JPH05164915A

JPH05164915A - カラーフィルタ及びその製造方法

Info

Publication number: JPH05164915A
Application number: JP35141191A
Authority: JP
Inventors: Noboru Sakaeda; 暢栄田; Hideaki Kurata; 英明倉田; Seiichiro Yokoyama; 清一郎横山
Original assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Current assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date: 1991-12-12
Filing date: 1991-12-12
Publication date: 1993-06-29

Abstract

(57)【要約】【目的】生産効率（歩留り）の向上を図ることのでき
るカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。【構成】絶縁性基板上に、ブラックマトリックス、色
素層形成用透明電極、ミセル電解法で作製した色素層及
び平坦膜を形成してカラーフィルタを形成する。この
際、基板の画素部と基板の周縁部との間に、色素層形成
用透明電極、色素層及び平坦膜の周縁部が位置するよう
に、これらを形成する。例えば、色素層形成後の基板上
に、基板周縁部を避けて平坦膜を形成した後、平坦膜周
縁部より外側にある色素層形成用透明電極及び色素層を
エッチングにより除去して、基板の画素部と基板の周縁
部との間に、色素層形成用透明電極、色素層及び平坦膜
の周縁部が位置するようにする。さらに、平坦膜の周縁
部の断面形状が傾斜するように平坦膜を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はカラーフィルタ及びその
製造方法に関し、特に、生産効率の向上を図ることので
きるカラーフィルタ及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶テレビ、ラップトップパソコン、ノ
ート型パソコン等のディスプレイに用いられるカラー液
晶ディスプレイには、絶縁性基板上に色素層を平面的に
分離配置して形成したカラーフィルタが使用されてお
り、このカラー液晶ディスプレイとしては、従来、図６
に示す構成のものが知られている。図６に示すカラー液
晶ディスプレイは、カラーフィルタ基板１０と駆動用基
板２０の間に液晶３０を封入し、接着剤（封止材）４０
で封止した構成としてある。カラーフィルタ基板１０
は、ガラス基板１上に三原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の色素層５
をそれぞれ形成するとともに、各色素層間に洩れ光によ
るコントラストや色純度の低下を防止する役割を果たす
ブラックマトリックス２を設け、これをトップコート材
（平坦膜）６で平滑化し、その上面に透明電極７を設け
たものである。駆動用基板２０は、ガラス基板２１上に
駆動用透明電極２２（ＴＦＴ、ＭＩＮ又はデューティ駆
動用ＩＴＯ素子）を形成したものである。

【０００３】カラーフィルタの色素層は、通常、印刷機
を用いてガラス基板上にＲＧＢ三原色のインキを印刷す
る印刷法、顔料を分散させた紫外線硬化型レジストをガ
ラス基板上に塗布し、フォトリソグラフィ法によるマス
ク露光及び熱硬化をＲＧＢ三回繰返し色素層を形成する
分散法、ゼラチン上に染色防止膜としてレジストをフォ
トリソグラフィ法により形成し、染料でＲＧＢの各色毎
に染色する染色法、電着ポリマーと顔料を分散させ、基
板上に形成された電極を利用して電着塗装を行なう電着
法、界面活性剤と顔料を分散させ、基板上に形成された
電極を利用して電解を行なうミセル電解法が知られてい
る。

【０００４】このうち、ミセル電解法によってカラーフ
ィルタを製造する場合にあっては、図７及び図８に示す
ように二通りのカラーフィルタ構造が知られている（特
開平３−１０２３０２号，特願平２−２３０８０号）。
図７に示すカラーフィルタ（特開平３−１０２３０２
号）は、ＴＦＴ用のカラーフィルタであり、ガラスなど
の絶縁性透明基板１に、金属クロム等によるブラックマ
トリックス２、シリカあるいはアクリル樹脂などの絶縁
膜３、インジウム、スズの酸化物（ＩＴＯ）などの膜を
パターン化した色素層形成用電極４を順次積層し、さら
に、黒顔料とアクリル樹脂あるいはアクリル樹脂からな
る電極取出層１０を形成後、ミセル電解法でＲＧＢ三原
色の顔料を製膜して色素層５を形成し、アクリル樹脂や
シロキサン樹脂などを主剤として含むトップコート剤で
平坦膜６を形成し、再びインジウム、スズの酸化物（Ｉ
ＴＯ）等の透明電極７を一面に積層した構造としてあ
る。

【０００５】また、図８に示すカラーフィルタ（特願平
２−２３０８０号）は、ＭＩＭ又はＳＴＮ用のカラーフ
ィルタであり、ガラスなどの絶縁性透明基板１に、イン
ジウム、スズの酸化物（ＩＴＯ）などの膜をパターン化
した色素層形成用透明電極４、黒顔料とアクリル樹脂か
らなるブラックマトリックス２及び電極取出部１０とを
同一平面上に形成し、さらにミセル電解法でＲＧＢ三原
色の顔料を製膜して色素層５を形成し、アクリル樹脂や
シロキサン樹脂などを主剤として含むトップコート剤で
平坦膜６を形成し、再びインジウム、スズの酸化物（Ｉ
ＴＯ）の薄膜をパターン化した透明電極７を積層した構
造としてある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の二種類のカラーフィルタ構造のいずれにおいても、
色素層形成用透明電極と色素層及び平坦膜がカラーフィ
ルタ基板全面に存在するので、種々の問題が発生する。

【０００７】まず、カラーフィルタの画素部の周辺部に
おいて、色素形成用透明電極及び色素層と、下地基板と
の段差（色素形成用電極及び色素層の存在による凸部
と、これらが存在しない部分の凹部との段差）が生じる
ため、カラーフィルタと駆動用基板とを接着剤を用いて
張り合わせて、液晶ディスプレイの組み立てる際に、接
着が不十分となり、カラーフィルタと駆動用基板のギャ
ップ制御や液晶封入に大きな障害が起こるという問題が
ある。

【０００８】さらに、液晶駆動用透明電極の導通検査と
して、カラーフィルタの画素部の周辺部においてプロー
ブ検査を行なうことが一般的であるが、液晶駆動用電極
の下層の平坦膜が樹脂層であるため硬度が低いことと、
主に製造工程に必要な熱処理による熱膨張及び収縮率の
違いにより、無機質（ＩＴＯ）層からなる液晶駆動用透
明電極と樹脂層からなる平坦膜とのなじみが悪く、接着
性が良くないことのため、検査時にプローブが液晶駆動
用透明電極を破壊し、正常な検査ができないという問題
がある。

【０００９】なお、画素部周辺部に平坦膜の周縁を形成
したカラーフィルタ基板の製造方法（特開平３−１２９
３０２号，特開昭６３−２８９５３２号，特開昭６２−
１６３０１７号等）が提案されているが、これらの方法
は、ミセル電解法を用いるカラーフィルタに関するもの
でなく、したがって画素部周辺部にも色素形成用透明電
極と色素層が存在するミセル電解法によるカラーフィル
タにはそのまま適用できないという問題がある。

【００１０】また、上記画素部周縁部に形成した平坦膜
の周縁部の断面形状が矩形であると、平坦膜上に積層す
る液晶駆動用透明電極に歪が生じ、断線を起こし易くな
る。上記特開昭６２−１６３０１７号には、画素部周辺
部に形成した平坦膜の周縁部の膜厚を漸次低減する（傾
斜をもたせる）形状にして、平坦膜に積層した液晶駆動
用透明電極の断線を軽減する方法が開示されている。し
かし、特開昭６２−１６３０１７号に開示の方法は、ミ
セル電解法を用いるカラーフィルタに関するものではな
いため、この方法をそのままミセル電解法によるカラー
フィルタには適用できないという問題がある。

【００１１】さらに、特開昭６２−１６３０１７号に開
示の方法においては、平坦膜をネガ型の感光性樹脂を用
いフォトリソグラフィ法における現像条件を制御するこ
とによって形成しているが、ネガ型の感光性樹脂を使用
しているので、現像時に感光性樹脂塗膜の膨潤がおこ
り、このため現像条件の制御だけでは、平坦膜の周縁部
に膜厚の傾斜をもたせることが難しいという問題があ
る。

【００１２】本発明は上述した問題点にかんがみてなさ
れたものであり、カラーフィルタ基板と駆動用電極基板
との接着性が十分であるとともにプローブ検査時に液晶
駆動用電極が破壊することがなく、したがって、生産効
率（歩留り）の向上を図ることのできるカラーフィルタ
及びその製造方法の提供を目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のカラーフィルタは、絶縁性基板上に、ブラ
ックマトリックス、色素層形成用透明電極、ミセル電解
法で作製した色素層及び平坦膜を形成してなるカラーフ
ィルタにおいて、基板の画素部と基板の周縁部との間
に、色素層形成用透明電極、色素層及び平坦膜の周縁部
を位置せしめた構成、あるいは、絶縁性基板上に、ブラ
ックマトリックス、絶縁膜、色素層形成用透明電極、ミ
セル電解法で作製した色素層、平坦膜、液晶駆動用透明
電極を順次積層してなるカラーフィルタにおいて、基板
の画素部と基板の周縁部との間に、色素層形成用透明電
極、色素層及び平坦膜の周縁部を位置せしめた構成、あ
るいは、絶縁性基板上に、色素層形成用透明電極、ブラ
ックマトリックス、ミセル電解法で作製した色素層、平
坦膜、液晶駆動用透明電極を順次積層してなるカラーフ
ィルタにおいて、基板の画素部と基板の周縁部との間
に、色素層形成用透明電極、色素層及び平坦膜の周縁部
を位置せしめた構成としてあり、好ましくは、平坦膜の
周縁部の断面形状を傾斜させた構成としてある。

