JPH05155995A - 全芳香族ポリエステル・ポリスチレン系共重合体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 透明性に優れていると共に光学的歪みが特に
小さく、更に、流動性、機械的強度に優れており、光学
的機器用の成形材料に適した全芳香族ポリエステル・ポ
リスチレン系共重合体の製造方法を提供する。 【構成】 末端にフェノール性水酸基を有するスチレン
系ポリマー（Ａ）、芳香族ジヒドロキシ化合物（Ｂ）及
び芳香族ジカルボン酸ジハライド（Ｃ）を、（Ａ）／
〔（Ｂ）＋（Ｃ）〕が２０／８０〜７０／３０（重量
比）となる割合で界面重合させる全芳香族ポリエステル
・ポリスチレン系共重合体の製造方法である。 【効果】 本発明によれば、従来の重合法に比較して共
重合化していないスチレン系重合体の含有量が低く、か
つ、従来の全芳香族ポリエステルに比較して複屈折が低
い全芳香族ポリエステル・ポリスチレン系共重合体を製
造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、全芳香族ポリエステル
・ポリスチレン系共重合体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、透明性に優れ、光学機器用素材
に適している全芳香族ポリエステル系樹脂は、耐熱性・
機械的強度にも優れた性質を有しているが、溶融粘度が
高く加工し難いという問題がある。加えて、射出成形等
の熱成形加工の際に、応力歪みが発生し、得られた製品
は複屈折を生じ易いという問題もある。このため、最終
製品が光ディスクや光ガード保護膜等の場合には、複屈
折が読み取りエラーやノイズの原因となり、また、最終
製品が光ファイバーの場合には、複屈折が伝送損失を大
きくする原因になる等の問題点がある。

【０００３】この様な問題点を解決する手段として、全
芳香族ポリエステル系樹脂（以下、ＰＡｒと略称するこ
とがある）と正負逆方向の複屈折を有するポリスチレン
系樹脂（以下、ＰＳと略称することがある）とを化学的
に結合する方法や、ＰＳとＰＡｒとが化学的に結合した
樹脂をＰＳ／ＰＡｒブレンド系に相溶化剤として添加す
る方法が知られている。そして、全芳香族ポリエステル
・ポリスチレン系共重合体の製造法としては、特開昭５
８−１５７，８４４号公報や特開昭５８−２２５，１１
３号公報に示されている方法がある。しかしながら、こ
れらの製造法では、全芳香族ポリエステルの末端に不飽
和基を導入し、これをスチレン系モノマーと共に重合し
て全芳香族ポリエステル・ポリスチレン系共重合体とす
るため、生成ポリマー中における共重合化していないポ
リスチレン系重合物の含有率が多くなり、そのままでは
生成物の機械的強度が減少するという問題がある。そこ
で、生成ポリマー中に残留した共重合化していないスチ
レン系重合体を除去する工程が必要となり、工業的生産
には適さない。

【０００４】また、特開平１−１２９，０１１号公報で
は、スチレン系モノマーとアリルアミンとを混合して重
合し、これを全芳香族ポリエステル系化合物と高温（２
６０〜３４０℃）で溶融混合して全芳香族ポリエステル
・ポリスチレン系共重合体を合成している。しかし、こ
の製造法では、ポリエステル連鎖を切断してアリルアミ
ン変性スチレン系重合体と全芳香族ポリエステルとを共
重合しているため、得られたポリマー中の全芳香族ポリ
エステルの連鎖が短くなり、十分な強度を有するポリマ
ーが得難いという課題がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、光学的機器
用の成形材料に適した全芳香族ポリエステル・ポリスチ
レン系共重合体における上記の問題点を解決したもの
で、その目的とするところは、透明性に優れていると共
に光学的歪みが特に小さく、更には、流動性、機械的強
度に優れた共重合体の製造方法を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、フ
ェノール性水酸基を末端に有するスチレン系重合体に、
芳香族ジカルボン酸ジハライドと芳香族ジヒドロキシ化
合物とを界面縮重合反応させる全芳香族ポリエステル・
ポリスチレン系共重合体の製造方法である。

【０００７】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明は、従来末端フェノール性水酸基を有したポリスチ
レンが水層に不溶なため困難であった界面重合を末端酸
ハライドポリスチレンを経由し、有機層成分と同じ官能
基をもたせることで界面重合を可能としたものである。

