JPH05142295A - Method for burn-in test and pattern generating circuit for the test - Google Patents
Method for burn-in test and pattern generating circuit for the testInfo
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- JPH05142295A JPH05142295A JP3304957A JP30495791A JPH05142295A JP H05142295 A JPH05142295 A JP H05142295A JP 3304957 A JP3304957 A JP 3304957A JP 30495791 A JP30495791 A JP 30495791A JP H05142295 A JPH05142295 A JP H05142295A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路のバー
ン・イン試験方法及び同試験のためのパターン発生回路
に関し、更に詳しくは、アクティブ信号を受けて作動状
態になる形式の多数の半導体集積回路に対しアクティブ
信号を供給しながら行なうダイナミック・バーン・イン
試験のためのバーン・イン試験方法及び同試験のための
パターン発生回路に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a burn-in test method for a semiconductor integrated circuit and a pattern generation circuit for the test, and more particularly to a large number of semiconductor integrated circuits of a type which receives an active signal and becomes an operating state. The present invention relates to a burn-in test method for a dynamic burn-in test performed while supplying an active signal to the circuit, and a pattern generation circuit for the test.
【0002】半導体集積回路では、製品の信頼性を保証
するため、バーン・イン試験と呼ばれる信頼性加速試験
が行われる。半導体集積回路は、このバーン・イン試験
において、最低限所定の高い温度と電源電圧とから成る
ストレスが与えられて、潜在的不良個所の顕在化が加速
されると共に、バーン・イン試験の際の、又はその後に
おける機能試験によって、顕在化した不良個所を有する
製品が排除される。In a semiconductor integrated circuit, a reliability acceleration test called a burn-in test is performed in order to guarantee the reliability of the product. In this burn-in test, the semiconductor integrated circuit is stressed by a minimum predetermined high temperature and a power supply voltage to accelerate the manifestation of a potential defective portion, and at the time of the burn-in test. , Or subsequent functional testing, eliminates products with exposed defects.
【0003】バーン・イン試験には、不良個所の顕在化
を加速するため、所定の高い電源電圧を印加した上で、
集積回路の全ての入力部を一定電圧(例えば零電位或い
は−2V)に維持するのみで行なうスタティック・バー
ン・イン試験と、集積回路に対してこの集積回路の作動
のための信号パターンを印加しながら行なうダイナミッ
ク・バーン・イン試験とがある。In the burn-in test, in order to accelerate the manifestation of defective parts, a predetermined high power supply voltage is applied,
A static burn-in test is performed by simply maintaining all inputs of the integrated circuit at a constant voltage (for example, zero potential or -2 V), and a signal pattern for operating the integrated circuit is applied to the integrated circuit. There is a dynamic burn-in test conducted while
【0004】例えば、Bi−CMOSのLSIとして構
成されるメモリ集積回路では、電源電圧の印加及び入力
部の一定電圧の維持のみでは各回路素子が作動状態にな
らないため、アクティブ信号を成すチップ・イネーブル
信号若しくはチップ選択信号(以下単にチップ・イネー
ブル信号と呼ぶ)及びリード・ライト信号等の作動のた
めの信号を与えながら十分に各回路素子を作動させて、
不良箇所の顕在化を図る必要がある。この信号供給のた
めに、予め所定の信号パターンが記憶されているパター
ン発生回路が採用される。For example, in a memory integrated circuit configured as a Bi-CMOS LSI, each circuit element does not become in an operating state only by applying a power supply voltage and maintaining a constant voltage of an input section, so that a chip enable that generates an active signal is generated. Signal or a chip select signal (hereinafter simply referred to as a chip enable signal) and a signal for operating a read / write signal, etc., while sufficiently operating each circuit element,
It is necessary to make the defective part visible. For this signal supply, a pattern generation circuit in which a predetermined signal pattern is stored in advance is adopted.
