JPH05155558A - エレベ−タ−の走行案内装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 案内レ−ルの設置不整、速度の速いエレベ−
タ−に対して応答速度の遅い制御系において、常に安定
した乗りかごの走行性能を発揮しうるエレベ−タ−の走
行案内装置を提供することにある。 【構成】 エレベ−タ−乗りかごと、これを昇降路内レ
−ルに沿って走行案内するガイド装置を備えたエレベ−
タ−システムにおいて、上記ガイド装置を案内制御する
案内制御装置を有し、上記案内制御装置に上記エレベ−
タ−乗りかごの予測かご位置に応じた制御指令を入力
し、上記制御指令に基づいて上記ガイド装置を制御す
る。上記エレベ−タ−乗りかごの予測かご位置は、エレ
ベ−タ−乗りかごの案内制御装置を含む制御系やアクチ
ュエ−タの応答遅れ等の要素を考慮し、乗りかごの現在
位置、エレベ−タ−の走行速度ないしはエレベ−タ−の
走行速度変化率、ガイド装置の制御動作遅れ時間から算
出し、乗りかご位置を先読みする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、エレベ−タ−装置に係
り、特に、エレベ−タ−乗りかごを案内支持するエレベ
−タ−の走行案内装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の技術として、特公平３−３９９５
２号公報には、あらかじめ記憶してあるレ−ル逸脱値表
に基づいて、リフトカ−の位置に対応して、リフトカ−
の案内摺動部を制御し、案内レ−ルの軌道ズレに正確に
案内摺動部を順応させるリフトカ−の横振動の連続補償
方式が述べられている。また、特公昭５８−３９７５３
号公報には、乗りかごに設けた非接触磁気ガイドと昇降
路内に立設されたレ−ルとの間のギャップを一定に制御
することによって、ガイドロ−ラを不要とし、ロ−ラの
回転に伴う振動騒音を低減する提案がなされている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】前述の特公平３−３９
９５２号公報には、案内摺動部をレ−ル軌道に沿って押
しつけ、かつ、かご位置に応じて案内摺動部の位置を制
御することは述べられているが、摺動部のアクチュエ−
タおよびその制御系の動作遅れ時間の存在、また、刻々
と変化するエレベ−タ−速度への対応など、使用する制
御デ−タについての言及がなく、この公報の技術は、速
度ゾ−ンの広い高速・超高速エレベ−タ−への適用ある
いはやや応答の遅い制御装置の活用に対して、必ずしも
最適な制御デ−タが選択されないという、実用化上の問
題がある。また、特公昭５８−３９７５３号公報には、
非接触磁気ガイドとレ−ルとの間のギャップを一定に制
御することが述べられているが、この公報の技術は、ギ
ャップ一定制御であるが故、レ−ル不整が存在すれば、
非接触磁気ガイド側つまり乗りかご側もレ−ル不整に対
応して横ゆれするという本質的な問題がある。本発明の
目的は、前記従来技術の問題点を解決し、案内レ−ルの
設置不整、速度の速いエレベ−タ−に対して応答速度の
遅い制御系において、常に安定した乗りかごの走行性能
を発揮しうるエレベ−タ−の走行案内装置を提供するこ
とにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、エレベ
−タ−乗りかごと、これを昇降路内レ−ルに沿って走行
案内するガイド装置を備えたエレベ−タ−システムにお
いて、上記ガイド装置を案内制御する案内制御装置を有
し、上記案内制御装置に上記エレベ−タ−乗りかごの予
測かご位置に応じた制御指令を入力し、上記制御指令に
基づいて上記ガイド装置を制御することにより、達成さ
れる。

