JPH05149847A - 黒鉛中の不純物分析方法 - Google Patents
黒鉛中の不純物分析方法Info
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- JPH05149847A JPH05149847A JP3337575A JP33757591A JPH05149847A JP H05149847 A JPH05149847 A JP H05149847A JP 3337575 A JP3337575 A JP 3337575A JP 33757591 A JP33757591 A JP 33757591A JP H05149847 A JPH05149847 A JP H05149847A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 黒鉛中の不純物を分析するに際し、工程の簡
略化を図り、200℃程度の低温分析ができ、かつ正確
な分析を可能とする。 【構成】 微粉状の黒鉛試料に、硫酸と硝酸及び/又は
過酸化水素からなる混酸を加え、マイクロウェーブを照
射して該黒鉛試料を分解し、分析に供する。
略化を図り、200℃程度の低温分析ができ、かつ正確
な分析を可能とする。 【構成】 微粉状の黒鉛試料に、硫酸と硝酸及び/又は
過酸化水素からなる混酸を加え、マイクロウェーブを照
射して該黒鉛試料を分解し、分析に供する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、黒鉛を利用するような
半導体製造工程での不純物管理に有効に用いられる黒鉛
中の不純物分析方法の改良に関する。
半導体製造工程での不純物管理に有効に用いられる黒鉛
中の不純物分析方法の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、黒鉛を利用するような半導体製造
工程、例えばチョクラルスキー法による結晶製造や、エ
ピタキシャル薄膜製造工程における不純物の混入を防ぐ
ことは重要である。なぜならば、このような工程で作ら
れる製品は半導体素子の基板として使用されるが、この
基板のなかに鉄(Fe)、ナトリウム(Na)、銅(C
u)などの不純物が存在すると、たとえその量が極微量
であったとしても素子の電気特性に影響を与えるからで
ある。
工程、例えばチョクラルスキー法による結晶製造や、エ
ピタキシャル薄膜製造工程における不純物の混入を防ぐ
ことは重要である。なぜならば、このような工程で作ら
れる製品は半導体素子の基板として使用されるが、この
基板のなかに鉄(Fe)、ナトリウム(Na)、銅(C
u)などの不純物が存在すると、たとえその量が極微量
であったとしても素子の電気特性に影響を与えるからで
ある。
【0003】このような不純物の混入を防ぐ不純物管理
を行う前提として、まず黒鉛中の不純物分析を行うこと
が不可欠である。
を行う前提として、まず黒鉛中の不純物分析を行うこと
が不可欠である。
【0004】黒鉛中の不純物を分析するために初期の段
階では発光分析が用いられていた。しかし、この方法で
は検出限界が高いため半導体製造工程に使用するような
高純度黒鉛中の不純物分析は不可能であった。このた
め、溶液分析が必要となってきた。この場合の前処理方
法としては、乾式灰化法が用いられてきた。
階では発光分析が用いられていた。しかし、この方法で
は検出限界が高いため半導体製造工程に使用するような
高純度黒鉛中の不純物分析は不可能であった。このた
め、溶液分析が必要となってきた。この場合の前処理方
法としては、乾式灰化法が用いられてきた。
【0005】乾式灰化法は次のような手順で行われる。
即ち、サンプリング→灰化→溶解→蒸発乾固→再溶解→
分析である。この時の灰化は、酸素雰囲気中1000℃
程度で行われる。また、溶解は硝酸及び弗酸の混合液が
用いられる。