【0005】[0005]
【従来の技術】図6は、メモリ集積回路(スタティック
RAM)における従来のダイナミック・バーン・イン試
験における試験回路の一部構成を示すブロック図であ
る。同図において、各メモリ集積回路を成すLSI1は
一枚のバーン・イン・ボード3上に例えば数百個程度が
配され、かかるバーン・イン・ボード3が例えば数十枚
程度纏めて高温炉4内に配される。炉内の温度は例えば
120度前後に維持される。2. Description of the Related Art FIG. 6 is a block diagram showing a partial configuration of a test circuit in a conventional dynamic burn-in test in a memory integrated circuit (static RAM). In the figure, for example, several hundreds of LSIs 1 forming each memory integrated circuit are arranged on one burn-in board 3, and several dozens of such burn-in boards 3 are grouped together to form a high temperature furnace 4. It is placed inside. The temperature in the furnace is maintained around 120 degrees, for example.
【0006】パターン発生回路2からは、各LSI1に
対し対応する各バーン・イン・ボード3の配線路及びコ
ネクタを介して、アクティブ信号を成すチップ・イネー
ブル信号XCE(CEのトップバー付き、以下同様とす
る)及びリード・ライト信号XWEが周期的に供給さ
れ、このとき、セルに書き込むためのデータ信号が供給
され或いはセルから信号が読み出される。このため、各
メモリ集積回路1が十分に作動状態となるので、信頼性
加速試験として十分なダイナミック・バーン・イン試験
が行なわれる。From the pattern generation circuit 2, a chip enable signal XCE (with a top bar of CE, which forms an active signal, is provided to each LSI 1 via a wiring path and a connector of each burn-in board 3 corresponding thereto. And a read / write signal XWE are periodically supplied, and at this time, a data signal for writing to the cell is supplied or a signal is read from the cell. For this reason, each memory integrated circuit 1 is brought into a sufficiently operating state, and a sufficient dynamic burn-in test is performed as a reliability acceleration test.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】上記ダイナミック・バ
ーン・イン試験においては、各メモリ集積回路が一斉に
作動するため、高温炉内の電源ラインを流れるピーク時
の消費電流は極めて大きくなる。このため、高温炉内で
は、バーン・イン試験装置の各ボード部分等の電源ライ
ンの電流容量を大きくしなければならず、設備コストが
増大するという問題がある。In the dynamic burn-in test described above, since all the memory integrated circuits operate simultaneously, the peak current consumption flowing through the power supply line in the high temperature furnace becomes extremely large. Therefore, in the high temperature furnace, it is necessary to increase the current capacity of the power supply line such as each board portion of the burn-in test apparatus, which causes a problem of increase in equipment cost.
【0008】また、各メモリ集積回路の一斉作動のため
電源ラインに生ずる電源揺動のために、各メモリ集積回
路内の各信号ラインにはクロストークが避けられず、機
能試験を同時に行う際には、信号伝達に誤りが発生する
おそれが大きいという問題もある。Further, since crosstalk is unavoidable in each signal line in each memory integrated circuit due to power fluctuations occurring in the power supply line due to simultaneous operation of each memory integrated circuit, it is necessary to perform a functional test at the same time. There is also a problem that there is a high possibility that an error will occur in signal transmission.
【0009】本発明は、上記従来の半導体集積回路のダ
イナミック・バーン・イン試験における問題に鑑み、で
きるだけ電源ラインの余裕を大きくすると共に、機能試
験に際して各半導体集積回路の信号ラインにおける信号
伝達の誤りを防止し、もって正確且つコストの低いダイ
ナミック・バーン・イン試験が行なわれるバーン・イン
試験方法及び同試験のためのパターン発生回路を提供す
ることを目的とする。In view of the above-mentioned problems in the conventional dynamic burn-in test of the semiconductor integrated circuit, the present invention increases the margin of the power supply line as much as possible and, at the time of the functional test, an error in signal transmission in the signal line of each semiconductor integrated circuit. It is an object of the present invention to provide a burn-in test method in which a dynamic burn-in test is performed accurately and at low cost, and a pattern generation circuit for the test.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】図1は本発明のバーン・
イン試験方法の原理を説明するための試験回路の構成を
示すブロック図、図2は図1の試験回路における各アク
ティブ信号のタイミングチャートの例示である。図1に
おいて、1はLSI、2はパターン発生回路、A1〜A
4は夫々アクティブ信号ラインであり、この信号ライン
A1〜A4を介して図2に例示したアクティブ信号が四
つのグループのLSIに夫々供給される場合を示した。FIG. 1 shows the burn of the present invention.
FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of a test circuit for explaining the principle of the in-test method, and FIG. 2 is an example of a timing chart of each active signal in the test circuit of FIG. In FIG. 1, 1 is an LSI, 2 is a pattern generation circuit, and A1 to A
Reference numerals 4 denote active signal lines, respectively, and the active signals illustrated in FIG. 2 are supplied to the four groups of LSIs via the signal lines A1 to A4, respectively.
【0011】前記目的を達成するため、本発明のバーン
・イン試験方法は、図1及び図2に例示したように、ア
クティブ信号を受けて作動状態になる形式の多数のLS
I(1)に対して少くとも前記アクティブ信号を夫々供
給しながら行なうバーン・イン試験方法において、タイ
ミングが相互に異なる複数の前記アクティブ信号を前記
各LSI(1)に夫々供給することを特徴とする。In order to achieve the above object, the burn-in test method according to the present invention has a large number of LSs of a type which becomes active by receiving an active signal, as illustrated in FIGS.
In the burn-in test method for supplying at least the active signals to I (1), a plurality of active signals having different timings are supplied to the LSIs (1), respectively. To do.
【0012】また、本発明のパターン発生回路は、アク
ティブ信号を受けて作動状態になる形式の多数のLSI
(1)に、少くとも前記アクティブ信号を夫々供給する
バーン・イン試験のためのパターン発生回路(2)にお
いて、前記パターン発生回路(2)が複数のアクティブ
信号出力ライン(A1〜A4)を備え、該アクティブ信
号出力ラインはタイミングが相互に異なる複数のアクテ
ィブ信号を夫々出力することを特徴とする。Further, the pattern generating circuit of the present invention includes a large number of LSIs of a type that is activated when receiving an active signal.
In (1), in a pattern generating circuit (2) for burn-in test for supplying at least the active signals, the pattern generating circuit (2) includes a plurality of active signal output lines (A1 to A4). The active signal output line outputs a plurality of active signals having different timings.
【0013】[0013]
【作用】パターン発生回路が、相互にタイミングの異な
る複数のアクティブ信号を出力し、各LSIが夫々何れ
かのアクティブ信号を受けることによって、各LSIの
作動タイミングをずらすことができるので、バーン・イ
ン試験装置の電源ラインに生ずるLSI作動時の電流ピ
ークを軽減することで、電源ラインの通電容量を小さく
抑えてバーン・イン試験装置の設備コストを軽減し、ま
た、電源ラインにおける電源揺動を低く抑え、各信号ラ
インに生ずるクロストーク等を防止することで正確な機
能試験を可能にする。Since the pattern generation circuit outputs a plurality of active signals having different timings from each other and each LSI receives any one of the active signals, the operation timing of each LSI can be shifted. By reducing the current peak at the time of LSI operation that occurs in the power supply line of the test equipment, the power-carrying capacity of the power supply line is suppressed to a small level, the equipment cost of the burn-in test equipment is reduced, and the fluctuation of the power supply in the power supply line is reduced. Suppressing and preventing crosstalk etc. that occur in each signal line enables an accurate functional test.
【0014】[0014]
【実施例】図面を参照して本発明の実施例について説明
する。図3は、本発明の一実施例のバーン・イン試験方
法を説明するための試験回路の一部構成を示すブロック
図である。同図において、各LSIは夫々、スタティッ
クRAMから成るメモリLSIとして構成され、多数の
メモリLSI1がバーン・インボード3上に配されてい
る。更に、かかるバーン・インボード3が多数纏められ
て高温炉4内に配されている。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 3 is a block diagram showing a partial configuration of a test circuit for explaining a burn-in test method according to an embodiment of the present invention. In the figure, each LSI is configured as a memory LSI composed of a static RAM, and a large number of memory LSIs 1 are arranged on the burn-in board 3. Further, a large number of such burn-in boards 3 are collected and arranged in the high temperature furnace 4.
