JPH0515733A - オゾン処理装置 - Google Patents

オゾン処理装置

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Publication number
JPH0515733A
JPH0515733A JP3176676A JP17667691A JPH0515733A JP H0515733 A JPH0515733 A JP H0515733A JP 3176676 A JP3176676 A JP 3176676A JP 17667691 A JP17667691 A JP 17667691A JP H0515733 A JPH0515733 A JP H0515733A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ozone
exhaust gas
ozone treatment
dampers
agent layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP3176676A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Takahashi
高橋  健
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP3176676A priority Critical patent/JPH0515733A/ja
Publication of JPH0515733A publication Critical patent/JPH0515733A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 オゾン処理装置の排ガスの通風を止めること
なくオゾン処理剤層の入替えを可能としたオゾン処理装
置を提供すること 【構成】 ダンパー15及び16を閉じ、ダンパー14
及び17を開ける。排ガス導入口11に導かれたオゾン
を含む排ガスは、オゾン処理装置本体2の開口部21の
下方部、オゾン処理剤層3、オゾン処理装置本体2の開
口部22の上方部、をこの順に経て排ガス送り出し口1
2に送る。次に、オゾン処理剤層31のオゾン処理剤が
消耗されると、ダンパー15及び16を開け、ダンパー
14及び17を閉じる。オゾンを含む排ガスを、上記と
は逆に送ってオゾン処理をする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、オゾン含有排ガスの
処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】オゾンはその強力な酸化力を有している
ため、液体や気体中の有害物質の分解、殺菌など、環境
浄化剤として活用されている。
【0003】しかし、使用後排出される余剰のオゾンは
低濃度であっても人体に有害であるとともに、光化学ス
モッグの原因ともなるので、この余剰オゾンを除去する
ことが必要になっている。
【0004】余剰オゾンの除去方法としては、燃焼法、
活性炭法、薬品処理法などによりオゾンを分解して除去
する方法が知られているが、効率面から活性炭等のオゾ
ン処理剤によるオゾン分解方法が主に使われている。
【0005】その活性炭法によるオゾン処理装置の基本
的なものとしては、図2に示すとおり、処理槽Aの排ガ
ス通路に活性炭などのオゾン処理剤層Bを備えたもので
あり、このオゾン処理剤層Bにおいて排ガス中のオゾン
を吸着分解している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記装置において、オ
ゾン処理剤層Bのオゾン処理剤は排ガスの入口側から消
耗されていくが、処理効率が低下するとオゾン処理剤層
Bを新しいものと取り替えることになる。そこで、オゾ
ン処理剤層Bの処理時間を延ばし、その取り替え頻度を
少なくするため、図3に示すとおり、オゾン処理剤層B
をB1 とB2 の二段構成として、排ガスの供給側のオゾ
ン処理剤層B1 の処理剤が消耗されると、オゾン処理剤
層B2 が供給側にくるようにオゾン処理剤層BのB1
2 を入替えるようにした装置がある。
【0007】この装置によれば、処理時間は延ばされる
ものの、オゾン処理剤B1 とB2 との入替え作業を必要
とし煩瑣であった。この発明は、上記の点に鑑み、オゾ
ン処理装置の排ガスの通風を止めることなくオゾン処理
剤層の入替えを可能としたオゾン処理装置を提供するこ
とを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明のオゾン処理装
置は、オゾン処理剤層が排ガス通路に設けられ、該排ガ
ス通路の開口部の一方が吸気口とされ、他方が排気口と
されるオゾン処理装置であって、上記オゾン処理剤層は
二段とされ、かつ上記吸気口と排気口とが互いに切替え
可能とされていることを特徴とするものであり、このこ
とにより上記目的が達成される。
【0009】この発明において、オゾン処理剤として
は、従来の用いられている処理剤と変わるものでなく、
例えば、活性炭、アルミナシリカゲルを主体に粉末活性
炭を加えた処理剤等が用いられる。
【0010】
【作用】この発明においては、排ガス通路の開口部の吸
気口と排気口とを互いに切替えることにより、従来の排
気口が吸気口となって、排ガスの流れが逆になるので、
オゾン処理層を前後に入れ換えることなく排ガス中のオ
ゾンの吸着分解処理が続行される。
【0011】
【実施例】以下、この発明装置を図面を参照して説明す
る。図1は発明の実施例の説明図である。1は装置外殻
であって、この外殻1内にオゾン処理装置本体2が納め
られている。
【0012】装置外殻1の一つの壁のほぼ中央に排ガス