即ち、サンプリング→灰化→溶解→蒸発乾固→再溶解→
分析である。この時の灰化は、酸素雰囲気中1000℃
程度で行われる。また、溶解は硝酸及び弗酸の混合液が
用いられる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この乾
式灰化法では1000℃という高温が必要なため不純物
元素の揮発及び処理中の汚染の恐れがある。また、分析
までに5工程が必要なため時間を要するという問題があ
った。
式灰化法では1000℃という高温が必要なため不純物
元素の揮発及び処理中の汚染の恐れがある。また、分析
までに5工程が必要なため時間を要するという問題があ
った。
【0007】本発明は、上記した従来技術に鑑みてなさ
れたもので、工程の簡略化ができるとともに200℃程
度の低温で分析ができ、正確な分析が可能で、有用性の
極めて大きい黒鉛中の不純物分析方法を提供することを
目的とする。
れたもので、工程の簡略化ができるとともに200℃程
度の低温で分析ができ、正確な分析が可能で、有用性の
極めて大きい黒鉛中の不純物分析方法を提供することを
目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明においては、微粒状の黒鉛試料に、硫酸と硝
酸及び/又は過酸化水素からなる混酸を加え、マイクロ
ウェーブを照射して該黒鉛試料を分解し、分析に供する
ようにしたものである。
に、本発明においては、微粒状の黒鉛試料に、硫酸と硝
酸及び/又は過酸化水素からなる混酸を加え、マイクロ
ウェーブを照射して該黒鉛試料を分解し、分析に供する
ようにしたものである。
【0009】上記黒鉛試料を微粒状とする手段として
は、高純度シリコンのナイフ状加工品を用いるのが不純
物の混入を防ぐ意味から好ましく、具体的にはシリコン
ウェーハをナイフ状に加工したものを用いるのが好まし
い。
は、高純度シリコンのナイフ状加工品を用いるのが不純
物の混入を防ぐ意味から好ましく、具体的にはシリコン
ウェーハをナイフ状に加工したものを用いるのが好まし
い。
【0010】微粒状の黒鉛試料の粒径は1mm以下が好
ましく、また針状の試料の場合には直径が1mm以下と
するのが好ましい。
ましく、また針状の試料の場合には直径が1mm以下と
するのが好ましい。
【0011】本発明において、混酸として用いられるも
のは、硫酸と硝酸及び/又は過酸化水素とからなるもの
である。硫酸に硝酸及び/又は過酸化水素を加える状態
としては、最初から加えてもよいし、所定時間経過後に
硝酸及び/又は過酸化水素を加えることもできる。
のは、硫酸と硝酸及び/又は過酸化水素とからなるもの
である。硫酸に硝酸及び/又は過酸化水素を加える状態
としては、最初から加えてもよいし、所定時間経過後に
硝酸及び/又は過酸化水素を加えることもできる。
【0012】硫酸:硝酸及び/又は過酸化水素の混合割
合は10:1〜1:10程度が好ましい。あまり硫酸が
多いと、分解に時間がかかり、硝酸及び/又は過酸化水
素が多過ぎると蒸発の危険性がある。
合は10:1〜1:10程度が好ましい。あまり硫酸が
多いと、分解に時間がかかり、硝酸及び/又は過酸化水
素が多過ぎると蒸発の危険性がある。
【0013】硝酸と過酸化水素とを併用する場合、硝
酸:過酸化水素の配合割合は、1:99〜99:1程度
が好ましい。
酸:過酸化水素の配合割合は、1:99〜99:1程度
が好ましい。
【0014】マイクロウェーブの照射は、例えば市販の
マイクロウェーブ灰化装置を用いることによって行うこ
とができる。このマイクロウェーブの照射時間は、用い
る混酸の成分によっても異なるが、例えば黒鉛試料0.
02gに対しては大体3時間程度照射すれば分解ができ
る。
マイクロウェーブ灰化装置を用いることによって行うこ
とができる。このマイクロウェーブの照射時間は、用い
る混酸の成分によっても異なるが、例えば黒鉛試料0.