【0015】各LSI1は、夫々バーン・インボード3
上において四つのグループ、Aグループ〜Dグループ毎
に区分されて配置されており、バーン・イン・ボード3
のアクティブ信号ラインを成すチップ・イネーブル信号
ラインC1〜C4及びリード・ライト信号ラインW1〜
W4は、各LSI1の前記各グループA〜D毎に夫々チ
ップ・イネーブル信号及びリード・ライト信号を供給し
ている。Each LSI 1 has a burn-in board 3 respectively.
Burn-in board 3 is arranged in the above four groups divided into groups A to D.
Chip enable signal lines C1 to C4 and read / write signal lines W1 to W1
W4 supplies a chip enable signal and a read / write signal to each of the groups A to D of each LSI 1, respectively.
【0016】各チップ・イネーブル信号及び各リード・
ライト信号は、夫々高温炉4外に配されたパターン発生
回路を成すパターン発生ボード2から供給されている。
パターン発生ボード2におけるアクティブ信号回路の回
路構成を図4に示した。Each chip enable signal and each lead
The write signal is supplied from the pattern generation board 2 which is arranged outside the high temperature furnace 4 and constitutes a pattern generation circuit.
The circuit configuration of the active signal circuit in the pattern generation board 2 is shown in FIG.
【0017】図4に示されているように、このアクティ
ブ信号回路では、従来からメモリLSIにおいてアクテ
ィブ信号として使用されていた原チップ・イネーブル信
号XCE及び原リード・ライト信号XWEから夫々、イ
ンバータINV1〜INV4を介し、或いはそのまま直接に、
各グループ毎のチップ・イネーブル信号XCE1〜XC
E4及びリード・ライト信号XWE1〜XWE4を得て
いる。As shown in FIG. 4, in this active signal circuit, from the original chip enable signal XCE and the original read / write signal XWE which have been conventionally used as active signals in the memory LSI, the inverters INV1 to INV1 are respectively supplied. Via INV4 or directly
Chip enable signals XCE1 to XC for each group
E4 and read / write signals XWE1 to XWE4 are obtained.
【0018】図5に、前記各グループ毎のチップ・イネ
ーブル信号XCE1〜XCE4及びリード・ライト信号
XWE1〜XWE4、並びにリードモードにおける各グ
ループのLSIの出力のタイミングを示した。同図にお
いて、周期Tはこの試験で行なわれるメモリの作動周期
を示しており、アドレス信号Addはこの作動周期T内に
おいてアドレス変化を一回行ない、各作動周期T毎に順
次各一つのメモリセルを指定している。FIG. 5 shows the chip enable signals XCE1 to XCE4 and the read / write signals XWE1 to XWE4 for each group, and the output timing of the LSI of each group in the read mode. In the figure, a cycle T indicates an operation cycle of the memory performed in this test, the address signal Add makes an address change once within the operation cycle T, and one memory cell is sequentially operated at each operation cycle T. Is specified.
【0019】AグループのLSIに与えられるアクティ
ブ信号としては、従来使用されていた原チップ・イネー
ブル信号XCE及び原リード・ライト信号XWEと同じ
信号XCE1、XWE1が与えられ、これらは夫々、作
動周期T内において二回及び一回のLレベルの期間を有
する。As the active signals given to the LSIs in the A group, the same signals XCE1 and XWE1 as the original chip enable signal XCE and the original read / write signal XWE which have been used conventionally are given, and these are respectively the operating cycle T. There are two and one L level periods within.