【０００５】

【作用】エレベ−タ−乗りかごの案内制御装置を含む制
御系やアクチュエ−タの応答遅れ等の要素を折り込んだ
制御指令を、乗りかごの現在位置、エレベ−タ−の走行
速度ないしはエレベ−タ−の走行速度変化率、ガイド装
置の制御動作遅れ時間から算出し、乗りかご位置を先読
みし、この先読みした乗りかごの予測かご位置情報に基
づいて乗りかごのガイド装置を制御する。これにより、
エレベ−タ−乗りかごは等価的に時間遅れなく制御さ
れ、横揺れの少ない姿勢制御が実現できる。

【０００６】

【実施例】以下、本発明によるエレベ−タ−の走行案内
装置の実施例を図面により詳細に説明する。図１は本発
明が適用されるエレベ−タ−装置の全体構成を示す図、
図２は１組の磁気ガイドの構成を示す斜視図、図３は磁
気ガイドの制御を説明する図をそれぞれ示す。図１〜図
３において、１は乗りかご、２はかご枠、３は乗りかご
１の上部に設置した案内制御装置、４、４−１、４−２
は案内レ−ル、５はロ−プ、６はブラケット、７はシャ
フト壁面、８は連絡線、９はガイド装置の一例である非
接触磁気ガイド、９−１、９−２、９−４、９−５、９
−７は電磁コイル、９−３、９−６、９−９は鉄心、９
−１０、９−１１はギャップセンサ、９−１２、９−１
４、９−１５は支持板、１０は制御増幅器、Ｍ１〜Ｍ３
は電磁石である。本発明が適用されるエレベ−タ−装置
は、図１に示すように、シャフト壁面７にブラケット６
により固定された２本の案内レ−ル４−１、４−２の間
に、かご枠２に支持された乗りかご１が非接触磁気ガイ
ド装置９によって案内されて、ロ−プ５により吊り下げ
られ、図示しない駆動装置により上下方向に移動可能に
構成されている。磁気ガイド９は、この磁気ガイド９を
制御するための案内制御装置３に、電流供給およびセン
サフィ−ドバック等の連絡線８を介して接続され、乗り
かご１を案内レ−ル４−１、４−２に沿って案内制御す
る。この磁気ガイド９は、図示例の場合、乗りかごの上
下、左右に４組が設けられている。次に、磁気ガイド９
のうち１組の構成を図２により説明する。磁気ガイド９
は、電磁コイル９−１、９−２と鉄心９−３及びギャッ
プセンサ９−１０とを１組とした電磁石Ｍ１及び同様に
形成される電磁石Ｍ２，Ｍ３を備え、これらの電磁石Ｍ
１〜Ｍ３を、乗りかご１の支持枠２に固定した支持板９
−１２、９−１４、９−１５に取り付けて構成されてい
る。そして、電磁ガイド９は、前述の構成により、案内
レ−ル４に対して３方向（Ｘ、Ｘ’、Ｙ方向）に電磁力
を発生させ、案内レ−ル４に吸引力を作用させ、この吸
引力を制御することにより、乗りかご１の姿勢制御を行
う。このような電磁ガイド９において、たとえば、乗り
かごの左右方向、すなわち、案内レ−ル間方向の非接触
案内は、案内レ−ル間方向に対向している電磁石Ｍ１に
より行われる。また、乗りかごの前後方向の非接触案内
は、電磁石Ｍ２と案内レ−ル４を挾んで対向している電
磁石Ｍ３との吸引力により行われる。これらの電磁石Ｍ
１〜Ｍ３の電磁力の制御は、図３に示すように、案内制
御装置３を形成する制御増幅器１０により行われ、これ
により、電磁石Ｍ１〜Ｍ３と案内レ−ル４とのギャップ
を制御する。すなわち、制御増幅器１０は、ギャップ指
令１１と、ギャップセンサ９−１０により検出された案
内レ−ル４−１と電磁石Ｍ１とのギャップ信号による帰
還信号１２とを受け、電磁石Ｍ１に電磁制御信号１３を
与えてギャップを制御する。ここで、電磁制御信号１３
は、電流検出器１４により検出され、電流帰還信号１５
として、制御増幅器１０に帰還される。前述では、１つ
の電磁石Ｍ１の制御について説明したが、他の電磁石に
ついても同様に制御され、乗りかご１は案内レ−ル４に
対して電磁吸引力により非接触で案内される。さらに、
制御増幅器１０は、図示してないが、加速度や速度等を
帰還することにより、制御性能の向上を図ることができ
る。

