JPH05143106A - ステージ制御装置 - Google Patents

ステージ制御装置

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Publication number
JPH05143106A
JPH05143106A JP32992591A JP32992591A JPH05143106A JP H05143106 A JPH05143106 A JP H05143106A JP 32992591 A JP32992591 A JP 32992591A JP 32992591 A JP32992591 A JP 32992591A JP H05143106 A JPH05143106 A JP H05143106A
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JP
Japan
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stage
motor
adder
multiplier
input
Prior art date
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Application number
JP32992591A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuaki Saeki
和明 佐伯
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP32992591A priority Critical patent/JPH05143106A/ja
Publication of JPH05143106A publication Critical patent/JPH05143106A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Feedback Control In General (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】逆システムを用いたステージ制御装置を一段と
容易かつ安定化して実現する。 【構成】目標関数から制御量(ステージ位置)までの伝
達関数を「1」とするような制御システムを構成するこ
とにより、制御量及び目標関数を一致させることがで
き、高精度なステージ制御を行うことができる。またリ
アルタイムな微分処理を行う必要のない逆システムを用
いることにより、容易かつ安定なステージ制御をするこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【目次】以下の順序で本発明を説明する。 産業上の利用分野 従来の技術(図6) 発明が解決しようとする課題(図7及び図8) 課題を解決するための手段 作用 実施例 (1)実施例の原理(図1及び図2) (2)第1実施例(図3) (3)第2実施例(図4) (4)第3実施例(図5) (5)他の実施例 発明の効果
【0002】
【産業上の利用分野】本発明はステージ制御装置に関
し、例えば半導体集積回路を製造する際に用いられる投
影露光装置のステージを移動制御するステージ制御装置
に適用して好適なものである。
【0003】
【従来の技術】従来、半導体集積回路の製造工程の1つ
として、レチクルやフオトマスクの回路パターンを半導
体ウエハ上に転写露光するフオトリングラフイ工程があ
る。このフオトリングラフイ工程に用いられる投影露光
装置は、所定の駆動モータによるステツプアンドリピー
ト方式でX、Y方向に2次元移動可能なステージを有
し、当該ステージ上に載置されたウエハ上の1つの露光
領域(シヨツト領域)に対するレチクルの転写露光が終
了すると、次のシヨツト位置まで当該ステージを移動す
るようになされている。ステージの2次元的な位置は当
該ステージの近傍に配置されたレーザ光波干渉測長器
(干渉計)によつて、例えば0.01〔μm〕程度の分解能
で常時検出され、ステージの端部には干渉計からのレー
ザビームを反射する移動鏡が固定されている。
【0004】このように、同一のウエハに対してパター
ン露光を繰り返し実行することにより、現像及びエツチ
ング処理が施されたウエハ上にはレチクルパターンがマ
トリツクス上に形成されることになる。
【0005】ここでステージを所定の位置に駆動するス
テージ制御装置として、逆システムを用いる方法が考え
られている。この逆システムは制御対象としてのステー
ジの目標となる位置を定め、当該目標位置に基づいて、
ステージを駆動するためのモータへの入力信号(電圧)
を生成しようとするものである。
【0006】すなわち図6に示すように、ステージの目
標とする位置(軌跡)を目標関数として定め、当該目標