【００１４】また、本発明のカラーフィルタの製造方法
は、絶縁性基板上に、ブラックマトリックス、絶縁膜、
色素層形成用透明電極、ミセル電解法で作製した色素
層、基板周縁部を避けて形成した平坦膜を順次積層して
形成した後、平坦膜周縁部より外側にある色素層形成用
透明電極及び色素層をエッチングにより除去する構成、
あるいは、絶縁性基板上に、色素層形成用透明電極、ブ
ラックマトリックス、ミセル電解法で作製した色素層、
基板周縁部を避けて形成した平坦膜を順次積層して形成
した後、平坦膜周縁部より外側にある色素層形成用透明
電極及び色素層をエッチングにより除去する構成として
あり、必要に応じ、平坦膜上に液晶駆動用透明電極を形
成した後、平坦膜周縁部より外側にある色素層形成用透
明電極及び色素層のエッチングによる除去と、液晶駆動
用透明電極のパターンニングのためのエッチングを同時
に行なう構成としてある。

【００１５】さらに、本発明のカラーフィルタの製造方
法は、上記カラーフィルタの製造方法において、必要に
応じ、平坦膜を、紫外線感光能および／または遠紫外線
感光能をもつ透明レジストをスピンコーターあるいはロ
ールコーターにより塗布し、マスクを用いて露光部と未
露光部の境界が基板の画素部と基板の周縁部との間に位
置するように露光し、該レジストを現像してパターニン
グ後、熱硬化して形成する構成、あるいは、平坦膜を、
透明な熱硬化性樹脂をオフセット印刷機を用い凸版と凹
版の境界部が、基板の画素部と基板の周縁部との間に位
置するように印刷し、これを熱硬化して形成する構成、
あるいは、基板の中心点と研磨面の中心点とのギャップ
をとって各々を回転させて研磨することにより平坦膜の
周縁部を傾斜させる構成、あるいは、レジスト塗布基板
とマスクとのギャップを１００μｍ以上に保ちつつ、マ
スクを用いて露光部と未露光部の境界が基板の画素部と
基板の周縁部との間に位置するように露光し、現像して
パターニング、熱硬化して、基板周縁部を避けて平坦膜
を形成するとともに平坦膜の周縁部を傾斜させる構成と
してある。

【００１６】以下、本発明を詳細に説明する。

【００１７】まず、本発明のカラーフィルタについて説
明する。

【００１８】図１は、本発明のカラーフィルタの一構成
例を示す図であり、図１（ａ）は平面図、図１（ｂ）は
図１（ａ）のＡ−Ａ線断面図、図１（ｃ）は図１（ａ）
のＢ−Ｂ線断図をそれぞれ示す。

【００１９】図１に示すように、本発明のカラーフィル
タは、絶縁基板（ガラス）１上にブラックマトリックス
２、絶縁膜３、色素層形成用透明電極４、ミセル電解法
で作製した色素層５、平坦膜６、液晶駆動用透明電極７
を順次積層した構成としてある。

【００２０】上記発明のカラーフィルタにおいては、平
坦膜６の周縁部Ｗを、基板の画素部Ｓ、すなわち液晶の
駆動によりカラー表示を行なう部分（画像表示部）の周
縁部と基板の周縁部Ｔとの間に位置せしめてある。

【００２１】また、図１（ｂ）及び（ｃ）示すように、
平坦膜６及び液晶駆動用透明電極７の周縁部の断面形状
が傾斜（Ｙ）している構成としてある。

【００２２】さらに、平坦膜６の上層にある液晶駆動用
透明電極７は、平坦膜６の周縁部Ｗと基板の周縁部Ｔの
間で、下地の絶縁膜３と接する構造となっており、この
部分で液晶駆動用透明電極７の導通検査としてのプロー
パ検査と、カラー液晶ディスプレイの作製のために、駆
動電極基板との接着を行なえるようにしてある。すなわ
ち、図１（ａ）及び（ｃ）に示すように、電極取出部１
０と平坦膜周縁部Ｗとの間に通常存在する色素形成用透
明電極及び色素層は、エッチングにより除去してあり、
存在していない。従って、この部分においても、絶縁膜
３上に液晶駆動用透明電極７が存在し、この部分におい
てプローパ検査が行なえるとともに、駆動電極基板との
接着部分としたとき段差なく接着を行なうことができ
る。

【００２３】図１に示す構造のカラーフィルタは、ＴＦ
Ｔ駆動用に用いられる。なお、電極取出部１０は、カラ
ー液晶ディスプレイ作製に不必要なので、色素層形成用
透明電極及び色素層のエッチング後に切断（スクライ
ブ）により除去される。

【００２４】図２は、本発明のカラーフィルタの他の構
成例を示す図であり、図２（ａ）は平面図、図２（ｂ）
は図２（ａ）のＡ−Ａ線断面図、図２（ｃ）は図２
（ａ）のＢ−Ｂ線断図をそれぞれ示す。

【００２５】図２に示すように、本発明のカラーフィル
タは、絶縁基板１上に、色素層形成用透明電極４、ブラ
ックマトリックス２、ミセル電解法で作製した色素層
５、平坦膜６、液晶駆動用透明電極７を順次積層した構
成としてある。

【００２６】図２に示すカラーフィルタにおいても、図
１に示すカラーフィルタと同様に、平坦膜６の周縁部Ｗ
を、基板の画素部Ｓ、すなわち液晶の駆動によりカラー
表示を行なう部分（画像表示部）の周縁部と基板の周縁
部Ｔとの間に位置せしめてある。

【００２７】また、平坦膜６及び液晶駆動用透明電極７
の周縁部の断面形状が傾斜（Ｙ）している構成としてあ
る。

【００２８】さらに、平坦膜６の上層にある液晶駆動用
透明電極７は、平坦膜６の周縁部Ｗと基板の周縁部Ｔの
間で、下地の絶縁性基板１と接する構造としてある。

【００２９】図２に示す構造のカラーフィルタは、ＭＩ
Ｎ及びＳＴＮ駆動用に用いられる。なお、電極取出部１
０は、図１に示すカラーフィルタカラーと同様に、色素
層形成用透明電極及び色素層のエッチング後にスクライ
ブにより除去される。なお、上記本発明のカラーフィル
タの各構成要素の形成材料、形成方法等に関しては後述
する。

【００３０】次に、本発明のカラーフィルタの製造方法
について説明する。

【００３１】図３は本発明のカラーフィルタの製造方法
の一具体例を示すフロー図である。なお、本製造例で製
造するカラーフィルタは図１に示したものと同じであ
る。

【００３２】（１）カラーフィルタはガラス基板等の絶
縁性基板１上に形成する。ここで、ガラス基板として
は、低膨張ガラス、無アルカリガラス（ＮＡ）、ソーダ
ライムガラス（白板）、石英ガラス等が用いられる。ガ
ラスはブラックマトリックスの接着性向上の観点から研
磨品を用いることが好ましいが、無研磨品であってもよ
い。

【００３３】（２）上記絶縁性基板１上に金属薄膜を形
成する。金属薄膜はＣｒ（クロム）、Ｎｉ（ニッケル）
等の金属をスパッタリング法、蒸着法、ＣＶＤ法等によ
って絶縁性基板１上に付着させて形成する。上記保護膜
上に形成された金属薄膜のパターンニングをフォトリソ
グラフィ法によって行ない、ブラックマトリックス２を
形成する。フォトリソグラフィ法による金属薄膜のパタ
ーンニングは、（イ）レジスト塗布，（ロ）露光（ブラ
ックマトリックス形成用マスク使用），（ハ）現像，
（ニ）ポストベーク（熱硬化），（ホ）金属薄膜のエッ
チング，（ヘ）レジスト剥離の順で行なわれる。

【００３４】（３）上記金属製ブラックマトリックスを
覆って絶縁膜３を積層する。この場合、絶縁膜３の材質
に制限はないが、シリカ（ＳｉＯ₂ ）、チタニア（Ｔｉ
Ｏ₂ ）、アルミナ（Ａｌ₂ Ｏ₃ ）又は絶縁性ポリマーに
よって形成することが好ましい。絶縁膜３の形成手段と
しては、例えば、シリカ、チタニア又はアルミナをスパ
ッタリングしたり、シリカを浸漬（ディップ）したり、
絶縁性ポリマーをスピンコートしたりする方法が挙げら
れる。

【００３５】（４）上記絶縁膜形成基板１上に、インジ
ュウム／スズ酸化物（ＩＴＯ薄膜）あるいは酸化スズ等
の導電性薄膜層を形成する。ＩＴＯ膜等の導電性薄膜
は、スパッタ法、蒸着法、バイオゾル法等によって形成
される。上記ＩＴＯ薄膜等のパターンニングをフォトリ
ソグラフィ法によって行ない、色素層形成用電極（ＩＴ
Ｏ電極）４を形成する。なお、このＩＴＯ電極４のパタ
ーンは、通常縦ストライプパターンとされる。フォトリ
ソグラフィ法によるパターンニングのプロセスは上記
（３）と同様である。なお、ＩＴＯ電極のパターンニン
グは、ＩＴＯ電極形成用マスクとブラックマトリックス
との位置合わせを行なった後、露光して行なう。

【００３６】（５）上記色素層形成用ＩＴＯ電極４が形
成された絶縁性基板上１の端部に帯状に電極取出窓口１
１を形成する。電極取出窓口１１を形成する方法は特に
制限されない。