【０００７】ここで、乗りかご１の非接触の案内制御
を、現在の乗りかご位置のみのデ−タに基づいて、ギャ
ップ指令１１により行ったのでは、乗りかご１の移動速
度に対する電磁ガイド９と制御増幅器１０の動作遅れの
影響を受け、乗りかご１に揺れが生じ、精度の高い安定
したエレベ−タ−の走行案内ができない。そこで、本発
明では、制御系の遅れ要因を折り込んだ予測乗りかご位
置のデ−タに基づいて、エレベ−タ−の走行案内制御を
行う。

【０００８】次に、このギャップ指令１１の具体的な作
成方法について詳細に説明する。図４は、本発明の一実
施例であり、ギャップ指令作成の基本フロ−チャ−トＰ
１０を示す。ここでは、現在の乗りかご位置に対応した
ギャップ指令値ではなく、予測乗りかご位置に対応した
ギャップ指令値を算出する。つまり、まず、処理Ｐ１０
０において、あるタイミングにおける予測乗りかご位置
(ＥＣＰ)を算出する。この予測乗りかご位置(ＥＣＰ)の
算出については後に詳細に述べる。次に、処理Ｐ２００
において、あらかじめ最下または最上階位置からの距離
に対応してテ−ブル化してある各磁気ガイド９へのギャ
ップ指令値１１をこの算出した予測乗りかご位置情報に
基づいて検索することによって求め、処理Ｐ３００にお
いて、前処理で求めたギャップ指令値１１を各制御増幅
器１０にギャップ指令として出力する。なお、これらの
処理を行うプログラムは、図示していない上位のタスク
管理プログラムにより管理され、通常は一定時間Δｔご
とに起動されるようにし、ガイド装置の応答時定数より
も短かくする。

【０００９】図５は、本発明の予測乗りかご位置の算出
に関する一つの実施例であり、そのフロ−チャ−トＰ１
００を示す。ここでは、現在の乗りかごの位置と現在の
乗りかごの走行速度とから予測乗りかご位置を算出す
る。つまり、まず、処理Ｐ１１０において、現在の乗り
かごの位置(ＰＣＰ)を求め、処理Ｐ１２０において、現
在の乗りかごの速度(ＰＣＶ)を求める。次に、処理Ｐ１
３０において、所定時間Δｔ間に移動する乗りかごの予
測移動距離(ＥＴＤ)を現在の乗りかごの速度(ＰＣＶ)と
所定時間Δｔから算出（ＥＴＤ←Δｔ×ＰＣＶ）し、処
理Ｐ１４０において、乗りかごの運転方向を判定して、
上昇運転の場合は処理Ｐ１５０、下降運転の場合はＰ１
６０において、現在の乗りかごの位置(ＰＣＰ)とΔｔ間
に移動する乗りかごの移動距離(ＥＴＤ)から予測乗りか
ご位置（ＥＣＰ）を算出（ＥＣＰ←ＰＣＰ±ＥＴＤ）
し、処理を終了する。なお、ここでは、Δｔ間に移動す
る乗りかごの予測移動距離(ＥＴＤ)を現在の乗りかごの
速度がしばし継続すること、電磁ガイド９と制御増幅器
１０の動作遅れ時間が少ないことおよびギャップ指令テ
−ブルは最下階から上に向かってテ−ブル化してあるこ
と等を仮定して算出する例を示している。