【０００８】本発明で用いるスチレン系重合体（Ａ）
は、末端に１個又は２個及び中間に１個又は２個以上の
フェノール性水酸基を有していればよいが、好ましくは
片末端若しくは両末端にフェノール性水酸基を有してい
るものであり、より好ましくは反応性を向上させるため
に両末端にフェノール性の水酸基を有しているものであ
る。このスチレン系ポリマー（Ａ）の数平均分子量Ｍｎ
は、１，０００以上であって２００，０００以下が好ま
しい。Ｍｎが１，０００未満ではポリマーとしての物性
が不十分であって好ましくなく、また、Ｍｎが２００，
０００を超えると重合が困難となる。また、Ｍｎと重量
平均分子量（Ｍｗ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）は４．０以下
となるようにすることが好ましい。Ｍｗ／Ｍｎが４．０
を超えるスチレン系ポリマーを使用して共重合体を合成
した場合、分子量の均一な共重合体が得られないので好
適には使用できない。なお、分子量の測定は、単分散ポ
リスチレンでキャリブレーションしたゲル浸透クロマト
グラフィー（ＧＰＣ）で測定した。

【０００９】ここで用いるスチレン系重合体（Ａ）を構
成するスチレン系モノマーとしては、スチレンの他に、
例えば、ｏ−，ｍ−，ｐ−メチルスチレン、ｏ−，ｍ
−，ｐ−エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレ
ン等のアルキルスチレン類や、ｏ−，ｍ−，ｐ−クロル
スチレン、ジクロルスチレン、モノブロモスチレン、ジ
ブロモスチレン等のハロゲン化スチレン類や、α−メチ
ルスチレン等及びこれらを適宜混合した混合物が挙げら
れる。また、このスチレン系重合体は物性改善のため０
〜５０％の他のビニル系モノマー、例えば、メタクリル
酸エステル類、アクリル酸エステル類、酢酸ビニル、ブ
タジエン、アクリロニトリル等を共重合せしめたもので
あってもかまわない。

【００１０】スチレン系重合体（Ａ）の合成法として
は、カルボキシル基を有するラジカル重合開始剤を使用
してスチレン系モノマーをラジカル重合し、末端にカル
ボキシル基を有するスチレン系重合体（Ａ’）を重合
し、これをビスフェノールＡとエステル化を行い合成す
る方法が考えられるが、この方法に限られるものでな
く、末端にフェノール性水酸基を有するスチレン系重合
体が得られれば他の合成法であってもかまわない。

【００１１】本発明で用いる芳香族ジヒドロキシ化合物
（Ｂ）としては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン（以下、「ビスフェノールＡ」と
略称する）、テトラメチルビスフェノールＡ、テトラブ
ロモビスフェノールＡ、ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、ハイドロキノン、
レゾルシノール、４，４’−ジヒドロキシビフェニル等
及びこれらを適宜に混合した混合物を挙げることができ
るが、これらの中でも特にビスフェノールＡが好まし
い。

【００１２】また、芳香族ジカルボン酸ジハライド
（Ｃ）としては、例えば、テレフタル酸ジクロライド、
テレフタル酸ジブロマイド、イソフタル酸ジクロライ
ド、イソフタル酸ジブロマイド等及びこれらを２５〜７
５％の範囲で適宜に混合した混合物を挙げることができ
るが、これらの中でも特にテレフタル酸ジクロライドと
イソフタル酸ジクロライドの５０：５０混合物が好まし
い。

【００１３】スチレン系重合体（Ａ）と、芳香族ジヒド
ロキシ化合物（Ｂ）と、芳香族ジカルボン酸ジハライド
（Ｃ）との使用割合は、広い範囲に亘って変えることが
できるが、好適な光学、機械特性を得るためには、スチ
レン系重合体の含有量を２０〜７０重量％にする必要が
あり、このためにはスチレン系重合体（Ａ）の重量と芳
香族ジヒドロキシ化合物（Ｂ）及び芳香族ジカルボン酸
ジハライド（Ｃ）の重量和との割合、すなわち（Ａ）／
〔（Ｂ）＋（Ｃ）〕を２０／８０〜７０／３０の範囲内
にすることが望ましい。スチレン系重合体が２０重量％
未満になると生成された共重合体の複屈折を充分に低減
することができず、７０重量％を越えると剛性が低下
し、ポリマーとして好ましくない。また、芳香族ジヒド
ロキシ化合物（Ｂ）と芳香族ジカルボン酸ジハライド
（Ｃ）との割合は、ほぼ等モルになるように使用する
が、スチレン系重合体（Ａ）がフェノール性水酸基を有
しているため、これに相当する量だけ芳香族ジヒドロキ
シ化合物（Ｂ）を少量使用することが好ましい。