導入口11が設けられ、この壁に対峙する他方の壁のほ
ぼ中央に排ガス送り出し口12が設けられ、外殻1自体
がいわば一種のダクトとなっている。この外殻1は、内
部に納められたイオン処理装置本体2の開口部21、2
2を二分するように仕切り壁13、13で図面で上下の
区室に仕切られている。
【0013】また、排ガス導入口11及び排ガス送り出
し口12の両側には、それぞれダンパー14、15、1
6、17が開閉可能に設けられ、それぞれの区室を図面
で左右に区切られるようにされている。
【0014】イオン処理装置本体2の両開口部21、2
2をつなぐ排ガス通路にオゾン処理剤層3が二段31、
32となって装着されている。次に、この装置の使用態
様を説明する。
【0015】先ず、ダンパー15及び16を閉じ、ダン
パー14及び17を開ける。このことにより、排ガス導
入口11に導かれたオゾンを含む排ガスは、イオン処理
装置本体2の開口部21の下方部、オゾン処理剤層3、
イオン処理装置本体2の開口部22の上方部、をこの順
に経て排ガス送り出し口12に達する排ガスの通路が形
成される。
【0016】したがって、オゾンを含む排ガスは、図の
矢印Aに沿って送られ、イオン処理剤層3において吸着
分解処理される。この場合、排ガス中に含有するイオン
の大部分は、イオン処理剤層3の一方のイオン処理剤層
31によって吸着分解処理される。
【0017】イオン処理剤層31のイオン処理剤が消耗
されて処理効率が低下するようになると、ダンパー15
及び16を開け、ダンパー14及び17を閉じる。この
ことにより、排ガス導入口11に導かれたオゾンを含む
排ガスは、イオン処理装置本体2の開口部22の下方
部、オゾン処理剤層3、イオン処理装置本体2の開口部
21の上方部、をこの順に経て排ガス送り出し口12に
達する排ガスの通路が形成される。
【0018】したがって、オゾンを含む排ガスは、図の
矢印Bに沿って送られ、つまりイオン処理装置本体2内
では前記とは逆に流れ、イオン処理剤層3において吸着
分解処理される。この場合、排ガス中に含有するイオン
の大部分は、イオン処理剤層3の一方のイオン処理剤層
32によって吸着分解処理される。
【0019】以上のとおり、この装置においては、ダン
パー15及び16と、ダンパー14及び17との切替え
によって排ガスの流れがイオン処理剤層3において逆に
なるので、二段にされたイオン処理剤層31、32の切
替えを必要とせずに排ガス処理を続行することが可能と
なる。
【0020】
【発明の効果】以上のとおり、この発明装置によれば、
排ガス通路の開口部の吸気口と排気口とを互いに切替え
ることにより、従来の排気口が吸気口となって、排ガス
の流れが逆になるので、従来後側であったイオン処理剤
層によって排ガス中のオゾンの吸着分解処理を続行でき
る。したがって、二段にされたオゾン処理剤層を前後に
入れ換える作業が省け、排ガスの送りを中断する必要が
ない。
【図面の簡単な説明】
【図1】発明方法の実施態様を示す説明図である。
【図2】従来装置の説明図である。
【図3】他の従来装置の説明図である。
【符号の説明】
1 装置外殻 11 排ガス導入口 12 排ガス送り出し口 13 仕切り壁 14、15、16、17 ダンパー 2 イオン処理装置本体 21、22 開口部 3 オゾン処理層

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 オゾン処理剤層が排ガス通路に設けら
    れ、該排ガス通路の開口部の一方が吸気口とされ、他方
    が排気口とされるオゾン処理装置であって、上記オゾン
    処理剤層は二段とされ、かつ上記吸気口と排気口とが互
    いに切替え可能とされていることを特徴とするオゾン処
    理装置。
JP3176676A 1991-07-17 1991-07-17 オゾン処理装置 Pending JPH0515733A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3176676A JPH0515733A (ja) 1991-07-17 1991-07-17 オゾン処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3176676A JPH0515733A (ja) 1991-07-17 1991-07-17 オゾン処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0515733A true JPH0515733A (ja) 1993-01-26

Family

ID=16017778

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3176676A Pending JPH0515733A (ja) 1991-07-17 1991-07-17 オゾン処理装置

Country Status (1)

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JP (1) JPH0515733A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010104940A (ja) * 2008-10-31 2010-05-13 Chubu Electric Power Co Inc ガス処理システム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010104940A (ja) * 2008-10-31 2010-05-13 Chubu Electric Power Co Inc ガス処理システム

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