【００１０】図６に、最下階から最上階までの最下から
の各絶対位置に対応して、各磁気ガイド９に与えるべき
ギャップ指令のデ−タテ−ブルの一例を示す。磁気ガイ
ド９は、図１に示すように、乗りかご１の上部と下部お
よびそれぞれの左右の計４箇所に設け、図２に示すよう
に、各箇所に３個の電磁石Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３を設ける
が、前後方向の一対の電磁石へのギャップ指令はレ−ル
厚みが不変であることから、前後と左右の２つのギャッ
プ指令でよい。このため、全部のギャップ指令として
は、図示のように８本のテ−ブルを持てば良いことにな
る。なお、図中の例として記載してある数値は、ギャッ
プ指令のｍｍ値の例である。また、記憶しなければなら
ない最下階からの絶対位置の間隔は、８本のデ−タテ−
ブルに必要なメモリエリアの制約、レ−ル１本当りの長
さ、レ−ルのたわみ易さなどから決定される。なお、こ
のデ−タテ−ブルのうち、上部ガイドまたは下部ガイド
について、両ガイドの設置距離間隔分の補正をデ−タテ
−ブル値により行えば、テ−ブル本数は、図６の上部ガ
イド用または下部ガイド用のどちらか一方を省略するこ
とが可能であり、デ−タテ−ブルを４本に半減すること
ができる。これにより、処理時間の短縮が図れる。

【００１１】図７は、現在の乗りかごの位置(ＰＣＰ)検
出を示すフロ−チャ−トＰ１１０である。まず、処理Ｐ
１１１において、今回のカウンタ値の読みだしを行う。
このカウンタは、乗りかごの移動に伴ってパルスを発生
するパルス発生器(図示していない。)の出力をカウント
する。なお、パルス発生器は、エレベ−タ−乗りかご１
の上部に設けられかつかごの移動によって駆動される。
または、機械室に設けられた巻上げ機によって駆動され
る。次に、処理Ｐ１１２において、乗りかごの移動量
(ＴＤ)を算出する。ここでは、今回の読みだしカウンタ
値から前回のカウンタ値を減算して求める。次に、運転
方向を処理Ｐ１１３において判断し、処理Ｐ１１４、Ｐ
１１５において、上昇または下降運転における前回の乗
りかご位置と移動量(ＴＤ)とから今回の(現在の)乗りか
ご位置(ＰＣＰ)を算出（今回ＰＣＰ←前回ＰＣＰ±Ｔ
Ｄ）し、処理Ｐ１１６において、前回カウンタ値を格納
しておくエリアに今回のカウンタ値を入力し、次回の演
算の準備をするとともに、処理Ｐ１１７において、前回
の乗りかご位置を格納しておくエリアに今回の乗りかご
位置情報を格納して、処理を終わる。

【００１２】図８は、現在の乗りかご速度(ＰＣＶ)の算
出を示すフロ−チャ−トＰ１２０である。まず、処理Ｐ
１２１において、今回のカウンタ値の読みだしを行う。
この処理は図７の処理Ｐ１１１と同様である。次に、処
理Ｐ１２２において、現在の乗りかご速度(ＰＣＶ)の算
出を行う。ここでは、(｜今回のカウンタ値−前回のカ
ウンタ値｜)／(Δｔ・ｋ)から速度を算出している。Δ
ｔはカウンタ値の読みだし時間間隔、ｋは速度に換算す
る際の換算係数である。続いて、処理Ｐ１２３におい
て、前回カウンタ値を格納しておくエリアに今回カウン
タ値を格納して、今回の処理を終わる。本実施例では、
前述のように、乗りかご１の走行速度に応じて乗りかご
の位置を予測演算し、この予測乗りかご位置に対応して
ギャップ指令テ−ブルから制御に使用する制御量を検索
し、これを使ってガイド制御を行うため、エレベ−タ−
の停止時から最高速度における走行時まで、安定した乗
りかごの走行案内制御が可能である。