【００３７】例えば、フォトリソグラフィ法によって電
極取出窓口１１を形成する場合は、ＩＴＯパターンニン
グ絶縁性基板上に、有機顔料等を含有する遮光膜形成用
レジスト（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社
製：カラーモザイクＣＲＹ：特願平２−１１７１３０
号、特願平２−３２１４９８号参照）及び透明レジスト
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製：カラ
ーモザイクＣＴ）をスピンコーターあるいはロールコー
ター等によって塗布し、さらに、ポリビニルアルコール
水溶液等の保護膜を同様に塗布して絶縁膜を形成する。
次いで、この遮光膜形成用レジスト等からなる絶縁膜
に、電極取出窓口１１形成用のデザインマスクを用い
て、色素層形成用電極との位置合わせを行なった後、露
光を行ない、現像によって電極取出窓口１１を形成し、
その後、ポストベークを行なえばよい。

【００３８】取出電極窓口１１に銀ペーストを帯状に塗
布し、ベークすることによって、電極取出部１０が形成
され、電極の赤（Ｒ）列、緑（Ｇ）列、青（Ｂ）列各色
毎のＩＴＯ電極群が導通される。

【００３９】（６）上記電極取出窓口１１形成後、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各色の色素層（膜）５を形
成する。色素層５の形成は、ミセル電解法あるいは電着
法等によって行なわれる。ミセル電解法は、色素を含む
ミセル溶液に基板を浸漬し、取出電極にポテンショスタ
ット（外部電極）を接続し、ＩＴＯ電極（色素層形成用
透明電極）４に通電して、定電位電解を行ない、ＩＴＯ
電極４上に色素層（膜）５を形成する方法である。この
場合、色素層の形成は各色毎のミセル溶液を用い、各色
毎に行なわれる。電着法は、電着ポリマーと顔料を分散
させ、基板上に形成されたＩＴＯ電極を利用して電着塗
装により色素層を形成する方法である。

【００４０】（７）色素層形成後、その上に平坦膜（ト
ップコート膜）６を形成する。この際、平坦膜６の周縁
部は、基板の画素部と基板の周縁部との間に、位置せし
めるようにする。具体的には、このような平坦膜を形成
する方法として、下記Ａ法（フォトリソグラフィー法：
プロキシミティギャップ８０μｍ以下）、Ｂ法（フォト
リソグラフィー法：プロキシミティギャップ１００〜５
００μｍ）、Ｃ法（オフセット印刷法）が挙げられる。

【００４１】Ａ法Ａ法は、紫外線感光能および／または遠紫外線感光能を
有する透明レジストを用いて、フォトリソグラフィー法
によって、基板の画素部と基板の周縁部との間に平坦膜
の周縁部が位置するように平坦膜を形成する方法であ
る。紫外線・遠紫外線感光性透明レジストは、膜厚１．
０μｍで、２５０℃で１時間処理しても可視光透過率が
９５％以上であるものが好ましい。紫外線感光能および
／または遠紫外線感光能を有する透明レジストの構成成
分としては、感光性樹脂、光開始剤、溶剤等が挙げられ
る。

【００４２】ここで、感光性樹脂としては、アクリル酸
系、シロキサン系、エポキシ系、ポリイミド系の官能基
を少なくとも一つ以上有するモノマー、及びバインダー
となるオリゴマーの混合物などが例示される。また、光
開始剤としては、紫外線および／または遠紫外線でラジ
カルを発生するアルキルフェノン系又はトリハロメチル
トリアジン系などの光開始剤が例示される。溶剤として
は、エチルセルソルブアセテート（ＥＣＡ）、メチルセ
ロソルブアセテート（ＭＣＡ）、メチルプロピレングリ
コールアセテート、シクロヘキサノンなどが例示され
る。

【００４３】紫外線・遠紫外線感光性透明レジストとし
ては、より具体的には、日本合成ゴム社製ＨＲＣ−０
０１（ポジ型、紫外線感光能）、日本合成ゴム社製Ｊ
ＮＰＣ−０１（ネガ型、紫外線感光能）、東京応化社製
ＣＦＧＲ（ポジ型、遠紫外線感光能）、富士ハントエ
レクトロニクステクノロジー社製ＣＴ（ネガ型、紫外
線感光能）、東レ社製フォトニース（ネガ型、紫外線
感光能）、などが例示される。

【００４４】フォトリソグラフィー法による平坦膜のパ
ターンニングは、例えば、イ）スピンコート、ロールコ
ートによるレジスト塗布（膜厚０．５μｍ〜５．０μ
ｍ）、ロ）プリベーク（８０〜１５０℃）、ハ）露光
［露光部と未露光部の境界が基板の画素部と基板の周縁
部との間にあるようにした平坦膜形成用マスクを用いて
露光、コンタクト又はプロキシミティー方式、ギャップ
０〜８０μｍ、露光エネルギー２０〜３００ｍＪ／ｃｍ
² ］、ニ）現像［レジスト専用現象液、例えば０．１〜
１．０Ｎ炭酸ナトリウム水溶液（Ｎａ₂ ＣＯ₃ ）、トリ
メチルアンモニウムヒドロキサイド水溶液（ＴＭＡＨ）
等を室温で使用。浸漬法又はスプレ−現像法（基板を回
転させる場合を含む）］、ホ）リンス（レジスト専用リ
ンス液、超純水又はメタノール等を常温で使用）、ヘ）
後露光（露光エネルギー１００〜３００ｍＪ／ｃｍ² レ
ジストにより任意）、ト）ポストベーク（１５０〜３０
０℃）、の順で行なわれる。

【００４５】Ｂ法Ｂ法はＡ法と比べ、プロキシミティギャップを１００〜
５００μｍと大きくとっている点、及び、露光エネルギ
ーが２０〜５００Ｊ／ｃｍ² である点で異なる。このよ
うな露光条件にすると、後述する研磨工程を要せずに平
坦膜の周縁部を傾斜させることができる。

【００４６】Ｃ法Ｃ法は、熱硬化性透明樹脂を用いて、オフセット印刷法
によって、基板の画素部と基板の周縁部との間に平坦膜
の周縁部が位置するように平坦膜を形成する方法であ
る。熱硬化性透明樹脂は、膜厚１．０μｍで、２５０℃
で１時間処理しても可視光透過率が９５％以上であるも
のが好ましい。熱硬化性透明樹脂の構成成分としては、
上述した紫外線・遠紫外線感光性透明レジストと同様の
構成成分が挙げられる。

【００４７】熱硬化性透明樹脂としては、より具体的に
は、日本合成ゴム社製ＪＳＳ−７２６５、日本合成ゴム社製ＪＨＲ−８４８４、長瀬産業社製ＯＳ−８０８、などが例示される。

【００４８】オフセット印刷法による平坦膜の形成は、
例えば、イ）オフセット印刷機（凸版と凹版の境界部が
基板の画素部と基板の周縁部との間にあるような版を使
用）によるレジストの塗布（膜厚０．５μｍ〜５．０μ
ｍ）、ロ）プリベーク（８０〜１５０℃）、ハ）ポスト
ベーク（１５０〜３５０℃）、の順で行なわれる。

【００４９】（８）平坦膜６形成後、平坦膜６の周縁部
Ｗより外側にある色素層及び色素層形成用透明電極をエ
ッチングにより除去する。エッチング液としては、塩
酸、硝酸、塩酸／第二塩化鉄混合水溶液、硝酸セリウム
水溶液などが挙げられる。エッチングは、例えば、浸漬
法又は超音波浸漬法によって、室温〜８０℃で、３０秒
〜５分間行なう。エッチング終了後、超純水でリンス
し、これを乾燥してエッチング工程を完了する。

【００５０】（９）エッチング後、基板から電極取出部
１０を切断する。切断は切断線（スクライブライン）１
２に沿って基板に傷を入れ、基板裏面から傷口に圧力を
かけて行なう。切断後、切口の鋭角部分（基板周縁部）
の面取りをヤスリ等で摩耗して行なう。その後、超純水
でリンスしてガラス粉等を洗い落とす。

【００５１】（１０）上記切断及び面取り後、平坦膜６
の周縁部（側周面）を研磨して、平坦膜周縁部の断面形
状を傾斜させる。この場合、傾斜面の表面の凹凸差が
０．５μｍ以下となるように研磨を行なうことが好まし
い。

【００５２】研磨は、研磨機（例えば、ラップマスター
社：ＬＬＣＦ７００など）を使用し、研磨面の中心点と
基板中心点間のギャップ（初期設定値）１５〜５０ｍｍ
をとり、回転速度５〜５０ｒｐｍ、揺動幅１０〜３００
ｍｍで行なう。超純水でリンス後、乾燥して研磨工程を
終了する。

【００５３】（１１）上記研磨工程後、平坦膜６上にＩ
ＴＯ薄膜層を積層して、液晶駆動用透明電極７を形成す
る。ＩＴＯ薄膜層の形成は、上記（２）と同様にして行
なう。上記ＩＴＯ薄膜層は、そのまま平面状の液晶駆動
用透明電極とするか、あるいは、上記（４）と同様にフ
ォトリソグラフィー法によってＩＴＯ薄膜層のパターン
ニングを行ない所望のパターン（例えばストライプ）状
の液晶駆動用透明電極とする。上述したプロセスを経て
ＴＦＴ用カラーフィルタが作製される。

【００５４】次に、本発明のカラーフィルタの他の製造
方法について説明する。

【００５５】図４は、本発明のカラーフィルタの製造方
法の他の具体例を示すフロー図である。なお、本製造例
で製造するカラーフィルタは図２に示したものと同様で
ある。

【００５６】（１）カラーフィルタはガラス基板等の絶
縁性基板１上に形成する。ここで、ガラス基板として
は、ソーダライムガラス（青板）を含むこと以外は、上
述したＴＦＴ用カラーフィルタの製造の場合と同様であ
る。