【００１４】本発明の界面重合法は、スチレン系重合体
（Ａ）及び芳香族ジカルボン酸ジハライド（Ｃ）を水に
相溶性のない有機溶媒に溶解し、予め反応させることで
末端酸ハライドポリスチレンとジカルボン酸ジハライド
との混合溶液とし、この混合溶液と芳香族ジヒドロキシ
化合物（Ｂ）のアルカリ水溶液とを混合攪拌することに
よって行われる。アルカリ水溶液としては、水酸化ナト
リウム水溶液、水酸化カリウム水溶液が好ましい。有機
溶剤としては、スチレン系重合体（Ａ）や芳香族ジカル
ボン酸ジハライド（Ｃ）と反応せず、スチレン系重合体
（Ａ）、芳香族ジカルボン酸ジハライド（Ｃ）及び生成
する全芳香族ポリエステル・ポリスチレン系共重合体の
いずれに対しても良溶媒であり、更に水と完全に相溶し
ないものが望ましい。例えば、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、１，２−ジクロロエタン、１，１，２，２−テ
トラクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素や、ベン
ゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素等及
びこれらを適宜混合した混合物を挙げることができる。
界面重合反応は、２〜５０℃、好ましくは５〜５０℃
で、攪拌下に５分〜８時間程度で行われる。本発明の界
面重合法においては、重合反応をスムースに進めるため
にトリメチルベンジルアンモニウムクロライド、トリエ
チルベンジルアンモニウムクロライド、トリ−ｔｅｒｔ
−ブチルベンジルアンモニウムクロムライド等の第四級
アンモニウム塩等を添加してもよい。また、分子量を調
製するためにｏ−フェニルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−
ブチルフェノール等の一官能性フェノール化合物を添加
することもできる。

【００１５】重合反応終了後のポリマーの単離、精製に
は公知の種々の方法を採用することができる。例えば、
重合終了後、静置するかあるいは遠心分離機等を用いて
機械的に無機塩を含む水相とポリマーを含む有機相とに
分離し、このポリマーを含む有機相に必要に応じて濾過
又は抽出等の洗浄操作を施した後、アセトン、メタノー
ル等の溶媒へ加えてポリマーを析出させ、濾過、乾燥さ
せて目的とするポリマーを単離する。なお、生成ポリマ
ー中に共重合していないスチレン系重合体を除去する必
要があるときは、シクロヘキサン等の溶媒を使用して、
選択的に溶解除去させてもよい。

【００１６】本発明により合成した樹脂の数平均分子量
Ｍｎは、ＧＰＣの測定値で１，０００〜３００，０００
が好ましい。Ｍｎが１，０００より小さいとポリマーと
しての物性が不十分になり、Ｍｎが３００，０００を超
えると生成ポリマーがゲル状となり溶媒除去が困難とな
り、また、成形加工性も著しく低下する。本発明で合成
した全芳香族ポリエステル・ポリスチレン系共重合体
は、良好な流動性を有し、透明性が高く、かつ複屈折の
低い光学機器用素材として単体でも好適に用いられる
が、全芳香族ポリエステルとスチレン系重合体のブレン
ド物に添加して相溶性を増加させ、ブレンド物の引張強
度、曲げ強度、曲げ弾性率等を強化するために使用する
ことができる。