関数を1次微分器2において微分して得られるフイード
フオワード信号FFと当該目標関数とを加算器3におい
て加算する。この結果得られる制御信号U(モータの駆
動電圧)を位置追従制御装置4(ステージを含む)に入
力することにより、目標とする制御量(位置)を得よう
とするものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところが、この種の逆
システムにおいては制御量を目標関数に一致させること
によつて正確な駆動軌跡を得ることができるが、図6の
方法においては必ずしも一致するとは限らず、ステージ
を精度良く移動制御するにつき、不十分であつた。
【0008】この問題点を解決するための1つの方法と
して、図7に示すように逆システム6及び制御対象7で
なる伝達系において伝達関数が1となるような構成を用
いるようにすれば、制御量を目標関数に一致させること
ができると考えられる。
【0009】ところが一般に制御対象(ステージ)は入
力信号に対して遅れて動作する遅れ系であることによ
り、この場合には逆システム6において微分操作が必要
となり、一般に図8に示すような構成が考えられる。
【0010】すなわちこの逆システム6は目標位置XL
を所定の関数として入力すると、当該目標位置XL を微
分器11において1回微分してステージ速度VL を得、
さらにこれを続く微分器12において微分することによ
りステージ加速度AL を得る。このステージ加速度AL
は続く乗算器13に入力されてステージ重量JL と乗算
された後、加算器15に入力される。また微分器11か
ら出力されたステージ速度VL は乗算器14においてス
テージ粘性抵抗CS と乗算され、この結果が加算器15
に入力される。ここでステージ粘性抵抗CS とは、ステ
ージを駆動する際の粘性摩擦によつて発生する抵抗を表
す。
【0011】かくして乗算器13及び14からの出力は
加算器15において加算されることにより、モータ及び
駆動対象の反作用力TR を得、これを続く乗算器16及
び加算器25に入力する。乗算器16は、ステージ対モ
ータ間のばね剛性KC の逆数を加算器15の出力に乗算
し、その結果を続く加算器17に送出する。加算器17
は目標位置を表す関数XL 及び乗算器16の出力を加算
することによつてモータの回転位置XM を得、これを続
く微分器18に入力する。微分器18は入力されたモー
タの回転位置XM を1回微分することによりモータの回
転速度VM を得、これを続く微分器19に入力する。微
分器19は入力されたモータの回転速度VM を微分する
ことによりモータの回転加速度AM を得、これを乗算器
21に入力する。乗算器21はモータの回転加速度AM
にモータのイナーシヤJM を乗算した後、当該乗算結果
を続く加算回路24に入力する。
【0012】また微分器18から出力されたモータの回
転速度VM は乗算器22においてモータの粘性抵抗CM
と乗算され、この結果が加算器24に入力される。従つ
て加算器24は乗算器21及び22からの出力を加算す
ることによりモータのイナーシヤを駆動するために必要
なトルク(前向きトルク)TF を得、これを続く加算器
25に入力する。加算器25は前向きトルクTF 及び加
算器15から出力される反作用力TR をそれぞれ加算し
た後、この結果を続く乗算器26に入力する。乗算器2
6はモータの電機子抵抗RM をモータのトルク定数KT
で除した結果に加算器25の出力を乗算し、この結果を
続く加算器27に入力する。
【0013】また微分器18から出力されるモータの回
転速度VM は乗算器23においてモータの逆起電圧定数
E と乗算され、この結果が加算器27に入力される。
従つて加算器27においては、乗算器26及び23の出
力をそれぞれ加算することにより、モータの最適制御入
力(駆動電圧)UC を得る。
【0014】以上のような構成の逆システムを用いるこ
とにより、遅れ系に対応した制御をすることができると
考えられるが、この場合、ステージを移動制御するごと
に微分操作をリアルタイムで実行する必要があるため計
算方法が複雑になると共に、リアルタイムで入力される
目標関数(XL )によつては、これを微分した結果が発
散して不連続になり、ステージ制御が不能となることが
ある。
【0015】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、容易かつ安定してステージ制御をし得る逆システム
を用いたステージ制御装置を提案しようとするものであ
る。
【0016】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め第1の発明においては、制御対象60の制御量の目標
となる目標関数XT 及び当該目標関数の導関数D1 、D
2 、D3 、D4 を発生する関数発生手段31と、制御対
象60の特性を計算手順及びパラメータ(JL 、CS