【００１３】次に、本発明の予測乗りかご位置の算出に
関する他の実施例を説明する。図９は、そのフロ−チャ
−トＰ１００を示す。まず、処理Ｐ１１０において、現
在の乗りかご位置（ＰＣＰ）の算出を行い、次に、処理
Ｐ１２０において、現在の乗りかご速度（ＰＣＶ）の算
出を行う。この処理Ｐ１１０，Ｐ１２０については図５
において示した処理と同じである。そして、処理Ｐ１７
０において、Δｔ後の乗りかご速度の予測値（ＥＣＶ）
を求める。これについては後に詳細に説明する。続い
て、処理Ｐ１８０において、乗りかごのΔｔ間の予測移
動距離（ＥＴＤ）を算出する。ここでは、現在の乗りか
ご速度（ＰＣＶ）とΔｔ後の予測乗りかご速度値（ＥＣ
Ｖ）との単純平均により区間速度を求め、一方、Δｔお
よび案内制御装置３のギャップ制御系から磁気ガイド９
の吸引力発生までの遅れ時間ｔｄとの和を経過時間とし
て求め、両者を掛け合わせることにより、乗りかご１の
予測移動距離（ＥＴＤ）を算出する。そして、処理Ｐ１
４０において、運転方向を判断し、処理Ｐ１５０、Ｐ１
６０において、上昇または下降運転におけるΔｔ後の予
測乗りかご位置（ＥＣＰ）を算出（ＥＣＰ←ＰＣＰ±Ｅ
ＴＤ）する。

【００１４】図１０に、処理Ｐ１７０に対応するΔｔ後
の乗りかご予測速度の算出処理のフロ−チャ−トを示
す。まず、処理Ｐ１７１において、定常走行中であるか
どうかを判定する。Ｙｅｓであれば、処理Ｐ１７２にお
いて、現在位置から停止予定階までの走行残距離が十分
あるかどうかを判断し、Ｙｅｓであれば、処理Ｐ１７３
において、現在の乗りかご速度（ＰＣＶ）をΔｔ後の乗
りかご予測速度（ＥＣＶ）とする。Ｎｏであれば、処理
Ｐ１７４において、所定の加減速度α（速度変化率）の
約１／２の加減速度で減速するものとして、現在の乗り
かご速度（ＰＣＶ）をベ−スに減算処理を行い、Δｔ後
の乗りかご予測速度（ＥＣＶ）を推定する。定常走行中
でない場合は、処理Ｐ１７５において、加速または減速
中の判断を行い、加速中であれば、処理Ｐ１７６におい
て、現在の乗りかご速度（ＰＣＶ）に所定時間Δｔと所
定加速度αによる加算処理をして、Δｔ後の乗りかご予
測速度（ＥＣＶ）を算出し、減速中であれば、処理Ｐ１
７７において、減算処理をして、Δｔ後の乗りかご予測
速度（ＥＣＶ）を算出する。ここで示した実施例では、
予測乗りかご位置（ＥＣＰ）の算出要素の中に案内制御
装置３のギャップ制御系から磁気ガイド９の吸引力発生
までの遅れ時間ｔｄの要素が考慮してあり、これに基づ
いて乗りかご位置の予想値を算出、利用している。これ
により、非接触磁気ガイドの構成要素である電磁石とし
て所要の吸引力を発生させる際、省エネルギの観点から
コイルの巻き数を増やし、流す電流を減らすシステム構
成を採用しても、巻き数増加の悪影響である吸引力の発
生遅れの悪影響を回避できる長所があり、省電力でかつ
静粛な非接触磁気ガイドシステムを構築することが可能
であり、また、比較的動作速度の遅い安価なアクチュエ
−タを用いた摺動案内装置を用いても、良好な乗心地を
実現することができる。

