JPH05157527A - 2次元又は3次元形状測定装置 - Google Patents

2次元又は3次元形状測定装置

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JPH05157527A
JPH05157527A JP32483491A JP32483491A JPH05157527A JP H05157527 A JPH05157527 A JP H05157527A JP 32483491 A JP32483491 A JP 32483491A JP 32483491 A JP32483491 A JP 32483491A JP H05157527 A JPH05157527 A JP H05157527A
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JP
Japan
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light
dimensional
detected
pulse
optical
Prior art date
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Pending
Application number
JP32483491A
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English (en)
Inventor
Kiyoshi Inoue
潔 井上
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INR Kenkyusho KK
Original Assignee
INR Kenkyusho KK
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Publication date
Application filed by INR Kenkyusho KK filed Critical INR Kenkyusho KK
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 反射光を利用する測定において、反射面の傾
き等による影響が少なく測定誤差の少ない精密測定がで
きるように改良する。 【構成】 物体の表面(S0,S1) に光ビームを照射しその
反射波を検出して物体の2次元又は3次元形状を測定す
る装置に於いて、上記光ビームを1ns〜1psの短い
時間のパルスで照射する光源(1) と、上記光源によって
照射した光の反射波と照射波との時間差を検出する光位
置検出器(7) を設けると共に、上記光源によってパルス
照射してからnsオーダー範囲の一定時間経過後の上記
光位置検出器の検出信号のみを演算処理する演算処理装
置(8,9) を設けて成ることを特徴とする。 【効果】 1ns以下psオーダーでパルス照射してか
らnsオーダー範囲の一定時間経過後の反射光を検出し
演算処理して形状測定するようにしたから、光の2次、
3次反射による残光をカットすることができ、反射面の
傾き、凹凸等による影響を少なくし測定誤差をなくした
S/N比の高い精密測定をすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は物体の2次元又は3次元
形状を測定する光学的測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、2次元又は3次元形状の測定方法
として、物体に光ビームを照射し、その反射光の光スポ
ットの位置の変化を光位置検出器PSDやCCDで検出
して、三角測量法により物体の形状を測定する方式のも
のが知られている。
【0003】即ち、図3に示す如く、反射面Sの変位x
により光位置検出器上の反射スポットはyだけ移動する
ので、このyを検出してこれから変位xを求めるのが三
角法の原理である。この場合、投光系と受光系とがZ軸
光学系を形成しているために、反射面の傾き方向及び形
状等による影響が大きくなり、これが測定誤差として現
れる欠点がある。例えば図4に示すように測定面が傾斜
するS4 面とそれに続く水平面S5 より成っている場
合、照射ビームL0 が斜面S4 の点P1 に当たったとき
の反射光L1 はラインセンサのy1 位置に検出される
が、このときP1 点の反射光が水平面S5 に当たって2
次反射した光L2 はセンサのy2 位置に検出される。し
たがってこのときのセンサ上の光スポット位置はy1
2 の中間位置にあるよう検出処理されることになり、
点y1 からずれた位置を検出してしまうことになる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の如く反
射光を利用し三角測量法により物体の形状を測定する装
置において、反射面の傾き等による影響が少なく測定誤
差の少ない精密測定ができるよう改良することを目的と
するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、物体の表
面に光ビームを照射しその反射波を検出して物体の2次
元又は3次元形状を測定する装置に於いて、上記光ビー
ムを1ns〜1psの短い時間のパルスで照射する光源
と、上記光源によって照射した光の反射波と照射波との
時間差を検出する光位置検出器を設けると共に、上記光
源によってパルス照射してからnsオーダー範囲の一定
時間経過後の上記光位置検出器の検出信号のみを演算処
理する演算処理装置を設けて成ることを特徴とする2次
元又は3次元形状測定装置によって達成できる。
【0006】
【作用】上記のように本発明は照射光として1ns以下
psオーダーでパルス照射する光源を設けて、そのパル
ス照射してからnsオーダー範囲の一定時間経過後の反
射光を検出し演算処理して位置検出するようにしたか
ら、光の2次、3次反射による残光をカットすることが
できる。したがって反射面の傾き、凹凸等による影響を
少なくし測定誤差をなくしたS/N比の高い精密測定を
することができるものである。
【0007】
【実施例】以下図面の一実施例により本発明を説明す
る。図1において、1はレーザー発振器で、駆動回路2
の駆動制御により、パルス発振出力する。3は非線形光
学結晶で入射レーザー光のパルス幅を圧縮しpsオーダ
ーの微小パルスに変換する。4はハーフミラー、5は対
物レンズで、これにより測定面S0 に照射する。6は投
光軸と異なる光軸に設けた受光レンズで、この受光スポ
ットを光位置検出器7に当てて位置検出する。8はスポ
ットの移動によって生ずる電気信号を入力しデジタル信
号に変換して一旦メモリし、そのメモリを読み出しなが
らリニア補正や平均処理などデータ処理をして位置の測
定結果を出力する演算処理装置、9はハーフミラー4か
らのパルスを入力し、一定時間遅れ後のタイミングパル
スを出力するタイマで、タイミングパルスを上記演算処
理装置8に入力しタイミング作動させるものである。
【0008】レーザー発振器1で発振するパルスレーザ
ーはその波長がnsオーダーでも非線形光学結晶3を通
すことによってパルスが位相変調を受けてpsオーダー
に圧縮されパルス幅の非常に狭いパルスレーザー光を出
力することができる。このレーザービームはレンズ5を
通して測定面S0 を照射し、反射光はレンズ6を通して
光位置検出器7に受光される。光位置検出器7上を光ス
ポット移動することによって生じる電気信号を検出し、
三角測量法の原理により、測定面の位置検出をするが、
上記照射光が途中ハーフミラー4で分けられた信号がタ
イマ9に入射し、所定時間遅れのタイミングパルスを出
力する。このタイミング時間の設定は光源からパルスレ
ーザーを照射し測定面S0 で反射した光が検出器7で検
出される時間を設定する。例えば実験では50psのパル
ス光を発生したとき420mm の位置でそれを検出(照射距
離210mm +反射距離210mm)したとき、図2に示すように
150ps で反射光の最大強度を検出した。したがって、こ
の場合タイマ9から150psのタイミングでパルス信号を
演算処理装置8に加える。演算処理装置8は上記タイマ
9からのタイミング信号でCPUが作動し光位置検出器
7の検出信号をメモリする。即ち上記の場合、光照射し
てから150ps のタイミングでメモリし、更に光位置検出
器7 には約500 〜800ps の残光が検出されるが、これは
メモリに記憶されないように処理される。したがって図
4のような場合に測定面S4 が傾斜等して他の平面S5
に2次、3次反射を繰り返しながら検出器7に入射する
散乱光L2 等はそれをカットして検出しないようにし、
測定面S4 からの1次反射光L 1 のみを検出することが
できる。次に測定面S1 になったときは反射光は点線で
あり、このときもレーザ照射光はpsの微小パルス幅の
パルスレーザーが照射され、タイマ9から所定時間遅れ
のタイミング信号が演算処理8に供給され所要タイミン
グの光位置検出器7の検出信号がメモリされる。このよ
うにして連続して3次元形状を反射光で検出しメモリし
たデータを順次マルチプレクサによって選択しながらリ
ニア補正や平均処理することによって、正確な測定値を
出力することができる。
【0009】このようにpsオーダーのパルスレーザー
を用いてその反射光を伝播時間に合わせて検出し、他の
2次、3次反射してくる残光をカットすることによって
測定面照射点から直接反射してくる光のみを検出するこ
とができるから形状測定が極めて高精度に正確に測定で
きるようになる。
【0010】尚レーザービームの照射、反射による測定
距離は、1nsの光の場合、光の伝播特性から最低でも
約30cmの距離があれば充分に判別でき、これがpsオー
ダーの光を用いることによって更に高分解能をもって検
出することができる。勿論参照するパルス光によって測
定距離が長ければそれに応じてパルス幅を長くすること
ができる。
【0011】
【発明の効果】以上のように本発明は照射光として1n
s以下psオーダーのパルス照射をする光源を設け、そ
のパルス照射してから光の伝播時間に対応したnsオー
ダー範囲の一定時間経過後の反射光を検出し、演算処理
して位置検出をするようにしたから、光の2次3次反射
による残光をカットすることができ、測定面の光照射ス
ポットからの1次反射光のみを検出でき、したがって測
定面の傾き、凹凸等による影響を少なくし測定誤差をな
くしたS/N比の高い精密測定をすることができる効果
がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る形状測定装置の一実施例の構成図
である。
【図2】光の伝播特性の説明図である。
【図3】従来の測定法の説明図である。
【図4】従来の測定法の説明図である。
【符号の説明】
1 レーザー発振器 2 駆動回路 3 非線形光学結晶 4 ハーフミラー 5,6 レンズ 7 光位置検出器 8 演算処理装置 9 タイマー S0 1 測定面