……)として保存し、当該計算手順及びパラメータ及び
目標関数XT 及び導関数D1 、D2 、D3 、D4 に基づ
いて制御対象60を制御するための制御入力UC を算出
する演算手段32とを備えるようにする。また第2の発
明においては、演算手段32に保存されているパラメー
タ(JL 、CS 、……)を、制御対象60の状態に応じ
て更新するようにする。
【0017】
【作用】目標関数XT から制御量までの伝達関数を1と
するような制御をすることにより、高精度な制御を行う
ことができる。また微分操作のない逆システム32を構
成したことにより、容易かつ安定に最適制御入力UC
得ることができる。
【0018】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
【0019】(1)実施例の原理 図1は本発明による逆システムの全体構成を示し、ステ
ージの目標位置XLを表す目標関数XT 及び当該目標関
数XT の高次導関数D1 、D2 、……Dn を発生する目
標関数及び導関数発生器31と、当該目標関数XT 及び
当該目標関数XT の高次導関数D1 、D2 、……Dn
らモータの最適制御入力(駆動電圧)UC を算出する逆
システム計算器32によつて構成される。
【0020】この実施例の場合、導関数として4次導関
数D4まで必要となることにより、目標関数XT として
は、次式
【数1】 によつて表される5次曲線を用いる。
【0021】この5次曲線(1)の1次〜4次導関数D
1 〜D4は、それぞれ次式
【数2】
【数3】
【数4】
【数5】 となり、逆システム計算器32は予め定められた上記
(1)式〜(5)式を用いて逆システム計算を実行す
る。
【0022】すなわちステージ位置XL 、ステージ速度
L 及びステージ加速度AL は、それぞれ次式
【数6】
【数7】
【数8】 となる。また、モータ及び駆動対象となるステージ間の
反作用トルクは、次式
【数9】 であり、当該(9)式に(7)式及び(8)式を代入す
ると、次式
【数10】 を得る。一方、モータの回転位置XM は、次式
【数11】 であるから、当該(11)式に(6)式及び(8)式を代
入し、整理すると、次式
【数12】 となる。
【0023】ところで、モータの回転速度VM は、次式
【数13】 であるから、(12)式より、次式
【数14】 を得る。また、モータのイナーシヤを加速するために必
要な前向きトルクTF は、次式
【数15】 であるから、当該(15)式に(14)式を代入すると、次
【数16】 となる。
【0024】一方、モータを駆動するための最適制御入
力(駆動電圧)UC(計算値)は、次式
【数17】 であるから、当該(17)式に(10)式、(14)式及び
(15)式を代入し、これにより次式
【数18】 を得る。
【0025】このように、全ての計算はステージの物理
定数と、目標関数XT 及びその連続(安定)した導関数
を用いて実行されることにより、常に安定した計算結果
(U C )を得ることができる。
【0026】ここで図2は以上の計算を実行する逆シス
テム計算器32の構成を示し、乗算器35は1次導関数
1 によつて表されるステージの速度VL にステージの
粘性抵抗CS を乗算し、その結果を続く加算回路37に
入力する。また乗算器36は2次導関数D2 によつて表
されるステージの加速度AL にステージ重量JL を乗算
し、その結果を加算器37に入力する。加算器37は乗
算器35及び36の出力をそれぞれ加算することにより
モータ及びステージ間の反作用トルクTR を得、これを
乗算器38及び加算器54に入力する。
【0027】乗算器38は反作用トルクTR にステージ
対モータ間のばね剛性KC の逆数を乗算し、その結果を
続く加算器39に入力する。加算器39は乗算器38の
出力及び目標関数XT (ステージの目標位置)を加算す
ることによりモータの回転位置XM を得る。
【0028】また乗算器40は2次導関数D2 によつて
表されるステージの加速度AL にステージの粘性抵抗C
S を乗算し、その結果を続く乗算器43に入力する。乗
算器43は乗算器40の出力にステージ対モータ間のば
ね剛性KC の逆数を乗算し、その結果を続く加算器44
に入力する。また乗算器41は3次導関数D3 にステー
ジ重量JL を乗算し、その結果を続く乗算器42に入力
する。乗算器42は乗算器41の出力にステージ対モー
タ間のばね剛性KC の逆数を乗算し、その結果を続く加
算器44に入力する。加算器44は乗算器42及び44
からの出力と、1次導関数D1 を加算することによりモ
ータの回転速度VM を得、これを乗算器45及び57に
それぞれ入力する。乗算器45はモータ速度VM にモー
タの粘性抵抗CM を乗算し、その結果を加算器53に入
力する。
【0029】また乗算器47は3次導関数D3 にステー
ジの粘性抵抗CS を乗算し、その結果を続く乗算器49