【００１５】さらに、本発明の他の実施例を図１１及び
図１２により説明する。ここでは、ガイド装置を図１１
に示すように摺動案内装置とし、アクチュエ−タ９−１
７，９−１８で斜め方向から摺動部９−１６をレ−ル４
に押しつける構造としている。 図１２に、押しつけ指
令作成のフロ−チャ−トＰ２０を示す。まず、処理Ｐ１
００において、予測乗りかご位置（ＥＣＰ）を算出し、
処理Ｐ２００において、指令デ−タテ−ブルから乗りか
ご位置に対応した指令を検索して求め、処理Ｐ４００に
おいて、乗りかごの走行速度が遅いかどうかを判断し、
Ｙｅｓであれば、検索した指令値と同じ押しつけ力と
し、Ｎｏであれば、処理Ｐ５００において、検索した指
令値を少し押しつけ力を弱める方向に修正する処理を行
い、処理Ｐ３００において、制御増幅器１０に指令を出
力する。なお、本実施例においては、押しつけ指令とし
て、最下階から最上階までの最下からの各絶対位置に対
応して、各アクチュエ−タ９−１７，９−１８に与える
べき摺動案内装置の乗りかごからの変位指令のデ−タテ
−ブル（図示していない。）を有する。このようにすれ
ば、ガイド装置として摺動案内装置を用いても、摺動騒
音が大きくなる乗りかご速度の速い領域において、押し
つけ指令を減らすことができる。

【００１６】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、案
内レ−ルの設置不整、案内制御装置を含む制御系の動作
遅れなどの影響を受けることがないので、速度の速い高
速・超高速エレベ−タ−に対して応答速度が遅い制御系
においても、常に安定した乗りかごの走行性能を発揮
し、乗りかごの姿勢を最適に制御するとともに乗りかご
の不快な横ゆれ等を低減することができる。また、案内
レ−ルの設置不整の影響を受けないことから、ある程度
レ−ル布設工事をラフに行ってもよいという工事性改善
に顕著な効果がある。また、パルス発生器を乗りかごに
設けた場合、速度算出などの処理を行う案内制御装置と
ともに一括集中して設置することになるので、ロ−プ伸
びやかごの縦振動が発生したときにおいても、乗りかご
そのものの位置を正確に測定でき、ノイズ混入の恐れが
少くならびに調整が１ヶ所でできるなどのシステム実現
上の効果が顕著である。あるいは、パルス発生器を機械
室に設置した場合、巻上げ機により直接駆動することが
できるので、巻上げ機の速度制御を行っているマイコン
のデ−タを流用でき、特に、専用のマイコンを設けなく
ても良い効果がある。また、現在の乗りかご速度ばかり
ではなく、所定時間後の乗りかご速度の変化も考慮して
乗りかご位置の予想値を算出、利用することから、ある
程度アクチュエ−タの応答速度が遅くても、これをデ−
タ読みだしの工夫により補うことができ、また、タイマ
割込みインタ−バルがアクチュエ−タの応答速度よりも
速いものの絶対時間的には比較的ゆっくりと設定でき、
安価なマイクロプロセッサを用いてシステムを構築でき
るという工業上の効果がある。さらに、ガイド装置とし
て摺動案内装置を用いても、押しつけ指令を調整するこ
とにより、摺動騒音を軽減することができ、このように
して、センサ類が少なく装置が安価な摺動案内装置をエ
レベ−タ−に適用できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明が適用されるエレベ−タ−装置の全体構
成を示す図