【００１７】

【実施例】以下、参考例、実施例を掲げ、本発明をさら
に詳しく説明する。

【００１８】参考例１〜３ 〔末端にカルボキシル基を有するスチレン系ポリマー
（Ａ’）の合成〕４，４’−アゾビス−４−シアノバレ
リックアシッド（ＡＣＶＡ）を重合開始剤として使用
し、スチレン１００重量部を９０℃でラジカル重合し
た。ＡＣＶＡは１，４−ジオキサンに溶解し、重合開始
初期の他に重合中にも連続的に添加した。初期に挿入す
るＡＣＶＡ及び連続的に装入するＡＣＶＡの濃度を変化
させ、表１に示す末端にカルボキシル基を有するスチレ
ン系ポリマー（Ａ’）を得た。なお、分子量の測定は、
東洋ソーダ社製ＧＰＣ測定装置ＨＬＣ−８０２Ａを使用
した。ポリマー１分子が有するカルボキシル基の平均数
は三菱化成工業社製自動滴定装置ＧＴ−０５型を使用し
てポリマー溶液を水酸化ナトリウム溶液で中和滴定する
ことにより測定した。

【００１８】

【表１】

【００１９】〔末端にフェノール性水酸基を有するスチ
レン系重合体（Ａ）の合成〕前記のようにして合成した
末端にカルボキシル基を有するスチレン系ポリマー
（Ａ’）１００重量部をビスフェノールＡ３〜７重量部
でエステル化し、末端フェノール性水酸基を有するスチ
レン系重合体（Ａ）を合成した。末端のフェノール性水
酸基は未反応のカルボキシル基を定量することにより決
定した。結果を表２に示す。

【表２】

【００２０】実施例１〜３ 攪拌装置付ナス型フラスコに参考例１〜３で合成したス
チレン系重合体（Ａ）１００重量部とテレフタル酸ジク
ロライド及びイソフタル酸ジクロライドの各々２９重量
部とをジクロロメタン１，０００重量部に溶解し、触媒
として水酸化カルシウム０．１重量部及びトリエチルア
ミン０．０１重量部を添加し、１時間攪拌してスチレン
系ポリマー末端が酸クロライド化された酸クロライド溶
液を得た。次いで、別の攪拌装置付丸底フラスコ内に１
Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液６３０重量部を仕込み、ビ
スフェノールＡ６４重量部を溶解し、触媒としてトリメ
チルベンジルアンモニウムクロライド０．０５重量部を
添加した溶液中に、先に得られた酸クロライド溶液を添
加した。添加終了後、２時間攪拌して界面重合を行っ
た。重合終了後、二層を分離して有機層を１Ｎ−酢酸水
溶液６３０重量部で中和し、洗浄し、有機層だけを抽出
して１，０００重量部のクロロホルムに溶解した。この
クロロホルム溶液を１μｍのフィルターを用いて濾過し
た後、１０，０００重量部のメタノール中に添加し、ポ
リマーを沈澱させた。得られたポリマーの沈澱物はロ別
し、メタノールで洗浄した後、真空乾燥機で乾燥した。

【００２１】この様にして得られたポリマーの平均分子
量の測定は参考例１〜３と同様にして測定した。このポ
リマーが全芳香族ポリエステル・ポリスチレン系共重合
体であることの確認は、５０重量部のシクロヘキサンを
使用してポリマー１重量部について２６時間のソックス
レー抽出を行い、シクロヘキサン不溶分と可溶分との重
量比（不溶分：可溶分）を求めると共に、シクロヘキサ
ン不溶分の組成を ¹Ｈ−ＮＭＲ（日本電子社製ＪＮＭ−
ＥＸ４０）で測定することにより行った。共重合化され
なかったポリスチレンはシクロヘキサンに溶解される。
この実施例１〜３の重合結果を表３に示す。なお、実施
例１〜３で使用したスチレン系重合体（Ａ）は、それぞ
れ参考例１〜３で合成したスチレン系重合体（Ａ）であ
る。

【００２２】実施例１〜３で重合して得られたポリマー
を塩化メチレンに溶解して２０重量％溶液とし、安田精
機社製のＡｕｔｏｍａｔｉｃ ｆｉｌｍ ａｐｐｌｉｃ
ａｔｏｒ Ｎｏ５４２−ＡＢ−Ｓを使用して１００μｍ
厚のフィルムを作成した。フィルムは、１２時間室温で
放置し、更に１００℃の真空乾燥器内で１２時間乾燥し
て溶媒を除去した。次に佐竹化学機械工業社製熱風循環
式一軸延伸装置を使用して得られたフィルムを２１５〜
２２０℃で１０〜５０％延伸し、フィルムの複屈折をニ
コン社製ｏｐｔｉｃａｌ−ｐｏｌ偏光顕微鏡（波長５４
６ｎｍ）で測定した。結果を表４に示す。