に入力する。乗算器49は乗算器47の出力にステージ
対モータ間のばね剛性KC の逆数を乗算し、その結果を
続く加算器51に入力する。また乗算器46は4次導関
数D4 にステージ重量JL を乗算し、その結果を続く乗
算器48に入力する。乗算器48は乗算器46の出力に
ステージ対モータ間のばね剛性KC の逆数を乗算し、そ
の結果を続く加算器51に入力する。加算器51は乗算
器48及び49からの出力と、2次導関数D2 を加算
し、その結果を続く乗算器52に入力する。
【0030】乗算器52は加算器51の出力にモータの
イナーシヤJM を乗算し、その結果を続く加算器53に
入力する。加算器53は乗算器52及び45の出力をそ
れぞれ加算することにより、モータのイナーシヤを駆動
するために必要な前向きトルクTF を得、これを続く加
算器54に入力する。加算器54は当該前向きトルクT
F 及び加算器37から出力される反作用トルクTR を加
算し、その結果を続く乗算器55に入力する。乗算器5
5は加算器54の出力に、モータの電機子抵抗RM をモ
ータのトルク定数KT で除した結果を乗算し、その結果
を加算器56に入力する。加算器56は乗算器55及び
57の出力をそれぞれ加算することにより計算結果とし
ての最適制御入力UC (モータに与えるべき駆動電圧)
を得る。
【0031】このようにして算出された最適制御入力U
C を用いて制御対象(ステージ)を駆動する。
【0032】(2)第1実施例 図3は本発明によるステージ制御装置の第1実施例を示
し、逆システム32は目標関数及び導関数発生器31か
ら出力される目標関数XT 及びその導関数D1 〜D4
基づいてステージ駆動用モータの最適制御入力UC を算
出し、これを加算器74に入力する。
【0033】加算器74は状態フイードバツク追従制御
装置64から出力されるフイードバツク量f及び最適制
御入力UC の差分を算出することによつて駆動すべきス
テージの実際の状態に応じたモータの制御入力Uを得、
これを続くデイジタルアナログ変換器62を介してアナ
ログ変換し、ステージ60に入力する。ステージ60は
制御入力Uによつてモータが駆動され、所定の位置に移
動制御される。
【0034】ここでステージの状態はレーザ干渉計によ
つてその位置XL 及び移動速度VL が常時検出され、さ
らにモータの状態は当該モータに設けられたエンコーダ
によつてその回転位置XM 、タコジエネレータによつて
その回転速度VM が検出される。
【0035】この検出結果のうち、デイジタル出力であ
るXL 、XM 、は直接出力され、またアナログ出力であ
るVL 、VM はそれぞれアナログデイジタル変換器63
A、63Bによつてデイジタル変換され、加算器65、
66、67、68に入力される。
【0036】加算器65は検出された実際のステージ位
置XL と逆システム32において算出されたステージ位
置XLC(ここではXTそのもの)との差分を求め、その
結果を続く乗算器69に入力しフイードバツク定数FXL
を乗算する。また加算器66は検出された実際のステー
ジ速度VL と逆システム32において算出されたステー
ジ速度VLCとの差分を求め、その結果を続く乗算器70
に入力しフイードバツク定数FVLを乗算する。また加算
器67は検出された実際のモータ回転位置XM と逆シス
テム32において算出されたモータ回転位置XMCとの差
分を求め、その結果を続く乗算器71に入力しフイード
バツク定数FXMを乗算する。また加算器68は検出され
た実際のモータ回転速度VM と逆システム32において
算出されたモータ回転速度VMCとの差分を求め、その結
果を続く乗算器72に入力しフイードバツク定数FVM
乗算する。
【0037】乗算器69、70、71、72の出力は加
算器73において加算されることにより、フイードバツ
ク量fを得る。さらに加算器74においてフイードバツ
ク量fと逆システム32から出力された最適制御入力U
C との差分を求め、実際のステージ状態に応じたモータ
の制御入力Uを得る。
【0038】ここで目標関数及び導関数発生器31、逆
システム32、状態フイードバツク追従制御装置64は
デイジタル計算機61として構成される。
【0039】以上の構成において、等間隔に時刻t0
1 、t2 、t3 、……tn 、……te が経過する場合
の時刻tn のステージ制御動作を説明する。
【0040】目標関数及び導関数発生器31は時刻tn
において予め与えられている上述の(1)式〜(4)式
から当該時刻tn の目標関数XT 及び導関数D1
2 、D3 、D4 を算出し、これを用いて図2に示す計
算を実行することにより、最適制御入力UC を求める。
【0041】一方時刻tn におけるステージ位置XL
ステージ速度VL 、モータ回転位置XM 、モータ回転速
度VM の実測値に基づいてフイードバツク量fが求めら
れる。このフイードバツク量f及び最適制御入力UC
