JPH05154434A - 潤滑膜形成方法およびそれを用いた磁気ディスク - Google Patents

潤滑膜形成方法およびそれを用いた磁気ディスク

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JPH05154434A
JPH05154434A JP3322829A JP32282991A JPH05154434A JP H05154434 A JPH05154434 A JP H05154434A JP 3322829 A JP3322829 A JP 3322829A JP 32282991 A JP32282991 A JP 32282991A JP H05154434 A JPH05154434 A JP H05154434A
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JP
Japan
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lubricating film
compound
film
lubricating
magnetic disk
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Pending
Application number
JP3322829A
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English (en)
Inventor
Hisashi Morooka
寿至 師岡
Takayuki Nakakawaji
孝行 中川路
Saburo Shoji
三良 庄司
Yutaka Ito
伊藤  豊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】骨格にパーフロロポリエーテル基を持ち、低表
面エネルギを示す化合物の単分子状の均一で緻密な薄膜
を形成する方法を提供し、高耐久性潤滑膜を提供する。 【構成】末端に非イオン性の親水性置換基を持ち、骨格
に疎水性の強いパーフロロポリエーテル基を持つ化合物
において、骨格として一般式F−(CF2CF2CF2O)x− で表
されるパーフロロポリエ−テル基(x≧14)を選び、
さらにラングミュアーブロジェット法を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は潤滑膜形成方法に係り、
特に、磁気ディスク等に用いる潤滑膜の形成法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】骨格にパーフロロポリエーテル基を持つ
化合物は表面張力が小さいために、これを塗布した表面
は低表面エネルギを示すことが知られており、スピンコ
ート法あるいは、ディップコート法によって膜を形成す
ることが可能である。作成された膜は、潤滑特性,撥水
性,撥油性などの優れた特性をもち、磁気ディスク表面
の潤滑膜など様々な分野で用いられている。しかし、薄
膜状態で、この低表面エネルギ性を示すためには、膜が
緻密で均一であることが要求される。ところが、骨格に
パーフロロポリエーテル基を持つ化合物の薄膜では、膜
厚を薄くすると緻密性,均一性が低下して、表面の被覆
率をあげることが困難であった。
【0003】一般に緻密で均一な薄膜を得る方法は、水
面上に単分子膜を作成し、圧縮した後、基板に転写する
ラングミュアーブロジェット法がよく知られている。従
来、ラングミュアーブロジェット法でフッ素系化合物膜
を形成する方法として、特開平2−281416 号,特開昭62
−572 号,特開昭63−113934号,特開昭63−102039号公
報が知られている。しかし、特開平2−281416号,特開
昭62−572号公報のように炭素原子数が12ないし40
個の脂肪族鎖を持つ化合物や炭素原子数5ないし20個
のパーフルオロアルキル基および炭素原子数0ないし1
0個のアルキル基を持つ化合物を用いた方法は、分子鎖
が短いために潤滑膜として必要な耐荷重性が不足してい
る。また、特開昭63−113934号,特開昭63−102039号公
報のようにイオン化した化合物を用いた場合、被覆する
金属薄膜によっては耐食性向上が要求される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は骨格にパーフ
ロロポリエーテル基を持つ化合物の単分子状の均一で緻
密な薄膜を形成する方法を提供し、高耐久性潤滑膜を提
供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】基板上に均一で緻密な膜
を作成するには、化合物分子が基板上で特定の方向に配
向し、秩序正しく密に配列することが必要である。
【0006】各種パーフロロポリエーテル系化合物を水
面上に展開し表面圧と分子当たりの面積の関係を示すπ
−A曲線を測定すると、表面圧は圧縮の初期から緩やか
に上昇する。これは、分子間隔が少しでも狭くなると分
子間反発力が働き、緻密な膜を形成することを妨げてい
るためと考えることができる。従って、パーフロロポリ
エーテル系化合物の安定な単分子膜を得ることは難し
い。
【0007】骨格として一般式F−(CF2CF2CF2
O)x −で表されるパーフロロポリエーテル基(x≧1
4)を持つ化合物の膜は、優れた潤滑特性を示すことが