【００２３】比較例１ 特開昭５８−１５７，８４４号公報に記載された実施例
に従い、モル比１：１の割合でテレフタル酸ジクロライ
ドとイソフタル酸ジクロライドとを混合し、得られた混
合酸クロライド２０３ｇと、メタクリル酸クロライド
４．１８ｇの塩化メチレン溶液と、ビスフェノールＡ２
３３ｇの水酸化ナトリウム水溶液とから、界面重合法に
より末端にメタクリル基を有するポリエステルを製造し
た。上記参考例と同様にＧＰＣを使用して数平均分子量
Ｍｎを測定した結果、４，０００であった。このポリエ
ステルとスチレンモノマーとを窒素雰囲気下に重量比
１：１の割合で加熱（１３０℃）しながら混合し、２０
時間重合した。生成したポリマーを実施例１及び２と同
様にして回収し、実施例１〜３と同じ方法で共重合体の
分子量、組成、及び共重合化していないポリスチレンの
含有量を評価した。結果は以下の通りであった。 Ｍｎ＝７，５００ Ｍｗ＝２２，０００ Ｍｗ／Ｍｎ＝２．９ シクロヘキサン抽出結果 不溶分：可溶分＝３０：７０ 共重合体中のポリスチレン組成＝２５％ 共重合化されていないポリスチレン含有量＝７０％

【００２４】比較例２ 市販されている全芳香族ポリエステル（Ｕポリマー“Ｕ
−１００”、ユニチカ社製）１００ｇを使用して実施例
１〜３と同様の方法で複屈折を測定した。結果を表４に
示す。

【００２５】

【表３】

【００２６】

【表４】

【００２７】上記実施例及び比較例の結果から、以下の
事項が判明した。 実施例１〜３の結果から、本発明の製造法により全芳
香族ポリエステル・ポリスチレン系共重合体を製造でき
る。 実施例１〜３と比較例１との比較から、本発明の製造
法によれば、共重合化していないポリスチレン量を減少
させることができる。 実施例１〜３と比較例２との比較から、本発明により
製造された全芳香族ポリエステル・ポリスチレン系共重
合体は延伸下でも複屈折を低下できる。 従って、本発明により製造した全芳香族ポリエステル・
ポリスチレン系共重合体は、良好な光学機器素材として
使用可能であり、また、全芳香族ポリエステルとスチレ
ン系重合体のブレンド物中に添加して相溶性を増加さ
せ、ブレンド物の引張強度、曲げ強度、曲げ弾性率を強
化する目的で使用することもできる。

【００２８】

【発明の効果】本発明によれば、従来の重合法に比較し
て共重合化していないスチレン系重合体の含有量が低
く、かつ、従来の全芳香族ポリエステルに比較して複屈
折が低い全芳香族ポリエステル・ポリスチレン系共重合
体を製造することができる。

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成３年１０月１６日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２２