【００５７】（２）上記絶縁性基板１上に色素層形成用
電極４を、上述したＴＦＴ用カラーフィルタの製造の場
合と同様にして形成する。

【００５８】（３）上記色素層形成用透明電極４を形成
した基板上にレジストブラックマトリックス２をフォト
リソグラフィー法によって形成する。ブラックマトリッ
クス形成用のレジスト剤としては、有機顔料系のレジス
ト剤が使用される。

【００５９】ここで、有機顔料系のレジスト剤として
は、例えば、互いに補色関係にある二色の顔料を含有す
る遮光性レジスト剤（特願平２−１１７１３０号）、黒
色有機顔料、二種類以上の有機顔料を混合し擬似黒色化
した混色有機顔料、カーボンブラック等の遮光剤及び感
光性樹脂等からなる遮光膜形成用レジスト（特願平２−
３２１４９８号）等が挙げられる。

【００６０】フォトリソグラフィー法によるレジストブ
ラックマトリックスのパターンニングは、ブラックマト
リックス及び電極取出窓口形成用のデザインマスクを用
いて行ない、電極取出窓口１１も同時に形成する。

【００６１】フォトリソグラフィー法によるパターンニ
ングは、具体的には、ア）レジスト塗布、イ）ポリビニ
ルアルコール等の保護膜塗布、ウ）露光（ブラックマト
リックス形成用マスク使用、色素層形成用透明電極と位
置合わせ後露光、エ）現像、オ）ポストベーク（熱硬
化）の順で行なう。これにより、ブラックマトリックス
と同時に電極取出部を形成する。

【００６２】次いで、電極取出窓口１１に銀ペーストを
帯状に塗布し、ベークすることによって、取出電極部１
０を形成し、電極の赤（Ｒ）列、青（Ｂ）列、緑（Ｇ）
列各色毎のＩＴＯ電極群を導通する。

【００６３】（４）上記電極取出窓口形成後、Ｒ，Ｇ，
Ｂ各色の色素層（膜）５を形成する。色素層５の形成
は、上述したＴＦＴ用カラーフィルタの製造の場合と同
様の方法で行なう。なお、色素層形成後、銀ペーストを
アセトン中に浸漬するか、もしくは超音波をかけて完全
に剥離する。

【００６４】（５）色素層形成後、その上に平坦膜６を
形成する。平坦膜６の形成は上述したＴＦＴ用カラーフ
ィルタの製造の場合と同様にして行なう。

【００６５】（６）平坦膜６形成後、平坦膜６の周縁部
Ｗより外側にある色素層及び色素層形成用透明電極をエ
ッチングにより除去する。エッチングは、上述したＴＦ
Ｔ用カラーフィルタの製造の場合と同様にして行なう。

【００６６】（７）エッチング後、基板から電極取出部
１０を切断するとともに切断面の面取りを行なう。電極
取出部１０の切断及び切断面の面取りは上述したＴＦＴ
用カラーフィルタの製造の場合と同様にして行なう。

【００６７】（８）上記切断及び面取り後、平坦膜６の
周縁部（側周面）を研磨して平坦膜周縁部の断面形状を
傾斜させる。平坦膜周縁部の研磨は上述したＴＦＴ用カ
ラーフィルタの製造の場合と同様にして行なう。

【００６８】（９）上記研磨後、平坦膜６上に液晶駆動
用透明電極７を形成する。液晶駆動用透明電極７の形成
は上述したＴＦＴ用カラーフィルタの場合と同様にして
行なう。上述したプロセスを経てＭＩＮ，ＳＴＮ用カラ
ーフィルタが作製される。

【００６９】次に、本発明のカラーフィルタのさらに他
の製造方法について説明する。

【００７０】本製造方法は、上述したＴＦＴ用カラーフ
ィルタの製造及びＭＩＮ，ＳＴＮ用カラーフィルタの製
造のいずれにおいても適用できる。すなわち、上述した
製造方法において、平坦膜６形成直後に色素層及び色素
層形成用透明電極のエッチングを行なわずに、平坦膜６
上に液晶駆動用透明電極層を積層後これをパターンニン
グする際に、同時に色素層及び色素層形成用透明電極を
エッチングにより除去する。

【００７１】エッチングの条件及び手順は、エッチング
時間が１〜１５分であること以外は、上述したカラーフ
ィルタの製造方法における色素層及び色素層形成用透明
電極のエッチングの場合と同様である。

【００７２】次に、上記で作製したカラーフィルタを用
いた本発明のカラー液晶ディスプレイ及びその組立て工
程について説明する。

【００７３】図５は本発明のカラー液晶ディスプレイの
組立て工程を示す図である。

【００７４】（１）液晶駆動用電極基板は、ガラス基板
上に液晶駆動用透明電極を形成したものであり、単純マ
トリックス方式の場合は帯状透明電極が形成され各画素
の液晶を外部から時分割駆動する。アクティブマトリッ
クス方式の場合には、各画素ごとに画素電極及び駆動素
子（マトリックスアレイ）が形成され、各画素の液晶を
各駆動素子で駆動する。マトリックスアレイに用いられ
る非線形素子としては３端子型のＴＦＴ(Thin FilmTran
sistor)や２端子型のＭＩＭ(Metal-Insulator-Metal)
等が挙げられる。

【００７５】（２）カラーフィルタとしては、上述した
本発明のカラーフィルタを使用する。

【００７６】（３）スペーサは液晶層の厚みを一定に保
つためのもので、テフロンフィルムやマイラフィルム等
が用いられる。なお、表示面積の広い表示パネルを作製
する場合、パネル内部にガラスビース，プラスチックビ
ーズ等を分散させる場合がある。

【００７７】（４）接着剤（封止剤）としては、有機接
着剤（例えば、エポキシ系接着剤）と無機接着剤（例え
ば、ガラスはんだ）とがある。この接着剤としては、絶
縁性基板及び絶縁性保護膜との接着性に優れたものを使
用するのが好ましい。

【００７８】（５）ラビングは、分子配列を均一にする
ために行なわれる基板の表面処理であり、表示方式に応
じて、平行配向処理及び垂直配向処理等が挙げられる。
具体的には摩擦ラビング、配向蒸着等が挙げられる。

【００７９】（６）液晶をパネルに封止する方法には、
表面張力を用いる方法と圧力差を利用する方法がある。
圧力差を利用した真空注入法が気泡の混入や劣化を防ぐ
ためには好ましい。封入される液晶は表示モードに応じ
て選択される。表示モードとしては、例えば、ＴＮ，Ｓ
ＴＮ，ＦＬＣ，ＡＦＬＣ，ＶＡＮ等が挙げられる。

【００８０】（７）電極とドライバーＩＣとの接続法と
しては、チップオンフレキシブルプリントサーキット
（ＣＯＦ）、チップオングラス（ＣＯＧ）等が挙げられ
る。

【００８１】（８）上記工程を経て本発明のカラー液晶
ディスプレイ（パネル）が作製される。この液晶パネル
は交流駆動される。

【００８２】なお、上述した本発明のカラーフィルタあ
るいはカラー液晶ディスプレイは、パソコン、ワープ
ロ、壁掛テレビ、ポケット液晶テレビなどのカラー液晶
ディスプレイやオーロラビジョン、固体撮像素子（ＣＣ
Ｄ）などのカラーフィルタ、オーディオ、車載用インパ
ネ、時計、電卓、ビデオデッキ、ファックス、通信機、
ゲーム、測定機器などのカラーディスプレイ等として好
適に利用される。

【００８３】

【実施例】以下、実施例にもとづき本発明をさらに詳細
に説明する。実施例１下記手順によってカラーフィルタ（ＴＦＴ駆動用）及び
カラー液晶パネルを製造した。

【００８４】ブラックマトリックスの形成鏡面研磨した３００ｍｍ角の白板ガラス基板上にスパッ
タリング装置（アルバック社製：ＳＤＰ−５５０ＶＴ）
を用いて、クロム（Ｃｒ）薄膜を約２０００オングスト
ロームスパッタした。

【００８５】この上に紫外線硬化型レジスト剤（富士ハ
ントエレクトロニクステクノロジー社製：ＨＰＲ２０
４，ポジ型）を１，５００ｒｐｍの回転速度でスピンコ
ートした。スピンコート後、１０５℃で３０分間プリベ
ークを行ない、その後、この基板をステッパー露光機
（露光能力１０ｍＷ／ｃｍ²）にセットした。マスク
は、画素サイズ９０μｍ×３１０μｍ、ギャップ２０μ
ｍ、有効エリア１６８ｍｍ×２２１ｍｍの格子パターン
とし、このマスクを用いて４回ステップ露光した。スキ
ャンスピード５ｍｍ／秒で露光した後、アルカリ現像液
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製：ＬＳ
Ｉ現像液）にて室温で現像した。現像後、超純水でリン
スしてから、１２５℃で３０分間ポストベークした。

【００８６】次に、エッチング液（エッチャント）とし
て６Ｎ塩酸（ＨＣｌ）・０．１Ｎ硝酸（ＨＮＯ₃）・
０．１Ｎ硝酸セリウム（Ｃｅ（ＮＯ₃）₄）の水溶液を準
備し、前記基板を５０℃のエッチング液に浸漬し、基板
上のＣｒをエッチングしてパターンを形成した。エッチ
ングの終点は電気抵抗により測定した。前記エッチング
には約５分の時間を必要とした。エッチング後、超純水
でリンスした後、強アルカリ剥離剤（富士ハントエレク
トロニクステクノロジー社製：マイクロストリップ２０
０１）に９０℃で１０分間浸漬してレジストを剥離し
た。超純水シャワーで充分にリンスし、温風乾燥してク
ロムブラックマトリックスを形成した。