02gに対しては大体3時間程度照射すれば分解ができ
る。
【0015】この分解した黒鉛試料は、脱イオン水等で
希釈して、公知の分析方法、例えば、ICP−AES
(誘導結合プラズマ発光分析)、ICP−MS(誘導結
合プラズマ質量分析)又はフレームレス原子吸光等によ
って分析される。
希釈して、公知の分析方法、例えば、ICP−AES
(誘導結合プラズマ発光分析)、ICP−MS(誘導結
合プラズマ質量分析)又はフレームレス原子吸光等によ
って分析される。
【0016】
【作用】微粒状の黒鉛試料を加熱しただけでは、分解は
ほとんど生じない。しかし、本発明者は、マイクロウェ
ーブを照射することにより加熱に加え、液の分子振動に
より黒鉛表面への反応物質の供給を高めることができ、
分解を生ずることを見出し本発明を完成したものであ
る。
ほとんど生じない。しかし、本発明者は、マイクロウェ
ーブを照射することにより加熱に加え、液の分子振動に
より黒鉛表面への反応物質の供給を高めることができ、
分解を生ずることを見出し本発明を完成したものであ
る。
【0017】このとき、黒鉛と酸の接する面積が大きい
ほど反応は早く進むが、このためには、試料の粒径を小
さくすればよいものである。この試料の粒径を小さくす
るには、機械的な切削が最もよいが、用いる治具からの
汚染が生じる可能性がある。これを防ぐために、本発明
においてはシリコン単結晶を用いた治具、例えばシリコ
ンウェーハをナイフ状に加工した物を用いている。シリ
コン単結晶は、非常に高純度であるためシリコン以外の
汚染は生じない。
ほど反応は早く進むが、このためには、試料の粒径を小
さくすればよいものである。この試料の粒径を小さくす
るには、機械的な切削が最もよいが、用いる治具からの
汚染が生じる可能性がある。これを防ぐために、本発明
においてはシリコン単結晶を用いた治具、例えばシリコ
ンウェーハをナイフ状に加工した物を用いている。シリ
コン単結晶は、非常に高純度であるためシリコン以外の
汚染は生じない。
【0018】また、本発明において、黒鉛試料の分解に
硫酸を用いるのは沸点が高いために分解中の蒸発が生じ
ないようにするためである。しかし、硫酸だけでは分解
が進行しないため酸化剤を加える必要がある。本発明で
は、この酸化剤の作用を行うものとして硝酸及び/又は
過酸化水素を加える。この酸化剤の加え方としては最初
から加えてもよいし、最初は硫酸のみを用い、所定時間
経過後に一定時間おきに小量づつ加えることもできる。
硫酸を用いるのは沸点が高いために分解中の蒸発が生じ
ないようにするためである。しかし、硫酸だけでは分解
が進行しないため酸化剤を加える必要がある。本発明で
は、この酸化剤の作用を行うものとして硝酸及び/又は
過酸化水素を加える。この酸化剤の加え方としては最初
から加えてもよいし、最初は硫酸のみを用い、所定時間
経過後に一定時間おきに小量づつ加えることもできる。
【0019】
【実施例】以下に本発明を実施例を用いて説明するが、
本発明がこれらの実施例に限定されるものでないことは
いうまでもない。 実施例1 ブロック状の黒鉛(等方性圧縮材)を用い、これをグロ
ーブボックスの中でシリコンウェーハをナイフ状に加工
した物を用いて粒径が1mm以下になるように切削し
た。この粉末状の黒鉛試料をテフロン製のビーカーに入
れた硝酸中に30分浸漬後脱イオン水で濯ぐ作業を3回
繰り返し、表面を洗浄した。この操作を終えた粉末20
mgを石英製のビーカーに入れる。
本発明がこれらの実施例に限定されるものでないことは
いうまでもない。 実施例1 ブロック状の黒鉛(等方性圧縮材)を用い、これをグロ
ーブボックスの中でシリコンウェーハをナイフ状に加工
した物を用いて粒径が1mm以下になるように切削し
た。この粉末状の黒鉛試料をテフロン製のビーカーに入
れた硝酸中に30分浸漬後脱イオン水で濯ぐ作業を3回
繰り返し、表面を洗浄した。この操作を終えた粉末20
mgを石英製のビーカーに入れる。
【0020】これに分析用の高純度硫酸(多摩化学
(株)製、AA−1000)4mlと硝酸4mlと過酸
化水素3mlを加えた。このビーカーにマイクロウェー
ブ灰化装置(PROLABO社MICRODIGEST
300)を用いてマイクロウェーブを約3時間照射し
て、黒鉛試料を完全に溶解させた。このとき、ビーカー
中の溶液の温度は最高192℃まで上昇した。
(株)製、AA−1000)4mlと硝酸4mlと過酸
化水素3mlを加えた。このビーカーにマイクロウェー
ブ灰化装置(PROLABO社MICRODIGEST
300)を用いてマイクロウェーブを約3時間照射し
て、黒鉛試料を完全に溶解させた。このとき、ビーカー
中の溶液の温度は最高192℃まで上昇した。
【0021】得られた溶液を脱イオン水で25mlに希
釈し、フレームレス原子吸光によって分析を行った。分
析の結果は次の通りであった。 Fe:30.18ppm、Cu:1.13ppm、C
r:検出限界以下、Ni:検出限界以下、Na:検出限
界以下、Zn:検出限界以下。
釈し、フレームレス原子吸光によって分析を行った。分
析の結果は次の通りであった。 Fe:30.18ppm、Cu:1.13ppm、C
r:検出限界以下、Ni:検出限界以下、Na:検出限
界以下、Zn:検出限界以下。
【0022】実施例2 実施例1と同様の黒鉛試料20mgに高純度硫酸(多摩
化学(株)製、AA−1000)4mlと過酸化水素1
mlを加えた。このビーカーに実施例1と同様にマイク
ロウェーブを照射した。1時間経過毎に過酸化水素を1
ml加えた。約6時間で黒鉛試料が完全に溶解した。こ
のとき、ビーカー中の溶液の温度は最高194℃まで上
昇した。得られた溶液を脱イオン水で25mlに希釈
し、フレームレス原子吸光によって分析を行った。分析
の結果は次の通りであった。 Fe:30.16ppm、Cu:1.12ppm、C
r:検出限界以下、Ni:検出限界以下、Na:検出限
界以下、Zn:検出限界以下。 実施例3 実施例1と同様の黒鉛試料20mgに高純度硫酸(多摩
化学(株)製、AA−1000)4mlと硝酸1mlを
加えた。このビーカーに実施例1と同様にマイクロウェ
ーブを照射した。1時間経過毎に硝酸を1ml加えた。
約4時間で黒鉛試料が完全に溶解した。このとき、ビー
カー中の溶液の温度は最高196℃まで上昇した。得ら
れた溶液を脱イオン水で25mlに希釈し、フレームレ
ス原子吸光によって分析を行った。分析の結果は次の通
りであった。 Fe:30.17ppm、Cu:1.14ppm、C
r:検出限界以下、Ni:検出限界以下、Na:検出限
界以下、Zn:検出限界以下。 比較例1 実施例1と同様の黒鉛試料20mgに高純度硫酸(多摩
化学(株)製、AA−1000)4mlのみを加えた。
このビーカーに実施例1と同様にマイクロウェーブを6
時間照射した。黒鉛試料は全く溶解しなかった。 比較例2 シリコンウェーハをナイフ状に加工したものの代わりに
金属性ナイフを用いてブロック状の黒鉛を切削した以外
は、実施例1と同様にして黒鉛試料を溶解し、不純物の
分析を行った。分析の結果は次の通りであった。 Fe:224.00ppm、Cu:30.30ppm、
Cr:3.28ppm、Ni:391.00ppm、N
a:188.30ppm、Zn:67.00ppm。
化学(株)製、AA−1000)4mlと過酸化水素1
mlを加えた。このビーカーに実施例1と同様にマイク
ロウェーブを照射した。1時間経過毎に過酸化水素を1
ml加えた。約6時間で黒鉛試料が完全に溶解した。こ
のとき、ビーカー中の溶液の温度は最高194℃まで上
昇した。得られた溶液を脱イオン水で25mlに希釈
し、フレームレス原子吸光によって分析を行った。分析
の結果は次の通りであった。 Fe:30.16ppm、Cu:1.12ppm、C
r:検出限界以下、Ni:検出限界以下、Na:検出限
界以下、Zn:検出限界以下。 実施例3 実施例1と同様の黒鉛試料20mgに高純度硫酸(多摩
化学(株)製、AA−1000)4mlと硝酸1mlを
加えた。このビーカーに実施例1と同様にマイクロウェ
ーブを照射した。1時間経過毎に硝酸を1ml加えた。
約4時間で黒鉛試料が完全に溶解した。このとき、ビー
カー中の溶液の温度は最高196℃まで上昇した。得ら
れた溶液を脱イオン水で25mlに希釈し、フレームレ
ス原子吸光によって分析を行った。分析の結果は次の通
りであった。 Fe:30.17ppm、Cu:1.14ppm、C
r:検出限界以下、Ni:検出限界以下、Na:検出限
界以下、Zn:検出限界以下。 比較例1 実施例1と同様の黒鉛試料20mgに高純度硫酸(多摩
化学(株)製、AA−1000)4mlのみを加えた。
このビーカーに実施例1と同様にマイクロウェーブを6
時間照射した。黒鉛試料は全く溶解しなかった。 比較例2 シリコンウェーハをナイフ状に加工したものの代わりに
金属性ナイフを用いてブロック状の黒鉛を切削した以外
は、実施例1と同様にして黒鉛試料を溶解し、不純物の
分析を行った。分析の結果は次の通りであった。 Fe:224.00ppm、Cu:30.30ppm、
Cr:3.28ppm、Ni:391.00ppm、N
a:188.30ppm、Zn:67.00ppm。
【発明の効果】以上のべたごとく、本発明によれば、サ
ンプリング→分解→分析という3工程で分析が可能とな
り、工程の簡略化を達成するとともに200℃程度の低
温で黒鉛中の不純物の分析ができ、正確な分析が可能
で、有用性の極めて大きいものである。
ンプリング→分解→分析という3工程で分析が可能とな
り、工程の簡略化を達成するとともに200℃程度の低
温で黒鉛中の不純物の分析ができ、正確な分析が可能
で、有用性の極めて大きいものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩崎 淳 福井県武生市北府2丁目13番50号 信越半 導体株式会社武生工場内 (72)発明者 木暮 克之 群馬県安中市磯部2丁目13番1号 信越半 導体株式会社半導体磯部研究所内
Claims (2)
- 【請求項1】 微粒状の黒鉛試料に、硫酸と硝酸及び/
又は過酸化水素からなる混酸を加え、マイクロウェーブ
を照射して該黒鉛試料を分解し、分析に供することを特
徴とする黒鉛中の不純物分析方法。 - 【請求項2】 上記黒鉛試料を高純度シリコンのナイフ
状加工品を用いて微粒状とすることを特徴とする請求項
1記載の黒鉛中の不純物分析方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3337575A JP2659876B2 (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 半導体製造工程に使用される高純度黒鉛中の不純物分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3337575A JP2659876B2 (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 半導体製造工程に使用される高純度黒鉛中の不純物分析方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05149847A true JPH05149847A (ja) | 1993-06-15 |
JP2659876B2 JP2659876B2 (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=18309941
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3337575A Expired - Lifetime JP2659876B2 (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 半導体製造工程に使用される高純度黒鉛中の不純物分析方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2659876B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007051903A (ja) * | 2005-08-17 | 2007-03-01 | Tokuyama Corp | 金属不純物の分析方法 |
CN102175557A (zh) * | 2011-03-09 | 2011-09-07 | 湖北鄂信钻石材料有限责任公司 | 超高纯度石墨微量杂质的测试方法 |
JP2015105906A (ja) * | 2013-12-02 | 2015-06-08 | 御国色素株式会社 | 鉄分の検出方法とその検出方法により管理された炭素材料含有スラリー及びリチウムイオン電池の製造方法 |
JP2015118083A (ja) * | 2013-11-15 | 2015-06-25 | 株式会社住化分析センター | 試料調製方法、分析方法、および品質管理方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5714736A (en) * | 1980-06-30 | 1982-01-26 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Rapid, wet-type sample decomposing device |
-
1991
- 1991-11-27 JP JP3337575A patent/JP2659876B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5714736A (en) * | 1980-06-30 | 1982-01-26 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Rapid, wet-type sample decomposing device |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007051903A (ja) * | 2005-08-17 | 2007-03-01 | Tokuyama Corp | 金属不純物の分析方法 |
JP4559932B2 (ja) * | 2005-08-17 | 2010-10-13 | 株式会社トクヤマ | 金属不純物の分析方法 |
CN102175557A (zh) * | 2011-03-09 | 2011-09-07 | 湖北鄂信钻石材料有限责任公司 | 超高纯度石墨微量杂质的测试方法 |
JP2015118083A (ja) * | 2013-11-15 | 2015-06-25 | 株式会社住化分析センター | 試料調製方法、分析方法、および品質管理方法 |
JP2015105906A (ja) * | 2013-12-02 | 2015-06-08 | 御国色素株式会社 | 鉄分の検出方法とその検出方法により管理された炭素材料含有スラリー及びリチウムイオン電池の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2659876B2 (ja) | 1997-09-30 |
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