よつて制御入力Uが得られ、これに応じて当該時刻tn
におけるステージ制御を実行する。このような動作を時
刻t0 から位置決めが終了する時刻te まで順次実行す
ることにより、一連のステージ制御動作を完結する。
【0042】このようなステージ制御動作においては、
目標関数XT 及び導関数D1 〜D4 が予め定められてい
ることにより、各時刻においてその都度目標関数を設定
する必要がなく、さらにその都度微分を行う必要もな
い。従つて計算の複雑化を回避し得ると共に微分をする
ことにより発生する不安定状態を未然に回避することが
できる。
【0043】従つて以上の構成によれば、リアルタイム
で微分を行う必要のない逆システム32を用いたことに
より、制御量及び目標関数XT を一致させたステージ制
御を安定して行うことができる。
【0044】(3)第2実施例 図3との対応部分に同一符号を付して示す図4は本発明
によるステージ制御装置の第2実施例を示し、ステージ
60から検出されるステージ位置XL 、ステージ速度V
L 、ステージ加速度AL (加速度計の出力をアナログデ
イジタル変換器63Cを介して出力される)、モータ回
転位置XM をパラメータ調節器80に入力する。
【0045】パラメータ調節器80においては、モータ
回転位置XM 及びステージ位置XL を減算器81に入力
してその差分を求め、その結果を続く乗算器82に入力
する。乗算器82は減算器81の出力にステージ対モー
タ間のばね剛性KC を乗算し、その結果を続く減算器8
4に入力する。またステージ速度VL は乗算器83にお
いてステージの粘性抵抗CS と乗算され、その結果が減
算器84に入力される。従つて乗算器82及び83から
の出力はそれぞれ減算器84において減算され、その結
果得られるステージの駆動力FL は続く割算器85に入
力される。割算器85はステージの駆動力FL をステー
ジの加速度AL で割算することによりステージ重量JL
´を得る。この値は実際のステージの状態を検出した結
果得られた値であり、これを逆システム32に入力し
て、それまで保存していたステージ重量JL の値を新た
に求められた値JL ´に置き換え、以後当該ステージ重
量JL ´を逆システム計算(図2)に用いる。
【0046】以上の構成において、ステージ重量が変化
するとパラメータ調節器80において新たなステージ重
量JL ´が算出され、逆システム32のステージ重量が
新たに更新される。従つて逆システム32において最適
制御入力UC を算出するにつき、常に実際のステージ重
量に基づいた計算が行われることにより、実際のステー
ジ状態に応じた最適制御入力UC を得ることができる。
【0047】従つて以上の構成によれば、ステージ重量
が変化する場合においても精度良くステージを駆動制御
することができる。
【0048】また逆システム32に保存されているステ
ージ重量を更新するだけで、当該逆システム32の再設
計ができることにより、種々のステージ制御系の開発を
一段と容易化することができる。
【0049】(4)第3実施例 図3との対応部分に同一符号を付して示す図5は本発明
によるステージ制御装置の第3実施例を示し、ステージ
60から検出されるステージ位置XL 、ステージ速度V
L 、ステージ加速度AL 、モータ回転位置XM をパラメ
ータ調節器80に入力する。
【0050】パラメータ調節器80においては、モータ
回転位置XM 及びステージ位置XL を減算器91に入力
してその差分を求め、その結果を続く乗算器92に入力
する。乗算器92は減算器91の出力にステージ対モー
タ間のばね剛性KC を乗算し、その結果を続く減算器9
3に入力する。またステージ加速度AL は乗算器94に
おいてステージ重量JL と乗算され、その結果が減算器
93に入力される。従つて乗算器92及び94からの出
力はそれぞれ減算器93において減算され、その結果得
られるステージの駆動力FL は続く割算器95に入力さ
れる。割算器95はステージの駆動力FL をステージ速
度VL で割算することによりステージの粘性抵抗CS ´
を得る。この値は実際のステージの状態を検出した結果
得られた値であり、これを逆システム32に入力してそ
れまで保存していたステージの粘性抵抗CS を新たに求
められた値CS ´に置き換え、以後当該ステージの粘性
抵抗CS ´を逆システム計算(図2)に用いる。
【0051】以上の構成において、ステージの粘性抵抗
が変化するとパラメータ調節器90において新たなステ
ージの粘性抵抗CS ´が算出され、逆システム32のス
テージの粘性抵抗CS が新たに更新される。従つて逆シ
ステム32において最適制御入力UC を算出するにつ
き、常に実際のステージの粘性抵抗に基づいた計算が行
われることにより、実際のステージ状態に応じた最適制
御入力UC を得ることができる。
【0052】従つて以上の構成によれば、ステージの粘
