JPH0516172B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0516172B2 JPH0516172B2 JP59010083A JP1008384A JPH0516172B2 JP H0516172 B2 JPH0516172 B2 JP H0516172B2 JP 59010083 A JP59010083 A JP 59010083A JP 1008384 A JP1008384 A JP 1008384A JP H0516172 B2 JPH0516172 B2 JP H0516172B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processed
- plasma
- air
- substrate
- core solenoid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H10P50/00—
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59010083A JPS60154620A (ja) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | マイクロ波プラズマ処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59010083A JPS60154620A (ja) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | マイクロ波プラズマ処理方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60154620A JPS60154620A (ja) | 1985-08-14 |
| JPH0516172B2 true JPH0516172B2 (enExample) | 1993-03-03 |
Family
ID=11740450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59010083A Granted JPS60154620A (ja) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | マイクロ波プラズマ処理方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60154620A (enExample) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2511433B2 (ja) * | 1986-12-12 | 1996-06-26 | 株式会社日立製作所 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
| EP0273741B1 (en) * | 1986-12-29 | 1991-10-23 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Plasma apparatus |
| JPS63207131A (ja) * | 1987-02-24 | 1988-08-26 | Japan Steel Works Ltd:The | プラズマ処理装置 |
| JP2656503B2 (ja) * | 1987-09-24 | 1997-09-24 | 株式会社日立製作所 | マイクロ波プラズマ処理方法 |
| JP2595640B2 (ja) * | 1988-03-30 | 1997-04-02 | 株式会社島津製作所 | プラズマ処理装置 |
| JPH0567586A (ja) * | 1991-09-09 | 1993-03-19 | Nec Corp | Ecrプラズマエツチング装置 |
| JP2781712B2 (ja) * | 1993-03-18 | 1998-07-30 | 株式会社日立製作所 | プラズマ処理方法 |
| JP3199957B2 (ja) | 1994-06-20 | 2001-08-20 | 株式会社日立製作所 | マイクロ波プラズマ処理方法 |
| JP2714547B2 (ja) * | 1995-12-13 | 1998-02-16 | 株式会社日立製作所 | マイクロ波プラズマ処理装置及び処理方法 |
-
1984
- 1984-01-25 JP JP59010083A patent/JPS60154620A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60154620A (ja) | 1985-08-14 |
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