【0020】チップ・イネーブル信号XCE1がLレベ
ルで、且つリード・ライト信号XWE1がHレベルの期
間(図示(a))において、AグループのLSIは、リ
ードモードとなり、何れかのメモリセルの信号が読み出
されるため、AグループのLSIのセンスアンプを成す
バイポーラトランジスタ等は、この作動周期Tの後半の
期間(a)にオンとなる。While the chip enable signal XCE1 is at the L level and the read / write signal XWE1 is at the H level ((a) in the figure), the LSI of the A group is in the read mode and the signal of any memory cell is Since the data is read, the bipolar transistors and the like that form the sense amplifier of the LSI of the group A are turned on in the latter half period (a) of the operation cycle T.
【0021】BグループのLSIに与えられるアクティ
ブ信号は、チップ・イネーブル信号XCE2が原チップ
・イネーブル信号XCEの反転信号であることにおいて
AグループのLSIに与えられるアクティブ信号と異な
る。The active signal given to the LSI of the B group is different from the active signal given to the LSI of the A group in that the chip enable signal XCE2 is an inverted signal of the original chip enable signal XCE.
【0022】このため、BグループのLSIのリードモ
ードは、図示したように、チップ・イネーブル信号XC
E2がLレベルで且つリード・ライト信号XWE2がH
レベルの期間(図示(b))において発生し、作動周期
Tの後半で且つAグループのリードモードの期間(a)
の前後二回に分れて発生する。これによって、Bグルー
プのLSIのセンスアンプ等のオン期間は二回生じ、そ
の作動時間の長さはAグループの作動時間の長さと同じ
である。Therefore, the read mode of the LSI of the B group is, as shown in the figure, the chip enable signal XC.
E2 is L level and read / write signal XWE2 is H
Occurs during the level period ((b) in the figure) and is in the latter half of the operating period T and in the read mode period (a) of the A group
It occurs twice before and after. As a result, the ON period of the sense amplifier of the LSI of the B group occurs twice, and the operating time thereof is the same as the operating time of the A group.
【0023】同様に、Cグループ及びDグループのLS
Iの各アクティブ信号は夫々、A及びBグループのアク
ティブ信号とそのタイミングが異なり、図示の如く、C
グループのLSIにおけるアクティブ期間は作動周期T
の前半(図示(c))に生じ、またDグループのLSI
におけるアクティブ期間は作動周期Tの前半で且つCグ
ループのアクティブ期間(c)の前後(図示(d))に
生ずる。Similarly, LS of C group and D group
The respective active signals of I have different timings from the active signals of the A and B groups, respectively, and as shown in the figure, C
The active period in the LSI of the group is the operation cycle T
In the first half of the figure ((c) in the figure)
In the first half of the operation cycle T and before and after the active period (c) of the group C (illustrated in (d)).
【0024】A〜Dの各グループのLSIにおけるバイ
ポーラトランジスタの作動時間は、A〜Dグループ相互
において同じ長さであるため、各LSIにおけるダイナ
ミック・バーン・イン試験は同等の作動条件で行なわれ
る。Since the operation time of the bipolar transistors in the LSIs of the groups A to D is the same in the groups A to D, the dynamic burn-in test in each of the LSIs is performed under the same operating condition.
【0025】上記のごとく、各LSI1のバーン・イン
試験が同等の条件で行なわれ、且つその作動期間のタイ
ミングが相互にずれているため、試験装置の電源ライン
における消費電流のピークが従来のほぼ1/4となり、
電源ラインに設備上の余裕が生ずることは勿論、電源ラ
インにおける電圧揺動も小さく抑えられ、各信号ライン
においてこれに起因する誤信号の発生が抑えられ、正確
な機能試験が可能となる。As described above, since the burn-in test of each LSI 1 is performed under the same condition and the timings of the operation periods thereof are deviated from each other, the peak of the current consumption in the power supply line of the test apparatus is almost the same as that of the conventional one. 1/4,
In addition to the provision of equipment margin in the power supply line, the voltage fluctuation in the power supply line can be suppressed to a small level, the generation of an erroneous signal due to this can be suppressed, and an accurate functional test can be performed.