【００８７】絶縁膜の形成次に、上記クロムブラックマトリックス（ＣｒＢＭ）上
に、絶縁膜として、アクリル系熱硬化性樹脂のエチルセ
ルソルブアセテート溶液（日本合成ゴム社製：ＪＳＳ−
７１５）を１，０００ｒｐｍの回転速度でスピンコート
し、２５０℃で６０分間ベークした。次いで、シリカ
（ＳｉＯ₂）の分散したゾル（東京応化社製：ＯＣＤ
ＴＹＰＥ−７）中に浸漬し、２５０℃で６０分間ベーク
した後、室温まで冷却して絶縁膜を形成した。

【００８８】色素層形成用電極の形成次に、上記絶縁膜上にスパッタリング装置（アルバック
社製：ＳＤＰ−５５０ＶＴ）を用いて、ＩＴＯ薄膜を約
１３００オングストロームスパッタした。このとき、ワ
ークを２５０℃にしてＩＴＯ膜の表面抵抗を２０Ω／□
に調製した。

【００８９】この基板上に紫外線硬化型レジスト剤（富
士ハントエレクトロニクステクノロジー社製：ＨＰＲ２
０４，ポジ型）を１，５００ｒｐｍの回転速度でスピン
コートした。スピンコート後、１０５℃で３０分間プリ
ベークを行ない、その後、この基板をコンタクト露光機
（露光能力：１０ｍＷ／ｃｍ²）にセットした。マスク
は、線幅９２μm 、ギャップ１８μｍ、線長２３４ｍｍ
の縦ストライプパターンとした。光源は２ｋｗの高圧水
銀灯を用いた。プロキシミティギャップ５０μｍをと
り、アライメントした後、１０秒間露光した後、アルカ
リ現像液（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社
製：ＬＳＩ現像液）にて室温で浸漬現像した。現像後、
超純水にてリンスしてから、１２５℃で３０分間ポスト
ベークした。

【００９０】次に、エッチャントとして１Ｍ塩化第二鉄
（ＦｅＣｌ₃）・１Ｎ塩酸（ＨＣｌ）・０．１Ｎ硝酸
（ＨＮＯ₃）・０．１Ｎ硝酸セリウム（Ｃｅ（Ｎ
Ｏ₃）₄）の水溶液（５０℃）を準備し、前記基板上のＩ
ＴＯ薄膜をエッチングして色素層形成用電極を形成し
た。エッチングの終点は電気抵抗により測定した。前記
エッチングには約５分の時間を必要とした。エッチング
後、超純水でリンスし、レジストを強アルカリ剥離剤
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製：マイ
クロストリップ２００１）に９０℃で１０分間浸漬して
レジストを剥離した。さらに、超純水シャワーで充分に
リンスし、温風乾燥後、ＩＴＯ電極の隣接同志の電気的
リークがないことを確認し、ＩＴＯ電極（色素層形成用
電極）付き基板を完成した。

【００９１】電極取出窓口の形成及び銀ペーストの塗布顔料含有アクリル系レジスト剤（富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー社製；カラーモザイクＣＲ：ＣＧ：
ＣＢ：ＣＫの１：１：１：１の混合物）を電極取出部形
成用レジスト剤として用いた。上記で作成した基板上に
前記レジストを５００１０ｒｐｍでスピンコートし、基
板上に均一にコートした。この基板を８５℃で１５分間
プリベークを行ない、さらに、ポリビニルアルコール水
溶液を同様に塗布し、プリベークを行なった。この基板
を２ｋｗの高圧水銀灯を光源とするアライメント機能の
あるコンタクト露光機にセットし、電極取出部形成用の
デザインマスクを用いて位置合せ後露光した。その後、
０．１Ｎの炭酸ナトリウム水溶液で室温下１分間浸漬現
像し、さらに、超純水でリンスし、２００℃で３０分間
ポストベークすることによって、電極取出部１０を形成
した。次に、銀ペースト（徳力化学社製：Ｐ−２８０）
をディスペンサーを用いて電極取出窓口に塗布し、電極
の赤（Ｒ）列、青（Ｂ）列、緑（Ｇ）列を接続した後、
１００℃で１５分間ベークして、銀ペーストの塗布を終
えた。

【００９２】三原色色素層の形成４リットルの純水にフェロセン誘導体ミセル化剤ＦＰＥ
Ｇ（同仁化学社製）、臭化リチウム（ＬｉＢｒ）とジア
ントラキノン顔料を加え、それぞれ、２ｍＭ，０．１
Ｍ，１０ｇ／リットルの溶液とし、超音波ホモジナイザ
ーで３０分間分散させてミセル溶液とした後、前記素層
形成用ＩＴＯ電極付き基板を前記ミセル溶液に挿入し、
ストライプのＲ列群に接続された取出電極にポテンショ
スタットを接続した。０．５Ｖの定電位電解を行ない、
カラーフィルタＲの色素薄膜（色素層）を得た。純水で
洗浄後、オーブンにてプリベーク（１００℃）した。Ｇ
ではハロゲン化銅フタロシアニンを１５ｇ／リットル、
Ｂでは銅フタロシアニンを９ｇ／リットルの濃度に変え
たほかはＲの色素製膜と同じ条件で製膜し、ＲＧＢの色
素層を得た。最後に、電極取出窓口に塗布した銀ペース
トをアセトン中に浸漬して、超音波洗浄することにより
剥離し、乾燥した。

【００９３】平坦膜の形成（Ａ法）上記で作製した基板上に紫外線感光能を有するネガ型の
アクリル酸系レジスト剤（日本合成ゴム社製：ＪＮＰＣ
−０１）を３０ｃｃ滴下し、１５００ｒｐｍでスピンコ
ートし、基板上に均一な塗膜を形成した。この基板を８
０℃のオーブンに挿入して１５分間プリベークし、２ｋ
ｗの高圧水銀灯を光源とするコンタクト露光機（露光能
力１０ｍＷにセットした。平坦膜形成用マスクと基板と
のギャップを６０μｍとして、３００ｍＪ／ｃｍ²の露
光エネルギーで、露光部と未露光部の境界が基板の画素
部と基板の周縁部との間に位置するように露光し、０．
１２％トリメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡ
Ｈ）水溶液に浸漬し、室温下２分間現像を行ない、超純
水シャワーでリンス後、２００℃で６０分間ポストベー
クして、平坦膜を得た。

【００９４】色素層及び色素層形成用透明電極のエッチ
ング上記で作製した基板を、１Ｍ塩化第二鉄と０．１Ｎ硝酸
と０．１Ｎ硝酸セリウムの水溶液（エッチャント）中
で、５０℃で５分間超音波浸漬を行なった。エッチング
の終点は電気抵抗により測定した。その後、超純水スプ
レイでリンスし、基板を温風乾燥して、平坦膜周縁部よ
り外側にある色素層及び色素層形成用透明電極を完全に
取り除いた基板を得た。

【００９５】スクライビング及び面取上記基板をスクライビング装置（常陽工学技術研究所
製：ＪＫＬ−４５１Ｆ）にセットし、アライメントした
後、カッターで傷を付け、傷口に対し基板の裏面側から
圧力をかけることにより、電極取出部１０を切断した。
次に、切口をガラス両糸面取加工機（ユウコウ社製：Ｓ
Ｗ−３００ＤＰ−２）で摩耗することにより、鋭角部
分を丸めた。最後に、超純水スプレイでガラス粉等を洗
浄し、温風乾燥して、スクライビング及び面取を終え
た。

【００９６】研磨上記基板を純水で湿らせ、研磨機（ラップマスター社
製：ＬＬＣＦ７００）の上板（基板面）に設置した。一
方、下板（研磨面）には研磨クロスを敷き、研磨剤を
０．０５ｋｇ／ｃｍ²の圧力で合わせ、同方向に回転さ
せ、１５０ｍｍ揺動させつつ５分間平坦膜の研磨を行な
った。その際、基板面と研磨面の中心点とのギャップ
（オフセット）を初期設定値として１５ｍｍとり、研磨
中に５ｍｌの研磨剤を追加して滴下した。次いで、超純
水でリンスし、温風乾燥して研磨工程を終了した。

【００９７】液晶駆動用電極（後ＩＴＯ電極）の形成上記基板上にスパッタリング装置（アルバック社製：Ｓ
ＤＰ−５５０ＶＴ）を用いて、ＩＴＯ膜を約１３００オ
ングストロームスパッタリングした。このとき、カラー
フィルタ基板を１２０℃とし、水蒸気と酸素の導入によ
ってＩＴＯ膜の表面抵抗を２０Ω／□に調整した。こう
して、平面状の液晶駆動用電極を有するＴＦＴ用カラー
フィルタを得た。

【００９８】カラー液晶ディスプレイ（パネル）の作製上記で作製したカラーフィルタ基板の表面にポリアミッ
ク酸樹脂モノマーをスピンコートした。これを２５０℃
で１時間硬化させ、ポリイミド樹脂化した後、ラビング
を行なって配向させた。対極には駆動用電極基板として
ＴＦＴ駆動回路付きガラス基板を使用した。上記カラー
フィルタ基板とＴＦＴ駆動回路付きガラス基板との間
（液晶セル）にガラスビーズ、ＴＮ液晶の順に入れ、接
着剤にて封止し、カラー液晶ディスプレイ（パネル）を
完成させた。カラー液晶パネルにＦＰＣにドライバーＩ
Ｃを搭載した取り出し電極を接続し、偏光板を両面に接
着した後、ＴＦＴ駆動回路を作動させ、液晶の駆動を確
認した（表１）。