性抵抗が変化する場合においても精度良くステージを駆
動制御することができる。
【0053】また逆システム32に保存されているステ
ージの粘性抵抗を更新するだけで、当該逆システム32
の再設計ができることにより、種々のステージ制御系の
開発を一段と容易化することができる。
【0054】(5)他の実施例 なお上述の実施例においては、目標関数XT として
(1)式に示す関数を用いた場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、要は逆システム以上の次数を持ち
かつ高次導関数が安定な関数であれば良い。
【0055】また上述の実施例においては、パラメータ
調節器として実際のステージ重量を求める場合及び実際
のステージ粘性抵抗を求める場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、逆システム32内に保存されてい
る他の種々のパラメータの実際の値を求めるようにして
も良い。
【0056】また上述の実施例においては、本発明をス
テージ位置を制御する場合について述べたが、本発明は
これに限らず、制御量及び目標関数を一致させることが
できることによりステージの軌道制御においても本発明
を適用することができる。
【0057】また上述の実施例においては、本発明を半
導体露光装置のステージ制御装置に適用した場合につい
て述べたが、本発明はこれに限らず、他の種々のステー
ジを制御する際に広く適用することができる。
【0058】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、制御量
(ステージ位置)及び目標関数を一致させることができ
ることにより、ステージ内部の振動を抑えた制御をする
ことができる。従つて位置決め時間を短縮し得ると共に
位置決め精度を向上し得る。また微分操作をすることな
く逆システムを実現できることにより、計算を簡単かつ
安定化することができる。かくするにつき一段と容易か
つ安定した制御を高精度で行うことができるステージ制
御装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるステージ制御装置に用いられる逆
システムを示すブロツク図である。
【図2】本発明による逆システムの構成を示すブロツク
図である。
【図3】第1実施例によるステージ制御装置の全体構成
を示すブロツク図である。
【図4】第2実施例によるステージ制御装置の全体構成
を示すブロツク図である。
【図5】第3実施例によるステージ制御装置の全体構成
を示すブロツク図である。
【図6】従来のステージ制御装置を示すブロツク図であ
る。
【図7】逆システムを用いた制御装置の概略を示すブロ
ツク図である。
【図8】逆システムの構成を示すブロツク図である。
【符号の説明】
T ……目標関数、D1 、D2 、D3 、D4 ……導関
数、XL ……ステージ位置、VL ……ステージ速度、A
L ……ステージ加速度、XM ……モータ回転位置、VM
……モータ回転速度、JL ……ステージ重量、CS ……
ステージの粘性抵抗、KC ……ステージ対モータ間のば
ね剛性、JM ……モータのイナーシヤ、CM ……モータ
の粘性抵抗、KE ……逆起電圧定数、RM ……モータの
電機子抵抗、KT ……モータのトルク定数、UC……計
算による最適制御入力、U……制御入力、(ステージ系
パラメータXT 、D1 、D2 、D3 、D4 、XL
L 、AL 、JL 、CS は、全て直線運動を回転運動に
変換後の値を用いている。)。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】制御対象の制御量の目標となる目標関数及
    び当該目標関数の導関数を発生する関数発生手段と、 制御対象の特性を計算手順及びパラメータとして保存
    し、当該計算手順及びパラメータ及び上記目標関数及び
    上記導関数に基づいて制御対象を制御するための制御入
    力を算出する演算手段とを具えることを特徴とするステ
    ージ制御装置。
  2. 【請求項2】上記演算手段に保存されている上記パラメ
    ータを、制御対象の状態に応じて更新するようにしたこ
    とを特徴とする請求項1のステージ制御装置。
JP32992591A 1991-11-19 1991-11-19 ステージ制御装置 Pending JPH05143106A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007072943A (ja) * 2005-09-09 2007-03-22 Tokyo Univ Of Agriculture & Technology 位置制御装置
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