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２２】実施例１〜３で重合して得られたポリマー
を塩化メチレンに溶解して２０重量％溶液とし、安田精
機社製のＡｕｔｏｍａｔｉｃ ｆｉｌｍ ａｐｐｌｉｃ
ａｔｏｒ Ｎｏ５４２−ＡＢ−Ｓを使用して１００μｍ
厚のフィルムをガラス基板上に作成した。フィルムは、
１２時間室温で放置し、更に１００℃の真空乾燥器内で
１２時間乾燥して溶媒を除去した。その後、室温まで冷
却し、水中に放置してガラス基板より剥離した。この
際、膜の破損はなく、２０ｍｍ×６０ｍｍのフィルムを
得た。次に佐竹化学機械工業社製熱風循環式一軸延伸装
置を使用して得られたフィルムを２１５〜２２０℃で１
０〜５０％延伸し、フィルムの複屈折をニコン社製ｏｐ
ｔｉｃａｌ−ｐｏｌ偏光顕微鏡（波長５４６ｎｍ）で測
定した。結果を表４に示す。実施例４ 攪拌装置付ナス型フラスコに参考例１で合成したスチレ
ン系重合体（Ａ）１００重量部とテレフタル酸ジクロラ
イド及びイソフタル酸ジクロライドの各々２９重量部と
をジクロロメタン１，０００重量部に溶解した。次い
で、別の攪拌装置付丸底フラスコ内に１Ｎ−水酸化ナト
リウム水溶液６３０重量部を仕込み、ビスフェノールＡ
６４重量部を溶解し、触媒としてトリメチルベンジルア
ンモニウムクロライド０．０５重量部を添加した溶液中
に、先に調製したスチレン系ポリマーと酸クロライドの
混合溶液を添加し、添加終了後、２時間攪拌して界面重
合を行った。重合終了後、二層を分離して有機層を１Ｎ
−酢酸水溶液６３０重量部で中和し、洗浄し、有機層だ
けを抽出して１，０００重量部のクロロホルムに溶解し
た。このクロロホルム溶液を１μｍのフィルターを用い
て濾過した後、１０，０００重量部のメタノール中に添
加し、ポリマーを沈澱させた。得られたポリマーの沈澱
物はロ別し、メタノールで洗浄した後、真空乾燥機で乾
燥した。得られたポリマーについて、実施例１〜３と同
様にして分子量、組成等を測定した。結果は以下の通り
であった。 Ｍｎ＝４５，０００ Ｍｗ＝１５０，０００ Ｍｗ／Ｍｎ＝３．５３ ポリスチレン反応率：１１％ 共重合体組成（ＰＳ：ＰＡｒ）＝７７：２３

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２３】比較例１ 特開昭５８−１５７，８４４号公報に記載された実施例
に従い、モル比１：１の割合でテレフタル酸ジクロライ
ドとイソフタル酸ジクロライドとを混合し、得られた混
合酸クロライド２０３ｇと、メタクリル酸クロライド
４．１８ｇの塩化メチレン溶液と、ビスフェノールＡ２
３３ｇの水酸化ナトリウム水溶液とから、界面重合法に
より末端にメタクリル基を有するポリエステルを製造し
た。上記参考例と同様にＧＰＣを使用して数平均分子量
Ｍｎを測定した結果、４，０００であった。このポリエ
ステルとスチレンモノマーとを窒素雰囲気下に重量比
１：１の割合で加熱（１３０℃）しながら混合し、２０
時間重合した。生成したポリマーを実施例１及び２と同
様にして回収し、実施例１〜３と同じ方法で共重合体の
分子量、組成、及び共重合化していないポリスチレンの
含有量を評価した。結果は以下の通りであった。 Ｍｎ＝７，５００ Ｍｗ＝２２，０００ Ｍｗ／Ｍｎ＝２．９ シクロヘキサン抽出結果 不溶分：可溶分＝３０：７０ 共重合体中のポリスチレン組成＝２５％ 共重合化されていないポリスチレン含有量＝７０％また、得られたポリマーについて、実施例１〜３と同様
にして成膜したところ、溶媒除去後に室温まで冷却して
水中に放置した段階でガラス基板上の膜は散々に破損
し、延伸するためのフィルムを得ることができなかっ
た。

フロントページの続き (72)発明者 大石 浩 神奈川県川崎市中原区井田1618番地、新日 本製鐵株式会社先端技術研究所内 (72)発明者 藤城 光一 神奈川県川崎市中原区井田1618番地、新日 本製鐵株式会社先端技術研究所内 (72)発明者 木村 正生 神奈川県川崎市中原区井田1618番地、新日 本製鐵株式会社先端技術研究所内 (72)発明者 岸本 聡一郎 京都府宇治市宇治小桜23、ユニチカ株式会 社中央研究所内 (72)発明者 大脇 隆正 京都府宇治市宇治小桜23、ユニチカ株式会 社中央研究所内 (72)発明者 本山 秋男 京都府宇治市宇治小桜23、ユニチカ株式会 社中央研究所内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 末端にフェノール性水酸基を有するスチ
   レン系ポリマー（Ａ）、芳香族ジヒドロキシ化合物
   （Ｂ）及び芳香族ジカルボン酸ジハライド（Ｃ）を、
   （Ａ）／〔（Ｂ）＋（Ｃ）〕が２０／８０〜７０／３０
   （重量比）となる割合で界面重合させることを特徴とす
   る全芳香族ポリエステル・ポリスチレン系共重合体の製
   造方法。