【００９９】次に、カラー液晶ディスプレイ作製前の平
面状の液晶駆動用電極を有するカラーフィルタ基板上
に、紫外線感光性レジスト剤（富士ハントエレクトロニ
クステクノロジー社製：ＨＰＲ２０４，ポジ型）を１，
５００ｒｐｍの回転速度でスピンコートした。スピンコ
ート後、１０５℃で３０分間プリベークを行ない、その
後、この基板をコンタクト露光機（露光能力：１０ｍｗ
／ｃｍ² ）にセットした。マスクは、線幅９２μｍ、ギ
ャップ１８μｍ、線長２０７ｍｍの縦ストライプパター
ンとした。光源は２ｋｗの高圧水銀灯を用いた。プロキ
シミティギャップ５０μｍをとり、アライメントした
後、１０秒間露光した後、アルカリ現像液（富士ハント
エレクトロニクステクノロジー社製：ＬＳＩ現像液）に
て室温で浸漬現像した。現像後、超純水にてリンスした
後、１２５℃で３０分間ポストベークした。次に、エッ
チャントとして１ＭＦｅＣｌ₃・１ＮＨＣｌ・０．
１ＮＨＮＯ₃・０．１ＮＣｅ（ＮＯ₃）₄の水溶液を
準備し、前記基板のＩＴＯ膜を５０℃で浸漬エッチング
してパターンを形成した。エッチングの終点は電気抵抗
により測定した。エッチングには約５分の時間を必要と
した。エッチング後、超純水でリンスし、レジストを強
アルカリ剥離剤（富士ハントエレクトロニクステクノロ
ジー社製：マイクロストリップ２００１）に９０℃で１
０分間浸漬して剥離し、超純水シャワーでリンス後、温
風乾燥した。こうして形成した液晶駆動用電極の断線本
数をプローバ検査により調べ、断線がないことを確認し
た（表１）。

【０１００】実施例２Ｂ法によって、平坦膜を形成し、平坦膜の研磨工程を省
略したこと以外は、実施例１と同様にして、カラー液晶
ディスプレイを作製し、液晶の駆動を確認した。な
お、Ｂ法による平坦膜の形成は次のようにして行なっ
た。色素層形成後の基板上に紫外線感光能を有するネガ
型のアクリル酸系レジスト剤（日本合成ゴム社製：ＪＮ
ＰＣ−０１）を３０ｃｃ滴下し、１５００ｒｐｍでスピ
ンコートし、基板上に均一な塗膜を形成する。この基板
を８０℃のオーブンに挿入して１５分間プリベークし、
２ｋｗの高圧水銀灯を光源とするコンタクト露光機（露
光能力１０ｍＷ）にセットする。平坦膜形成用マスクと
基板とのギャップを２００μｍとして、４００ｍＪ／ｃ
ｍ²の露光エネルギーで、露光部と未露光部の境界が基
板の画素部と基板の周縁部との間に位置するように露光
し、０．１２％トリメチルアンモニウムヒドロキシド
（ＴＭＡＨ）水溶液に浸漬し、室温下２分間現像を行な
い、超純水シャワーでリンス後、２００℃で６０分間ポ
ストベークして、平坦膜を得る。

【０１０１】また、Ｂ法によって平坦膜を形成し、平坦
膜の研磨工程を省略したこと以外は、実施例１と同様に
して、平面状の液晶駆動用電極をパターンニングしたカ
ラーフィルタを作製し、パターンニングされた液晶駆動
用ＩＴＯ電極液晶の断線評価を行なった。その結果、断
線がないことが確認された。

【０１０２】実施例３Ｃ法によって、平坦膜を形成し、平坦膜の研磨工程を省
略したこと以外は、実施例１と同様にして、カラー液晶
ディスプレイを作製し、液晶の駆動を確認した。な
お、Ｃ法による平坦膜の形成は次のようにして行なっ
た。色素層形成後の基板上に熱硬化性樹脂オリゴマー
（日本合成ゴム社製：ＪＳＳ７２６５，アクリル酸−シ
ロキサン樹脂系）をオフセット印刷機（日本写真印刷社
製：オングストローマー）で凸版と凹版の境界部が基板
の画素部と基板の周縁部との間に位置するように位置合
わせして印刷した後、８０℃のオーブンに挿入して５分
間プリベークし、さらに、１８０℃で６０分間ポストベ
ークすることにより平坦膜を得る。また、Ｃ法によって
平坦膜を形成したこと以外は、実施例１と同様にして、
平面状の液晶駆動用電極をパターンニングしたカラーフ
ィルタを作製し、パターンニングされた液晶駆動用ＩＴ
Ｏ電極液晶の断線評価を行なった。その結果、断線がな
いことが確認された。

【０１０３】実施例４下記手順によってカラーフィルタ（ＭＩＮ，ＳＴＮ駆動
用）及びカラー液晶パネルを製造した。

【０１０４】色素層形成用電極の形成青板ガラス基板（松崎真空社製：ソーダライムガラス，
３００ｍｍ角）上にスパッタリング装置（アルバック社
製：ＳＤＰ−５５０ＶＴ）を用いて、ＩＴＯ薄膜を約１
３００オングストロームスパッタした。このとき、ワー
クを２５０℃にしてＩＴＯ膜の表面抵抗を２０Ω／□に
調製した。この基板上に紫外線硬化型レジスト剤（富士
ハントエレクトロニクステクノロジー社製：ＨＰＲ２０
４，ポジ型）を１，５００ｒｐｍの回転速度でスピンコ
ートした。スピンコート後、１０５℃で３０分間プリベ
ークを行ない、その後、この基板をコンタクト露光機
（露光能力：１０ｍＷ／ｃｍ²）にセットした。マスク
は、線幅９２μm 、ギャップ１８μｍ、線長２３４ｍｍ
の縦ストライプパターンとした。光源は２ｋｗの高圧水
銀灯を用いた。プロキシミティギャップ６０μｍをと
り、１０秒間露光した後、アルカリ現像液（富士ハント
エレクトロニクステクノロジー社製：ＬＳＩ現像液）に
て室温で浸漬現像した。現像後、超純水にてリンスして
から、１２５℃で３０分間ポストベークした。次に、エ
ッチャントとして１Ｍ塩化第二鉄（ＦｅＣｌ₃）・１Ｎ
塩酸（ＨＣｌ）・０．１Ｎ硝酸（ＨＮＯ₃）・０．１Ｎ
硝酸セリウム（Ｃｅ（ＮＯ₃）₄）の水溶液（５０℃）を
準備し、前記基板上のＩＴＯ薄膜をエッチングによりパ
ターンニングして色素層形成用電極を形成した。エッチ
ングの終点は電気抵抗により測定した。前記エッチング
には約５分の時間を必要とした。エッチング後、超純水
でリンスし、レジストを強アルカリ剥離剤（富士ハント
エレクトロニクステクノロジー社製：マイクロストリッ
プ２００１）に９０℃で１０分間浸漬してレジストを剥
離した。さらに、超純水シャワーで充分にリンスし、温
風乾燥後、ＩＴＯ電極の隣接同志の電気的リークがない
ことをプローブ検査で確認し、ＩＴＯ電極（色素層形成
用電極）付き基板を完成した。

【０１０５】レジストブラックマトリックス及び電極取
出窓口の形成顔料含有アクリル系レジスト剤（富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー社製；カラーモザイクＣＲ：ＣＧ：
ＣＢ：ＣＫの１：１：１：１の混合物）をブラックマト
リックス及び電極取出部形成用レジスト剤として用い
た。上記で作成した基板上に前記レジストを５００ｒｐ
ｍでスピンコートし、基板上に均一にコートした。この
基板を８５℃で１５分間プリベークを行ない、さらに、
ポリビニルアルコール水溶液を同様に塗布し、プリベー
クを行なった。この基板を２ｋｗの高圧水銀灯を光源と
するアライメント機能のあるコンタクト露光機にセット
し、ブラックマトリックス及び電極取出部形成用のデザ
インマスクを用いて位置合せ後露光した。その後、０．
１Ｎの炭酸ナトリウム水溶液で室温下１分間浸漬現像
し、さらに、超純水スプレイでリンスし、２００℃で３
０分間ポストベークすることによって、ブラックマトリ
ックス及び電極取出部１０を同時形成した。次に、銀ペ
ースト（徳力化学社製：Ｐ−２８０）をディスペンサー
を用いて電極取出窓口に塗布し、電極の赤（Ｒ）列、青
（Ｂ）列、緑（Ｇ）列を接続した後、１００℃で１５分
間ベークして、銀ペーストの塗布を終えた。

【０１０６】三原色色素層の形成実施例１と同様にしてＲＧＢの色素層を得た。

【０１０７】平坦膜の形成（Ａ法）上記で作製した基板上に紫外線感光能を有するポジ型の
アクリル系レジスト剤（日本合成ゴム社製：ＨＲＣ−０
０１）を３０ｃｃ滴下し、１５００ｒｐｍでスピンコー
トし、基板上に均一な塗膜を形成した。この基板を８０
℃のオーブンに挿入して１５分間プリベークし、２ｋｗ
の高圧水銀灯を光源とするコンタクト露光機（露光能力
１０ｍＷにセットした。平坦膜形成用マスクと基板との
ギャップを６０μｍとして、２００ｍＪ／ｃｍ²の露光
エネルギーで、露光部と未露光部の境界が基板の画素部
と基板の周縁部との間に位置するように露光し、０．１
２％トリメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）
水溶液に浸漬し、室温下２分間現像を行ない、超純水シ
ャワーでリンス後、２００ｍＪ／ｃｍ²で後露光してか
ら、２００℃で６０分間ポストベークして、平坦膜を得
た。