【図２】ガイド装置として１組の磁気ガイドの構成を示
す斜視図

【図３】磁気ガイドの制御を説明する図

【図４】本発明の一実施例を示すギャップ指令作成の基
本フロ−チャ−ト

【図５】本発明の予測乗りかご位置の算出に関する一つ
のフロ−チャ−ト

【図６】ギャップ指令のデ−タテ−ブルの一例

【図７】現在の乗りかごの位置検出を示すフロ−チャ−
ト

【図８】現在の乗りかご速度の算出フロ−チャ−ト

【図９】本発明の予測乗りかご位置の算出に関する他の
フロ−チャ−ト

【図１０】Δｔ後の乗りかご予測速度の算出フロ−チャ
−ト

【図１１】ガイド装置として１組の摺動案内装置の構成
を示す斜視図

【図１２】本発明の他の実施例を示す押しつけ指令作成
のフロ−チャ−ト

【符号の説明】

１ 乗りかご ２ かご枠 ３ 案内制御装置 ４ 案内レ−ル ５ ロ−プ ６ レ−ルブラケット ７ 昇降路壁面 ８ 連絡線 ９ ガイド装置 １０ 制御増幅器 １１ ギャップ指令 Ｐ１０ ギャップ指令作成プログラム ＥＣＰ 予測乗りかご位置 ＰＣＰ 現在乗りかご位置 ＰＣＶ 現在乗りかご速度 ＥＴＤ 予測移動距離 ＴＤ 乗りかご移動量 ＥＣＶ 予測乗りかご速度 Δｔ 所定時間 α 乗りかご加速度

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 正信 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 重田 政之 茨城県勝田市市毛1070番地 株式会社日立 製作所水戸工場内 (72)発明者 安藤 武喜 東京都千代田区神田錦町一丁目６番地 株 式会社日立ビルシステムサービス内 (72)発明者 軒田 昭浩 東京都千代田区神田錦町一丁目６番地 株 式会社日立ビルシステムサービス内 (72)発明者 目黒 都志雄 茨城県勝田市市毛1070番地 株式会社日立 製作所水戸工場内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 エレベ−タ−乗りかごと、これを昇降路
   内レ−ルに沿って走行案内するガイド装置を備えたエレ
   ベ−タ−システムにおいて、上記ガイド装置を案内制御
   する案内制御装置を有し、上記案内制御装置に上記エレ
   ベ−タ−乗りかごの予測かご位置に応じた制御指令を入
   力し、上記制御指令に基づいて上記ガイド装置を制御す
   ることを特徴とするエレベ−タ−の走行案内装置。
2. 【請求項２】 請求項１において、エレベ−タ−乗りか
   ごの予測かご位置は、乗りかごの現在位置と、乗りかご
   速度ないしは乗りかご速度変化率と、ガイド装置の制御
   動作遅れ時間から算出することを特徴とするエレベ−タ
   −の走行案内装置。
3. 【請求項３】 請求項２において、乗りかごの現在の位
   置、乗りかご速度及び乗りかご速度変化率は、エレベ−
   タ−乗りかごに設けられかつかごの移動によって駆動さ
   れるパルス発生器の出力から求めることを特徴とするエ
   レベ−タ−の走行案内装置。
4. 【請求項４】 請求項２において、乗りかごの現在の位
   置、乗りかご速度及び乗りかご速度変化率は、機械室に
   設けられた巻上げ機によって駆動されるパルス発生器の
   出力から求めることを特徴とするエレベ−タ−の走行案
   内装置。
5. 【請求項５】 請求項１ないし請求項４のいずれかにお
   いて、エレベ−タ−乗りかごの予測かご位置の算出間隔
   は、ガイド装置の応答時定数よりも短いことを特徴とす
   るエレベ−タ−の走行案内装置。
6. 【請求項６】 請求項１において、ガイド装置は、昇降
   路内レ−ルに対向して設置された非接触磁気ガイドまた
   は摺動案内装置により構成されることを特徴とするエレ
   ベ−タ−の走行案内装置。
7. 【請求項７】 請求項６において、制御指令は、昇降路
   内レ−ルとこれに対向して設置された非接触磁気ガイド
   との間のギャップ指令、または、昇降路内レ−ルに対向
   して設置された摺動案内装置の乗りかごからの変位指令
   であることを特徴とするエレベ−タ−の走行案内装置。
8. 【請求項８】 請求項１において、ガイド装置を案内制
   御する案内制御装置は、エレベ−タ−乗りかごに設置さ
   れることを特徴とするエレベ−タ−の走行案内装置。