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 物体の表面(S0,S1) に光ビームを照射し
    その反射波を検出して物体の2次元又は3次元形状を測
    定する装置に於いて、上記光ビームを1ns〜1psの
    短い時間のパルスで照射する光源(1) と、上記光源によ
    って照射した光の反射波と照射波との時間差を検出する
    光位置検出器(7) を設けると共に、上記光源によってパ
    ルス照射してからnsオーダー範囲の一定時間経過後の
    上記光位置検出器の検出信号のみを演算処理する演算処
    理装置(8,9) を設けて成ることを特徴とする2次元又は
    3次元形状測定装置。
JP32483491A 1991-12-09 1991-12-09 2次元又は3次元形状測定装置 Pending JPH05157527A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32483491A JPH05157527A (ja) 1991-12-09 1991-12-09 2次元又は3次元形状測定装置

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JP32483491A JPH05157527A (ja) 1991-12-09 1991-12-09 2次元又は3次元形状測定装置

Publications (1)

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JPH05157527A true JPH05157527A (ja) 1993-06-22

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ID=18170208

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32483491A Pending JPH05157527A (ja) 1991-12-09 1991-12-09 2次元又は3次元形状測定装置

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JP (1) JPH05157527A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023127152A1 (ja) * 2021-12-28 2023-07-06 株式会社ニコン 光学装置および検査方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2023127152A1 (ja) * 2021-12-28 2023-07-06 株式会社ニコン 光学装置および検査方法

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