【０１０８】色素層及び色素層形成用透明電極のエッチ
ング実施例１と同様にして行なった。

【０１０９】スクライビング及び面取実施例１と同様にして行なった。

【０１１０】研磨実施例１と同様にして行なった。

【０１１１】液晶駆動用電極（後ＩＴＯ電極）の形成上記基板上にスパッタリング装置（アルバック社製：Ｓ
ＤＰ−５５０ＶＴ）を用いて、ＩＴＯ膜を約１３００オ
ングストロームスパッタリングした。このとき、カラー
フィルタ基板を１２０℃とし、水蒸気と酸素の導入によ
ってＩＴＯ膜の表面抵抗を２０Ω／□に調整した。その
後、上記基板上に、紫外線感光性レジスト剤（富士ハン
トエレクトロニクステクノロジー社製：ＨＰＲ２０４，
ポジ型）を１，５００ｒｐｍの回転速度でスピンコート
した。スピンコート後、１０５℃で３０分間プリベーク
を行ない、その後、この基板をコンタクト露光機（露光
能力：１０ｍｗ／ｃｍ² ）にセットした。マスクは、線
幅９２μｍ、ギャップ１８μｍ、線長２０７ｍｍの縦ス
トライプパターンとした。光源は２ｋｗの高圧水銀灯を
用いた。プロキシミティギャップ５０μｍをとり、アラ
イメントした後、１０秒間露光した後、アルカリ現像液
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製：ＬＳ
Ｉ現像液）にて室温で浸漬現像した。現像後、超純水に
てリンスした後、１２５℃で３０分間ポストベークし
た。次に、エッチャントとして１ＭＦｅＣｌ₃・１Ｎ
ＨＣｌ・０．１ＮＨＮＯ₃・０．１ＮＣｅ（Ｎ
Ｏ₃）₄の水溶液を準備し、前記基板のＩＴＯ膜を５０℃
で浸漬エッチングしてパターンを形成した。エッチング
の終点は電気抵抗により測定した。エッチングには約５
分の時間を必要とした。エッチング後、超純水でリンス
し、レジストを強アルカリ剥離剤（富士ハントエレクト
ロニクステクノロジー社製：マイクロストリップ２００
１）に９０℃で１０分間浸漬して剥離し、超純水シャワ
ーでリンス後、温風乾燥した。こうして、パターンニン
グされた液晶駆動用電極を有するＭＩＮ又はＳＴＮ用カ
ラーフィルタを得た。次いで、上記のようにして形成し
た液晶駆動用電極の断線本数をプローバ検査により調
べ、断線がないことを確認した（表１）。

【０１１２】カラー液晶ディスプレイ（パネル）の作製上記で作製したカラーフィルタ基板の表面にポリアミッ
ク酸樹脂モノマーをスピンコートした。これを２５０℃
で１時間硬化させ、ポリイミド樹脂化した後、ラビング
を行なって配向させた。対極には駆動用電極基板として
ＭＩＮ駆動回路付きガラス基板及びＳＴＮ駆動用ＩＴＯ
パターンニング（縦ストライプ）ガラス基板を使用し
た。上記カラーフィルタ基板とＭＩＮ又はＳＴＮ駆動用
ガラス基板との間（液晶セル）にガラスビーズ、ＴＮ液
晶の順に入れ、接着剤にて封止し、カラー液晶ディスプ
レイ（パネル）を完成させた。カラー液晶パネルに、Ｆ
ＰＣにドライバーＩＣを搭載した取り出し電極を接続
し、偏光板を両面に接着した後、ＭＩＮ又はＳＴＮ駆動
回路を作動させ、いずれについても液晶の駆動を確認し
た（表１）。

【０１１３】実施例５平坦膜の形成（Ａ法）実施例１と同様にして色素層まで順次形成した基板を作
製した。上記で作製した基板上に遠紫外線感光能を有す
るポジ型のアクリル系レジスト剤（東京応化社製：ＣＦ
ＧＲ，ポジ型，アクリル系）を３０ｃｃ滴下し、１５０
０ｒｐｍでスピンコートし、基板上に均一な塗膜を形成
した。この基板を１７０℃のオーブンに挿入して１５分
間プリベークし、２ｋｗの高圧キセノン灯（２５３ｎ
ｍ）を光源とするコンタクト露光機（露光能力１０ｍ
Ｗ）にセットした。平坦膜形成用のマスク（石英製）と
基板とのギャップを６０μｍとして、３００ｍＪ／ｃｍ
²の露光エネルギーで、露光部と未露光部の境界が基板
の画素部と基板の周縁部との間に位置するように露光
し、プロピレングリコールモノメチルエーテルに浸漬
し、室温下で２分間現像を行ない、メチルイソブチルケ
トンに浸漬してリンス後、２００℃で６０分間ポストベ
ークして、平坦膜を得た。

【０１１４】スクライビング及び面取実施例１と同様にして行なった。

【０１１５】研磨実施例１と同様にして行なった。

【０１１６】液晶駆動用電極の形成及び色素層及び色素
層形成用透明電極の同時エッチング上記基板上にスパッタリング装置（アルバック社製：Ｓ
ＤＰ−５５０ＶＴ）を用いて、ＩＴＯ膜を約１３００オ
ングストロームスパッタリングした。このとき、カラー
フィルタ基板を１２０℃とし、水蒸気と酸素の導入によ
ってＩＴＯ膜の表面抵抗を２０Ω／□に調整した。その
後、上記基板上に、紫外線感光性レジスト剤（富士ハン
トエレクトロニクステクノロジー社製：ＨＰＲ２０４，
ポジ型）を１，５００ｒｐｍの回転速度でスピンコート
した。スピンコート後、１０５℃で３０分間プリベーク
を行ない、その後、この基板をコンタクト露光機（露光
能力：１０ｍｗ／ｃｍ² ）にセットした。マスクは、線
幅３１２μｍ、ギャップ１８μｍ、線長２６０ｍｍの横
ストライプパターンとした。光源は２ｋｗの高圧水銀灯
を用いた。プロキシミティギャップ５０μｍをとり、ア
ライメントした後、１０秒間露光した後、アルカリ現像
液（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製：Ｌ
ＳＩ現像液）にて室温で浸漬現像した。現像後、超純水
にてリンスした後、１２５℃で３０分間ポストベークし
た。次に、エッチャントとして１ＭＦｅＣｌ₃・１Ｎ
ＨＣｌ・０．１ＮＨＮＯ₃・０．１ＮＣｅ（Ｎ
Ｏ₃）₄の水溶液を準備し、前記基板のＩＴＯ膜及び色素
層・色素層形成用透明電極を５０℃で浸漬エッチングし
てＩＴＯ膜のパターンを行なうとともに、平坦膜周縁部
より外側にある色素層・色素層形成用透明電極をエッチ
ングにより除去した。液晶駆動用ＩＴＯ電極のエッチン
グの終点は電気抵抗により測定した。エッチングには約
１０分の時間を必要とした。エッチング後、超純水でリ
ンスし、レジストを強アルカリ剥離剤（富士ハントエレ
クトロニクステクノロジー社製：マイクロストリップ２
００１）に９０℃で１０分間浸漬して剥離し、超純水シ
ャワーでリンス後、温風乾燥した。こうして、パターン
ニングされた液晶駆動用電極を有するＭＩＮ又はＳＴＮ
用カラーフィルタを得た。次いで、上記のようにして形
成した液晶駆動用電極の断線本数をプローバ検査により
調べ、断線がないことを確認した（表１）。

【０１１７】カラー液晶ディスプレイ（パネル）の作製実施例４と同様にしてカラー液晶ディスプレイ（パネ
ル）を作製し、ＭＩＮ又はＳＴＮ駆動回路を作動させ、
いずれについても液晶の駆動を確認した（表１）。

【０１１８】比較例１実施例１において、平坦膜を基板全面に形成し、色素層
・色素層形成用透明電極をエッチング及び平坦膜の研磨
工程を省略したこと以外は、実施例１と同様にして操作
を行なったが、液晶の封入が不十分で、カラー液晶ディ
スプレイを作製できなかった。また、実施例１と同様に
して、液晶駆動用電極の断線本数をプローバ検査により
調べたところ、２５１本の断線が確認された（表１）。

【０１１９】比較例２実施例１において、色素層・色素層形成用透明電極をエ
ッチングを行なわなかったこと以外は、実施例１と同様
にして操作を行なったが、液晶の封入が不十分で、カラ
ー液晶ディスプレイを作製できなかった。また、実施例
１と同様にして、液晶駆動用電極の断線本数をプローバ
検査により調べたところ、４５１本の断線が確認された
（表１）。

【０１２０】比較例３実施例１において、平坦膜の研磨工程を省略したこと以
外は、実施例１と同様にして操作を行なった。その結
果、カラー液晶ディスプレイを作製することはできた。
しかし、実施例１と同様にして、液晶駆動用電極の断線
本数をプローバ検査により調べたところ、１５０本の断
線が確認された（表１）。［以下、余白］

【０１２１】表１断線本数（本）カラー液晶ディスプレイの作製の可否実施例１０可実施例２０可実施例３０可実施例４０可実施例５０可比較例１２５１否比較例２４５１否比較例３１５０可

【０１２２】表１から明らかなように、基板の画素部と
基板の周縁部との間に、色素層、色素層形成用透明電極
及び平坦膜の周縁部が位置しない場合（比較例１）に
は、液晶駆動用電極とその下層の平坦膜との接着性が悪
く、プローブ検査時に液晶駆動用透明電極が破壊され、
液晶駆動用透明電極に断線が生じる。また、平坦膜周縁
部より外側にある色素層・色素層形成用透明電極をエッ
チングにより除去しない場合（比較例２）、及び平坦膜
周縁部の断面形状に傾斜がない場合（比較例３）には、
平坦膜周縁部の急激な段差のため液晶駆動用透明電極に
断線が生じる。さらに、色素層・色素層形成用透明電極
をエッチングにより除去しない場合（比較例１，２）に
は、カラーフィルタと駆動用基板とを接着剤を用いて張
り合わせて、液晶ディスプレイの組み立てる際に、接着
が不十分となり、カラーフィルタと駆動用基板のギャッ
プ制御や液晶封入に大きな障害が起こり、カラー液晶デ
ィスプレイの作製が不可能となる。