わかっている。この化合物の末端に特定の親水性置換基
を導入し分子骨格の疎水性と末端の親水性とのバランス
がとれた両親媒性化合物にすることによって、ラングミ
ュアーブロジェット法によって均一で緻密な薄膜を形成
することができ、高耐久性潤滑膜を得られるようになっ
た。
【0008】
【作用】親水性末端と特定の疎水性骨格を持つ化合物を
選び、ラングミュアーブロジェット法を用いることによ
って緻密で均一な薄膜の作成が容易になる。さらに、こ
れを用いた潤滑膜は潤滑性に優れている。
【0009】
【実施例】
〈実施例1〜3〉一般式、Rf−Xで表される化合物の
Rf−およびX−の構造を表1に示す。
【0010】
【表1】
【0011】1〜3の化合物をラングミュアーブロジェ
ット法によって磁気ディスク表面に潤滑膜として塗布
し、潤滑性能をCSS(コンタクト・スタート・アンド
・ストップ)試験により評価した。図1に試験した磁気
ディスクの膜構造をCSS試験結果を表1に示す。
【0012】CSS3k回後1rpmで摩擦力を測定し
たところ最大3gfといずれも小さく、また、CSS1
0k回後もクラッシュすることはなかった。すなわち、
1〜3の化合物を用いラングミュアーブロジェット法で
塗布することによって緻密で均一な潤滑膜が形成できた
ことにより、高耐久性潤滑膜が得られた。
【0013】〈比較例1〜3〉実施例1〜3の化合物を
ディップ法によって実施例1〜3と同じ膜構造の磁気デ
ィスク表面に潤滑膜として塗布し、潤滑性能をCSS試
験により評価した。試験結果を表1に示す。CSS3k
回後1rpmで測定した摩擦力は実施例に比べて大き
く、潤滑特性が劣ることがわかった。
【0014】〈実施例4〉骨格の長さの異なる化合物
(x=7,10,14,32)をラングミュアーブロジェ
ット法によって磁気ディスク表面に潤滑膜として塗布
し、潤滑性能をCSS(コンタクト・スタート・アンド
・ストップ)試験により評価した。1の化合物の試験結
果を図2に示す。CSS3k回後1rpmで摩擦力を測
定した結果、x=14以上で著しく低い値を示すことが
わかった。
【0015】
【発明の効果】非イオン性の親水性末端および一般式F
−(CF2CF2CF2O)x− で表されるパーフロロポリ
エ−テル基(x≧14)を持つ化合物を選びラングミュ
アーブロジェット法を用いることにより、均一で緻密な
薄膜を作成でき、高耐久性潤滑膜が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図1】潤滑性能評価に用いた磁気ディスクの膜構造断
面図。
【図2】骨格の長さの異なる実施例1〜3の化合物をラ
ングミュアーブロジェット法によって磁気ディスク表面
に潤滑膜として塗布し、潤滑性能の評価としてCSS試
験結果の特性図。
【符号の説明】
1…潤滑膜、2…保護膜、3…磁性層、4…下地層、5
…基板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 豊 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式F−(CF2CF2CF2O)x− で表
    されるパーフロロポリエーテル基(x≧14)を持ち、
    非イオン性の親水性置換基を持つ化合物をラングミュア
    ーブロジェット法によって塗布することを特徴とする潤
    滑膜形成方法。
  2. 【請求項2】親水性置換基が−CONH−R,−COO
    −R,−CO(OCm2mn−R(Rは1価の置換基、
    m,nは1以上の整数を示す)からなる群から選ばれた
    請求項1の潤滑膜形成方法。
  3. 【請求項3】請求項1の潤滑膜形成方法によって形成さ
    れた潤滑膜。
  4. 【請求項4】請求項2の潤滑膜形成方法によって形成さ
    れた潤滑膜。
  5. 【請求項5】請求項1に記載の方法で潤滑膜を形成した
    磁気ディスク。
  6. 【請求項6】請求項2に記載の方法で潤滑膜を形成した
    磁気ディスク。
JP3322829A 1991-12-06 1991-12-06 潤滑膜形成方法およびそれを用いた磁気ディスク Pending JPH05154434A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2021060199A1 (ja) * 2019-09-27 2021-04-01

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JPWO2021060199A1 (ja) * 2019-09-27 2021-04-01
WO2021060199A1 (ja) * 2019-09-27 2021-04-01 Agc株式会社 含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法、並びに化合物
CN114555707A (zh) * 2019-09-27 2022-05-27 Agc株式会社 含氟醚组合物、涂布液、物品及其制造方法、以及化合物
CN114555707B (zh) * 2019-09-27 2024-04-23 Agc株式会社 含氟醚组合物、涂布液、物品及其制造方法、以及化合物

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