JPH0515055B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0515055B2 JPH0515055B2 JP60211138A JP21113885A JPH0515055B2 JP H0515055 B2 JPH0515055 B2 JP H0515055B2 JP 60211138 A JP60211138 A JP 60211138A JP 21113885 A JP21113885 A JP 21113885A JP H0515055 B2 JPH0515055 B2 JP H0515055B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alignment
- wafer
- mask
- printing apparatus
- shot
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60211138A JPS6272125A (ja) | 1985-09-26 | 1985-09-26 | 半導体焼付装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60211138A JPS6272125A (ja) | 1985-09-26 | 1985-09-26 | 半導体焼付装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6272125A JPS6272125A (ja) | 1987-04-02 |
| JPH0515055B2 true JPH0515055B2 (enrdf_load_html_response) | 1993-02-26 |
Family
ID=16601010
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60211138A Granted JPS6272125A (ja) | 1985-09-26 | 1985-09-26 | 半導体焼付装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6272125A (enrdf_load_html_response) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4563356B2 (ja) * | 2006-08-11 | 2010-10-13 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置 |
| JP4797101B2 (ja) * | 2009-11-12 | 2011-10-19 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置における表示方法及び半導体製造装置 |
| JP4797108B2 (ja) * | 2010-03-16 | 2011-10-19 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置における表示方法及び半導体製造装置 |
| JP5166575B2 (ja) * | 2011-07-07 | 2013-03-21 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置における表示方法及び半導体製造装置 |
| JP2012227539A (ja) * | 2012-06-20 | 2012-11-15 | Hitachi Kokusai Electric Inc | ウエハ搭載状況の表示方法、表示プログラム、半導体製造装置及び半導体装置の表示方法 |
-
1985
- 1985-09-26 JP JP60211138A patent/JPS6272125A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6272125A (ja) | 1987-04-02 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |