JPH05149265A - スクロ−ル形圧縮機 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 このスクロ−ル形圧縮機１０は、密閉ケ−ス
４内に設けられたフレ−ム１５と旋回スクロ−ル２２の
間に配置され、円環体２８ａの両表面にキ−２８ｂ、２
８ｃを有しかつ表面にはメッキ膜５が形成され、上記キ
−２８ｂ、２８ｃを上記フレ−ム１５と上記旋回スクロ
−ル２２に設けられたそれぞれのキ−溝１５ａ、２２ａ
に係止させて上記旋回スクロ−ル２２の自転を規制する
オルダムリング２８を具備するものであって、上記オル
ダムリング２８の円環体２８ａの表面には上記メッキ膜
５が形成されない部位Ａを設けたものである。 【効果】 このような構成によれば、メッキ膜の組成の
変化に関わりなく、上記メッキ膜の厚さを正確に管理す
ることができるので、組み立て精度が良く、信頼性の高
いスクロ−ル形圧縮機を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、スクロ−ル形圧縮機
に関する。

【０００２】

【従来の技術】スクロ−ル形圧縮機は、渦巻状に加工さ
れた２つの翼（固定スクロ−ルと旋回スクロ−ル）を組
み合わせ、これらの相対運動により気体の圧縮を行うも
のである。

【０００３】すなわち、密閉ケ−ス内に設けられたフレ
−ムに上記固定スクロ−ルを固定すると共に、同じく上
記密閉ケ−ス内に設けられたモ−タのクランク軸の上端
部に上記旋回スクロ−ルを取り付ける。

【０００４】そして、上記モ−タを作動させることによ
り、上記旋回スクロ−ルを自転させることなくこの旋回
スクロ−ルの中心を上記固定スクロ−ルの中心のまわり
に一定半径で回転させ、上記固定スクロ−ルと旋回スク
ロ−ルとを公転させる。

【０００５】この結果、上記固定スクロ−ルと旋回スク
ロ−ルによって形成された三日月形の作動室が回りなが
ら外周から中央に移動して気体を圧縮する。圧縮された
気体は上記固定スクロ−ルの中心部に形成された吐出口
から外部へ吐出される。

【０００６】また、上記スクロ−ル形圧縮機では、一般
に、上記旋回スクロ−ルの自転を防止するための手段と
して、この旋回スクロ−ルとフレ−ムとをオルダム機構
によって連結している。

【０００７】すなわち、上記旋回スクロ−ルの下面およ
び上記フレ−ムの上面に、それぞれ周方向に１８０度ず
れかつ上記回転軸の径方向にそってキ−溝を設ける。そ
して、この旋回スクロ−ルの下面と上記フレ−ムの上面
との間に図３（ａ）に示すオルダムリング１を挿入す
る。

【０００８】上記オルダムリング１は、断面矩形状の一
つの円環体２（オルダムリング本体）の両表面に、互い
に直交する２組のキ−３、４を一体的に突設したもので
ある。また、このオルダムリング１は軽量化等の理由で
アルミ合金等で形成され、かつこのオルダムリング１の
表面には上記旋回スクロ−ルおよびフレ−ムとの耐摩耗
性を向上させるために、図３（ｂ）に示すように表面処
理としてニッケル−りん合金メッキ膜５が施されてい
る。

【０００９】このオルダムリング１は、上面側に設けら
れたキ−３を上記旋回スクロ−ルの下面に設けられたキ
−溝に挿入し、下面側に設けられたキ−４を上記フレ−
ムの上面に設けられたキ−溝に挿入される。

【００１０】このことで、上記フレ−ムとオルダムリン
グ１と旋回スクロ−ルとでオルダム機構を構成し、上記
旋回スクロ−ルの中心が上記固定スクロ−ルの中心の回
りを回転しても、上記旋回スクロ−ルはフレ−ム（密閉
ケ−スに固定）と同じ位相を保ち、自転することがな
い。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記オルダ
ムリング１にニッケル−りん合金メッキ膜５を形成した
場合には、品質管理のため、所定数メッキする毎に上記
オルダムリングを抜き取り、メッキ膜５の厚さ（以下
「膜厚」と称する）の検査を行う必要がある。

【００１２】この膜厚の検査には、渦電流式の膜厚計が
一般的に用いられる。この渦電流式の膜厚計は、磁石
（測定子）と磁性物（メッキ膜５）間の磁界の強弱をホ
−ル素子で検出して膜厚に変換するものである。

【００１３】上記磁石とメッキ膜間の磁界は、メッキ膜
５が同一物質ならその厚さが大きい程強くなるものであ
る。したがって、上記膜厚の検査では、この磁界の強さ
と膜厚との相関関係をテストピ−ス等によりあらかじめ
求めておいて、この相関関係に基づいて、上記膜厚計か
ら得られる磁界の強さを膜厚に変換するようにしてい
る。

【００１４】しかし、大量のオルダムリング１にメッキ
を施す場合は、その間にメッキ液の状態等が変化し、得
られるメッキ膜５の組成（例えばりん（Ｐ）の含有量）
にばらつきが生じやすい。この場合には、上記テストピ
−スに施されたメッキ膜と組成が異なるために、磁界の
強さと膜厚とが上述の相関関係に当てはまらず、正確な
膜厚を検出することができないということがある。ま
た、上記オルダムリング１は比較的小さいので、上記膜
厚計の測定子を正確な測定方向に当てるのが困難という
こともある。

【００１５】このようにメッキ膜５の膜厚が正確に測定
できない場合には、膜厚の正確な管理ができないことに
帰するから磨耗が発生する恐れが生じ、このスクロ−ル
形圧縮機の信頼性が低下する。

【００１６】この発明は、このような事情に鑑みて成さ
れたもので、オルダムリングの表面処理膜の膜厚の管理
が正確に行え、信頼性の高いスクロ−ル形圧縮機を提供
することを目的とするものである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】この発明は、固定スクロ
−ルと、この固定スクロ−ルに対して圧縮空間を介して
旋回自在に設けられた旋回スクロ−ルと、円環体にキ−
部を有しかつ表面には表面処理膜が形成され、上記旋回
スクロ−ルの自転を規制するオルダムリングとを具備す
るスクロ−ル式圧縮機であって、上記オルダムリングの
非摺動面には、上記表面処理膜が形成される部位と形成
されない部位とが設けられていることを特徴とする。

【００１８】

【作用】このような構成によれば、上記オルダムリング
に形成された表面処理膜の厚さを、上記表面処理膜が形
成されていない部位との段差量で検出することができ
る。

【００１９】

【実施例】以下、この発明の一実施例を図面を参照して
説明する。なお、従来例と同一の構成要素には同一符号
を付してその説明は省略する。図１に示すこの発明のス
クロ−ル形圧縮機１０は、基本的には従来例と略同様の
構成を有するものであり、図中１１は、密閉ケ−スであ
る。

【００２０】この密閉ケ−ス１１内には固定板１２が設
けられ、この固定板１２には、ボルト１３によって圧縮
機構１４およびフレ−ム１５が固定されている。また、
このフレ−ム１５の下面側には、モ−タ１６が設けられ
ている。このモ−タ１６は、上記フレ−ム１５に固定さ
れた固定子１７と、この固定子１７内に回転自在に挿入
された回転子１８と、この回転子１８に下端部が嵌入支
持され上端部を上記フレ−ム１５の上面に突出させたク
ランクシャフト１９とから構成されている。

【００２１】一方、上記圧縮機構１４は従来例と同様
に、上記固定板１２に固定された固定スクロ−ル２１
と、上記クランクシャフト１９の上端部に偏心回転自在
に遊嵌されかつ上記固定スクロ−ル２１に圧縮空間２３
…を介して組み合わされた旋回スクロ−ル２２とを有し
ている。

【００２２】そして、上記固定スクロ−ル２１の上面に
は、この固定スクロ−ル２１の中心部に設けられた吐出
口２１ａを介して上記圧縮空間２３と連通する吐出室２
５が形成され、この吐出室２５は吐出カバ−２６で覆わ
れている。また、この吐出室２５には吐出管２７が接続
され、この吐出管２７は上記密閉ケ−ス１１の上面から
外部へ液密に導出されている。

【００２３】また、上記旋回スクロ−ル２２の下面と上
記フレ−ム１５の上面との対向面間には、従来例と同様
に、上記旋回スクロ−ル２２の自転を防止するためにオ
ルダムリング２８が挿入される。このオルダムリング２
８は、図２（ａ）に示すように形成されている。

【００２４】すなわち、このオルダムリング２８はアル
ミ合金で形成され、断面矩形状の円環体２８ａ（オルダ
ムリング本体）の上下面に互いに直交する２組のキ−２
８ｂ、２８ｃ（キ−部）が設けられたものである。そし
て、このオルダムリング２８の表面には、非摺動面であ
る円環体２８ａの表面の一部（図にＡで示す部位）をの
ぞいて、図２（ｂ）に示すように表面処理膜としての例
えばニッケルりん合金メッキ膜５が形成されている。

【００２５】上記メッキ膜５が形成されない部位Ａは、
例えば、メッキ前にこの部分にマスキングを施しておく
方法、あるいはメッキ後にこの部位のメッキ膜を化学物
質で取り除く方法で形成される。

【００２６】図１に示すように、上記オルダムリング２
８は、従来例と同様に上記２組のキ−２８ｂ、２８ｃを
上記固定スクロ−ル２１およびフレ−ム２２のそれぞれ
のキ−溝２１ａ、２２ａに挿入した状態で取り付けられ
る。

【００２７】このオルダムリング２８によって、上記旋
回スクロ−ル２２は上記固定スクロ−ル２１に対して自
転することなく旋回することができ、これによって、上
記圧縮空間２３…内の気体は圧縮されながら回り、この
固定スクロ−ル２１の外周部から中心部へ送られて順次
上記吐出口２１ａから外部へと吐出される。

【００２８】このような構成によれば、上記オルダムリ
ング２８の合金メッキ膜５の厚さ（膜厚）を測定する場
合に、機械的測長計や光学的測長計等を用いて上記メッ
キ膜が形成されていない部位Ａとその近傍のメッキ膜５
が形成されている部位Ｂ（測定部位）との段差量を測定
することで膜厚を測定することができる。

【００２９】このように、膜厚を可視的に測定すること
ができるので、上記メッキ膜５の組成のばらつきにかか
わりなく正確な膜厚を検出することができる。このこと
によって、上記オルダムリングのメッキ膜の厚さを正確
に管理することができるので、組み立て精度が良く、磨
耗が低減され、信頼性の高いスクロ−ル形圧縮機を得る
ことができる。

【００３０】また、従来例のように、テストピ−スで膜
厚と磁界の強さとの相関関係を求め、これにより渦電流
式膜厚計で上記膜厚を測定する場合でも、定期的に上記
メッキ膜が形成されいない部位Ａとその近傍のメッキ膜
の形成されている測定部位Ｂとの段差量を用いて正確な
膜厚を測定し、メッキ状態の変化に伴うメッキ膜５の組
成の変化による上記相関関係の狂いを補正するようにす
れば、上記膜厚の正確な値を得ることができる。ただ
し、この場合に正確な補正を行うには、上記測長計で測
定する部位Ｂと渦電流式の膜厚計で測定する部位とを略
一致させることが必要である。なお、この発明は、上記
一実施例に限定されるものではなく、発明の要旨を変更
しない範囲で種々変形可能である。

【００３１】例えば、上記一実施例では、図２に示すよ
うに上記メッキ膜５が形成されない部位Ａは２箇所であ
ったが、これに限定されるものではなく、２箇所以下で
あっても良いし、３箇所以上であっても良い。

【００３２】また、上記一実施例では、上記オルダムリ
ングは、キ−２８ｂ、２８ｃが上記円環体２８ａの両表
面にそれぞれ設けられたものであったが、これに限定さ
れるものではなく、例えば、上記円環体２８ａの一方の
面のみに、上記固定スクロ−ル２１に対応するキ−と旋
回スクロ−ル２２に対応するキ−とを互いに直交させた
状態で設けるようにしても良い。また、上記キ−は上記
円環体２８ａの径方向外側へ突出させた状態で設けられ
るものであっても良い。

【００３３】

【発明の効果】以上のべたように、この発明のスクロ−
ル形圧縮機は、固定スクロ−ルと、この固定スクロ−ル
に対して圧縮空間を介して旋回自在に設けられた旋回ス
クロ−ルと、円環体にキ−部を有しかつ表面には表面処
理膜が形成され、上記旋回スクロ−ルの自転を規制する
オルダムリングとを具備するスクロ−ル式圧縮機であっ
て、上記オルダムリングの非摺動面には、上記表面処理
膜が形成される部位と形成されない部位とを設けるよう
にしたものである。

【００３４】このような構成によれば、メッキ膜の組成
に関わりなく、上記メッキ膜の厚さを正確に管理するこ
とができるので、磨耗が少なく、信頼性の高いスクロ−
ル形圧縮機を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の要部の一実施例を示す縦断面図。

【図２】（ａ）は同じく、オルダムリングを示す斜視
図、（ｂ）は同じく、オルダムリングの一部縦断面図。

【図３】（ａ）は従来例のオルダムリングを示す斜視
図、（ｂ）は同じく、オルダムリングの一部縦断面図。

【符号の説明】

５…メッキ膜、１１…密閉ケ−ス、１５…フレ−ム、１
５ａ…キ−溝、２１…固定スクロ−ル、２２…旋回スク
ロ−ル、２２ａ…キ−溝、２８…オルダムリング、Ａ…
メッキ膜が形成されいない部位、Ｂ…測定部位。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 固定スクロ−ルと、この固定スクロ−ル
   に対して圧縮空間を介して旋回自在に設けられた旋回ス
   クロ−ルと、円環体にキ−部を有しかつ表面には表面処
   理膜が形成され、上記旋回スクロ−ルの自転を規制する
   オルダムリングとを具備するスクロ−ル式圧縮機であっ
   て、上記オルダムリングの非摺動面には、上記表面処理
   膜が形成される部位と形成されない部位とが設けられて
   いることを特徴とするスクロ−ル形圧縮機。