JPH04135615A - ガス処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、反応性の高い酸素原子またはヒドロキシル
ラジカルを用いたガス処理装置に関ス６ものである。

［従来の技術］ 室内の空気などのガスを処理する目的としては、（１）
加温または冷却による温度調節、（２）加湿または除湿
による湿度調節、＜３〉汚濁物質の処理・浄化などがあ
る。これらの処理を行なう機器は空気調和機器と称され
るが、空気の浄化を目的とした機器構成としては例えば
、刊行物（建築設備入門講座／空気調和設備、杉山裕ほ
か著、啓学田版、１９８６年、１５０〜１５１ページ）
に記載された第３図に示すものがある。図において、（
１〉は閉鎖的空間、（２）はガス吸い込み口、（３）は
エアフィルタ、＜４〉は外気取り込み口、り５）は空気
洗浄器、（６〉はエリミネータ、（７）は送風機、り８
）は処理ガス放出口である。

従来の空気浄化機は上記のように構成され、閉鎖的空間
（１＞で汚れた空気はガス吸い込み口り２〉から吸引さ
れた後、エアフィルタ（３）を通ることにより比較的大
きな浮遊物質が捕捉される。エアフィルタ〈３）では外
気取り込み口（４〉から取り込んだ外気中の浮遊物質の
除去も行なわれる。次に、空気洗浄器り５）では、水と
空気を直接接触させることによって熱交換を行なうとと
もに、空気中の塵埃や可溶性ガスも一部除去されるので
空気浄化が行なわれる。送風機（７ンによって空気をガ
ス吸い込み口〈２）から取り込み、処理ガス放出口〈釦
から放出する空気循環を行なう。

また、主に水処理を目的とした同一出願人による流体処
理装置（特開平１−１６３５５１号公報）においても、
ガス処理への可能性が開示されている。しかし、ガス処
理における具体的な処理方法にまでは言及されていなか
った。

［発明が解決しようとする課題］ 上記のような従来の空気浄化機では汚れた空気中に水を
噴霧するので可溶性ガスの一部については除去すること
ができた。しかし、水溶性でない汚染物質たとえば悪臭
成分や空気中に浮遊する細菌・ウィルス等の処理は必ず
しも十分なものではなかった。すなわち、処理ガス放出
口（８〉からは臭気や浮遊細菌などが残存するガスが放
出されるという問題点があった。

この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、汚れた空気などのガス中に存在する臭気成分など
の化学物質を分解処理すること、または細菌やウィルス
などの微生物の殺菌・不活化処理を行なうことを目的と
する。

［課題を解決するための手段］ この発明に係るガス処理装置は、酸素原子またはヒドロ
キシルラジカルを放電により発生させる活性酸素種発生
手段、および被処理ガスをノズルから加圧噴射するかま
たは吸引して送給し、上記放電場の気体を被処理ガスに
吸引して上記放電場を大気圧以下の低圧力に減圧する減
圧送給手段を備え、低圧力下の上記放電場で発生させた
酸素原子またはヒドロキシルラジカルを反応剤として上
記被処理ガスに混合して処理するようにしたものである
。

［作用］ この発明のガス処理装置においては、低圧下で放電を行
わせるため、酸素原子またはヒドロキシルラジカルの寿
命が長くなり、その結果これらの活性酸素種が効率良く
生成でき、低圧力下で効果的に被処理ガスに混合させる
ので効率の良い処理を行うことができる。

［実施例］ 以下、この発明の一実施例を図につし）で説明する。第
１図はこの発明の一実施例（こよる酸素原子を酸化剤と
して用いるガス処理装置を示す構成図、第２図はこの発
明の他の実施例によるヒドロキシルラジカルを反応剤と
して用いるガス処理装置を示す構成図である。　　両図
において、（９）〜（１７）は放電による活性酸素種発
生と混合の両方の機能を有する［放電一体型エゼクタの
構成要素であり、（９ンは被処理ガス入口、（１０）は
ノズル、（１１）＋よスロート、（１２）は処理ガス出
口、（１３〉は誘電体管、〈１４）は給電電極、（１５
）は原料気体入口、（１６）は交流電源、り１７）は放
電場、（１８）は真空ポンプ、（１９）は加湿器である
。これらのうち、ノズル（１０〉は導電性物質で作られ
ており、接地されて（・る。

次に動作について説明する。

第１図において、閉鎖的空間（１）で汚れた空気はガス
吸い込み口〈２〉から吸引された後、エアフィルタ（３
）を通ることにより比較的大きな浮遊物質が捕捉される
。エアフィルタ（３）では外気取り込み口（４）から取
り込んだ外気中の浮遊物質の除去も行なわれる。ここで
閉鎖的空間Ｈ）とは、人の集まる店舗、事務所、仕事場
、工場、地下室、クリーンルーム、手術室、病院、便所
、下水処理場、ゴミ焼却場などのあらゆる仕切られた空
間を総称するものである。

