置される一対の
   基板の一方基板上に、他方基板側からの入射光を反射す
   る反射板を有する反射型液晶表示装置の製造方法におい
   て、 前記一方基板上に感光性樹脂を塗布し、前記感光性樹脂
   を相互に平行な帯状の透孔が形成された遮光手段を介し
   て露光および現像した後に熱処理を行い、得られた帯状
   の凸部上に、前記帯状の凸部に沿う金属薄膜から成る前
   記反射板を形成することを特徴とする反射型液晶表示装
   置の製造方法。