【０１２３】以上のことから、基板の画素部と基板の周
縁部との間に、色素層、色素層形成用透明電極及び平坦
膜周縁部を位置させること、色素層・色素層形成用透明
電極をエッチングにより除去すること、及び平坦膜周縁
部に傾斜をもたせることがカラー液晶ディスプレイの生
産効率の向上に不可欠であることがわかる。

【０１２４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のカラーフ
ィルタ及びその製造方法によれば、カラーフィルタ基板
と駆動用電極基板との接着性が十分であるとともにプロ
ーブ検査時に液晶駆動用電極が破壊することがなく、し
たがって、生産効率（歩留り）の向上を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラーフィルタの一構成例を示す図で
あり、図１（ａ）は平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）の
Ａ−Ａ線断面図、図１（ｃ）は図１（ａ）のＢ−Ｂ線断
図をそれぞれ示す。

【図２】本発明のカラーフィルタの他の構成例を示す図
であり、図２（ａ）は平面図、図２（ｂ）は図２（ａ）
のＡ−Ａ線断面図、図２（ｃ）は図２（ａ）のＢ−Ｂ線
断図をそれぞれ示す。

【図３】本発明のカラーフィルタの製造方法の一具体例
を示すフロー図である。

【図４】本発明のカラーフィルタの製造方法の他の具体
例を示すフロー図である。

【図５】カラー液晶ディスプレイの組立て工程を示す工
程図である。

【図６】従来のカラー液晶ディスプレイを示す断面図で
ある。

【図７】従来のカラーフィルタの一構成例を示す図であ
り、図７（ａ）は平面図、図７（ｂ）は図７（ａ）のＡ
−Ａ線断面図、図７（ｃ）は図７（ａ）のＢ−Ｂ線断図
をそれぞれ示す。

【図８】従来のカラーフィルタの他の構成例を示す図で
あり、図８（ａ）は平面図、図８（ｂ）は図８（ａ）の
Ａ−Ａ線断面図、図８（ｃ）は図８（ａ）のＢ−Ｂ線断
図をそれぞれ示す。

【符号の説明】

１…絶縁性基板２…ブラックマトリックス３…絶縁膜４…色素層形成用透明電極５…色素層６…平坦膜７…液晶駆動用透明電極１０…電極取出部２０…駆動用基板３０…液晶４０…封止剤

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】絶縁性基板上に、ブラックマトリック
ス、色素層形成用透明電極、ミセル電解法で作製した色
素層及び平坦膜を形成してなるカラーフィルタにおい
て、基板の画素部と基板の周縁部との間に、色素層形成
用透明電極、色素層及び平坦膜の周縁部を位置せしめた
ことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項２】絶縁性基板上に、ブラックマトリック
ス、絶縁膜、色素層形成用透明電極、ミセル電解法で作
製した色素層、平坦膜、液晶駆動用透明電極を順次積層
してなるカラーフィルタにおいて、基板の画素部と基板
の周縁部との間に、色素層形成用透明電極、色素層及び
平坦膜の周縁部を位置せしめたことを特徴とするカラー
フィルタ。
【請求項３】絶縁性基板上に、色素層形成用透明電
極、ブラックマトリックス、ミセル電解法で作製した色
素層、平坦膜、液晶駆動用透明電極を順次積層してなる
カラーフィルタにおいて、基板の画素部と基板の周縁部
との間に、色素層形成用透明電極、色素層及び平坦膜の
周縁部を位置せしめたことを特徴とするカラーフィル
タ。
【請求項４】平坦膜の周縁部の断面形状が傾斜してい
ることを特徴とする請求項１，２又は３記載のカラーフ
ィルタ。
【請求項５】絶縁性基板上に、ブラックマトリック
ス、絶縁膜、色素層形成用透明電極、ミセル電解法で作
製した色素層、基板周縁部を避けて形成した平坦膜を順
次積層して形成した後、平坦膜周縁部より外側にある色
素層形成用透明電極及び色素層をエッチングにより除去
することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】絶縁性基板上に、色素層形成用透明電
極、ブラックマトリックス、ミセル電解法で作製した色
素層、基板周縁部を避けて形成した平坦膜を順次積層し
て形成した後、平坦膜周縁部より外側にある色素層形成
用透明電極及び色素層をエッチングにより除去すること
を特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】絶縁性基板上に、ブラックマトリック
ス、絶縁膜、色素層形成用透明電極、ミセル電解法で作
製した色素層、基板周縁部を避けて形成した平坦膜を順
次積層して形成した後、エッチングによって、平坦膜周
縁部より外側にある色素層形成用透明電極及び色素層の
除去と、液晶駆動用透明電極のパターンニングを同時に
行なうことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】絶縁性基板上に、色素層形成用透明電
極、ブラックマトリックス、ミセル電解法で作製した色
素層、基板周縁部を避けて形成した平坦膜を順次積層し
て形成した後、エッチングによって、平坦膜周縁部より
外側にある色素層形成用透明電極及び色素層の除去と、
液晶駆動用透明電極のパターンニングを同時に行なうこ
とを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】絶縁性基板上に、ブラックマトリック
ス、絶縁膜、色素層形成用透明電極、ミセル電解法で作
製した色素層を順次積層した基板上に、紫外線感光能お
よび／または遠紫外線感光能をもつ透明レジストをスピ
ンコーターあるいはロールコーターにより塗布し、マス
クを用いて露光部と未露光部の境界が基板の画素部と基
板の周縁部との間に位置するように露光し、該レジスト
を現像してパターニング後熱硬化して、基板周縁部を避
けて平坦膜を形成し、さらに基板の中心点と研磨面の中
心点とのギャップをとって各々を回転させて研磨するこ
とにより平坦膜の周縁部を傾斜させることを特徴とする
請求項５又は７記載のカラーフィルタの製造法。
【請求項１０】絶縁性基板上に、色素層形成用透明電
極、ブラックマトリックス、ミセル電解法で作製した色
素層を順次積層した基板上に、紫外線感光能および／ま
たは遠紫外線感光能をもつ透明レジストをスピンコータ
ーあるいはロールコーターにより塗布し、マスクを用い
て露光部と未露光部の境界が基板の画素部と基板の周縁
部との間に位置するように露光し、該レジストを現像し
てパターニング後、熱硬化して基板周縁部を避けて平坦
膜を形成し、さらに基板の中心点と研磨面の中心点との
ギャップをとって各々を回転させて研磨することにより
平坦膜の周縁部を傾斜させることを特徴とする請求項６
又は８記載のカラーフィルタの製造法。
【請求項１１】絶縁性基板上に、ブラックマトリック
ス、絶縁膜、色素層形成用透明電極、ミセル電解法で作
製した色素層を順次積層した基板上に、紫外線および／
または遠紫外線感光能をもつ透明レジストをスピンコー
ターあるいはロールコーターにより塗布し、該レジスト
塗布基板とマスクとのギャップを１００μｍ以上に保ち
つつ、マスクを用いて露光部と未露光部の境界が基板の
画素部と基板の周縁部との間に位置するように露光し、
現像してパターニング後熱硬化して、基板周縁部を避け
て平坦膜を形成するとともに平坦膜の周縁部を傾斜させ
ることを特徴とする請求項５又は７記載のカラーフィル
タの製造法。
【請求項１２】絶縁性基板上に、色素層形成用透明電
極、ブラックマトリックス、ミセル電解法で作製した色
素層を順次積層した基板上に、紫外線および／または遠
紫外線感光能をもつ透明レジストをスピンコーターある
いはロールコーターにより塗布し、該レジスト塗布基板
とマスクとのギャップを１００μｍ以上に保ちつつ、マ
スクを用いて露光部と未露光部の境界が基板の画素部と
基板の周縁部との間に位置するように露光し、現像して
パターニング後熱硬化して、基板周縁部を避けて平坦膜
を形成するとともに平坦膜の周縁部を傾斜させることを
特徴とする請求項６又は８記載のカラーフィルタの製造
法。
【請求項１３】絶縁性基板上に、ブラックマトリック
ス、絶縁膜、色素層形成用透明電極、ミセル電解法で作
製した色素層を順次積層した基板上に、透明な熱硬化性
樹脂をオフセット印刷機を用い凸版と凹版の境界部が、
基板の画素部と基板の周縁部との間に位置するように印
刷し、これを熱硬化して平坦膜を形成し、さらに基板の
中心点と研磨面の中心点とのギャップをとって各々を回
転させて研磨することにより、平坦膜の周縁部が傾斜し
たカラーフィルタを製造することを特徴とする請求項５
又は７記載のカラーフィルタの製造法。
【請求項１４】絶縁性基板上に、色素層形成用透明電
極、ブラックマトリックス、ミセル電解法で作製した色
素層を順次積層した基板上に、透明な熱硬化性樹脂をオ
フセット印刷機を用い凸版と凹版の境界部が、基板の画
素部と基板の周縁部との間に位置するように印刷し、こ
れを熱硬化して平坦膜を形成し、さらに基板の中心点と
研磨面の中心点とのギャップをとって各々を回転させて
研磨することにより、平坦膜の周縁部が傾斜したカラー
フィルタを製造することを特徴とする請求項６又は８記
載のカラーフィルタの製造法。
【請求項１５】請求項１，２，３，又は４記載のカラ
ーフィルタと、液晶駆動用電極基板と、これらの間に封
入した液晶からなることを特徴とするカラー液晶ディス
プレイ。