被処理ガスは次に送風機（７）を経て、被処理ガス入口
＜９）、ノズル〈１０）、スロート〈１１）の順に流れ
る。この時、ノズル（１０）とスロート（１１）の間の
間隙から放電場（１７〉の気体を吸引するため、放電場
〈１７）は大気圧より低圧力になる。ここで交流高電圧
を交流電源（１６）から給電型１（１４）に印加すると
ガラス等の誘電体管（１３）とノズル（１０〉との間の
低圧力の放電場（１７）で無声放電が生じる。第１図の
ように、原料気体人口（１５〉から空気などの酸素含有
気体が流入している放電場では酸素分子から酸素原子を
生成する反応が起こる。このようにして発生させた酸素
原子は、ノズル（１０）とスロート（１１）の間の間隙
から被処理ガスと混合される。酸素原子はきわめて反応
性に富むため、被処理ガス中に含まれる物質と反応して
酸化分解・殺菌などが行なわれる。処理されたガスは処
理ガス放出口り８）から再び閉鎖的空間（１）に戻され
る。

第２図では酸化剤としてヒドロキシルラジカルを発生さ
せる場合の構成例を示している。放電でヒドロキシルラ
ジカルを発生させるためには原料気体入口（１５）から
供給される気体中に水分が含まれている必要がある。そ
こで、加湿器（１９〉中には加湿用水を入れておき、空
気などの原料気体を加湿用水中を通気する二となどによ
って水分を添加できるように構成している点が第１図と
の相違点である。このようにして発生させたヒドロキシ
ルラジカルは、ノズル（１０〉とスロート（１１）の間
の間隙から被処理ガスと混合される。ヒドロキシルラジ
カルはきわめて反応性に富むため、被処理ガス中に含ま
れる物質と反応して酸化分解・殺菌等が行なわれる。第
２図の実施例では処理されたガスは再び閉鎖的空間（１
）に返送せずに大気中などの別の空間へ放出する構成に
した。

なお、第１図の実施例では被処理ガスを送風機り７）に
よって加圧して被処理ガス入口（９〉に供給する構成に
しているが、第２図の実施例では真空ポンプ（１８）を
用いて被処理ガスを吸引することによって低圧力の放電
場（１７）を得るように構成している。二のように被処
理ガスの送給には送風機〈７）を用いてもよいし、真空
ボンプク１８）を用いてもよい。

なお、原料気体入口（１５）がら流入する空気などの酸
素含有気体の流量が大きいと、放電場（１７〉が所定の
低圧力にまで減圧しないので、原料気体入口＜１５〉は
適切なガス流量が得られるような管径に絞っておく必要
がある。原料気体入口（１５）には、第２図のように絞
り弁（２０）を付加することによって、原料気体を適正
流量になるように調整して供給する二とが可能であるが
、これらの構成要素は必須ではない。

以上のように、第１図では酸素原子発生・送風機・循環
式を用いた実施例を示し、第２図ではヒドロキシルラジ
カル発生・真空ポンプ・−透型を用いた実施例で示した
が、これらの組み合せが自由であることはいうまでもな
い。

［発明の効果］ 以上のように、この発明によれば、酸素原子またはヒド
ロキシルラジカルを放電によって発生させる活性酸素種
発生手段、および被処理ガスをノズルから加圧噴射する
かあるいは吸引することによって供給し、上記活性酸素
種発生手段の放電場の気体を上記被処理ガスに吸収して
上記放電場を大気圧以下の低圧力にする減圧送給手段を
備え、低圧力下の上証放電場で発生させた酸素原子また
はヒドロキシルラジカルを反応剤として上記被処理ガス
に混合して処理するようにしたので、低圧力の放電場を
容易に形成でき、低圧下の放電場で効率良（高濃度の活
性酸素種が得られ、簡単かつ小型でガス処理が行えるガ
ス処理装置が得られる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例による酸素原子を用いたガ
ス処理装置を示す構成図、第２図は二の発明の他の実施
例によるヒドロキシルラジカルを用いたガス処理装置を
示す構成図、第３図は従来のガス処理装置を示す構成図
である。 図において、（１）は閉鎖的空間、（２）はガス吸い込
み口、＜３〉はエアフィルタ、（４）は外気取り込み口
、〈５〉は空気洗浄器、（６）は工ＩＪ　ミネータ、（
７ンは送風機、〈８〉は処理ガス放出口、（９）は被処
理ガス入口、（１０）はノズル、（１１〉はスロート、
り１２）は処理ガス出口、（１３）は誘電体管、（１４
〉は給電電極、（１５）は原料気体入口、＜１６〉は交
流電源、〈１７〉は放電場、〈１８〉は真空ポンプ、（
１９）は加湿器である。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を下す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　酸素原子またはヒドロキシルラジカルを放電により発
   生させる活性酸素種発生手段、および被処理ガスをノズ
   ルから加圧噴射するかまたは吸引して送給し、上記放電
   場の気体を被処理ガスに吸引して上記放電場を大気圧以
   下の低圧力に減圧する減圧送給手段を備え、低圧力下の
   上記放電場で発生させた酸素原子またはヒドロキシルラ
   ジカルを反応剤として上記被処理ガスに混合して処理す
   るようにしたガス処理装置。