【0026】なお、上記実施例においては、各ボード毎
においてLSIをグループ化し、各ボード毎の電源ライ
ンの揺動を小さく抑えることとしたが、例えば、一のボ
ードに搭載されるLSIを全て一のグループとし、各ボ
ードを相互に異なるグループとすることも可能である。In the above embodiment, the LSIs are grouped for each board to suppress the fluctuation of the power supply line for each board. However, for example, all the LSIs mounted on one board are integrated. It is also possible to make each board into a group different from each other.
【0027】また、パターン発生ボードを高温炉の外部
に配し、且つ、パターン発生ボードにおいてチップ・イ
ネーブル信号及びリード・ライト信号を夫々反転させる
ことで各LSIの作動タイミングを変える例を示した
が、必ずしもかかる構成に限定されるものではなく、例
えば、パターン発生回路の機能の内一部のみを高温炉内
に配することや、作動タイミングの変更は遅延回路等に
よって行なうことも可能である。Further, an example has been shown in which the pattern generation board is arranged outside the high temperature furnace and the operation timing of each LSI is changed by inverting the chip enable signal and the read / write signal in the pattern generation board. However, the present invention is not necessarily limited to such a configuration, and for example, only a part of the function of the pattern generation circuit may be arranged in the high temperature furnace, and the operation timing may be changed by a delay circuit or the like.
【0028】更に、上記実施例では、被試験LSIがメ
モリ集積回路で且つスタティックRAMの場合を例示し
たが、被試験LSIは、スタティックRAMに限らず、
ダイナミックRAMであっても、或いは、マイクロプロ
セッサ、コントローラ等であっても同様に行われる。な
お、ダイナミックRAMの場合には、アクティブ信号と
して、上記実施例で例示したチップ・イネーブル信号及
びリード・ライト信号に加えて、ロウアドレス・ストロ
ーブ信号XRASやアウトプットイネイブル信号XOE
等も含まれる。Further, in the above embodiment, the case where the LSI to be tested is a memory integrated circuit and is a static RAM is illustrated, but the LSI to be tested is not limited to the static RAM,
The same operation is performed whether it is a dynamic RAM, a microprocessor, a controller, or the like. In the case of the dynamic RAM, the row address strobe signal XRAS and the output enable signal XOE are used as the active signal in addition to the chip enable signal and the read / write signal exemplified in the above embodiment.
Etc. are also included.
【0029】[0029]
【発明の効果】以上説明したように本発明のバーン・イ
ン試験方法及び同試験のためのパターン発生回路による
と、試験装置における電源ラインの通電容量を小さく抑
えて設備コストが軽減できると共に、機能試験が同時に
行われる場合には電源ラインの揺動を低く抑えて信号伝
達における誤りの発生を防止できるという顕著な効果を
奏する。As described above, according to the burn-in test method and the pattern generation circuit for the test of the present invention, the power supply line of the test apparatus can be kept small in capacity and the facility cost can be reduced. When the tests are performed simultaneously, the remarkable effect that the oscillation of the power supply line can be suppressed to a low level and the occurrence of an error in signal transmission can be prevented.
【図1】本発明のバーン・イン試験方法の原理を示すた
めの試験回路のブロック図である。FIG. 1 is a block diagram of a test circuit for showing the principle of a burn-in test method of the present invention.
【図2】図1のアクティブ信号ラインにおける信号タイ
ミングの例示である。FIG. 2 is an example of signal timing in an active signal line of FIG.
【図3】本発明の一実施例におけるバーン・イン試験回
路の構成を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a burn-in test circuit according to an embodiment of the present invention.
【図4】図3のパターン発生ボードにおけるアクティブ
信号回路の回路図である。4 is a circuit diagram of an active signal circuit in the pattern generation board of FIG.
【図5】図3の実施例におけるアクティブ信号のタイミ
ングチャートである。5 is a timing chart of active signals in the embodiment of FIG.
【図6】従来のバーン・イン試験回路の構成を示すブロ
ック図である。FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a conventional burn-in test circuit.
1:LSI 2:パターン発生回路 A1〜A4:アクティブ信号ライン C1〜C4:チップ・イネーブル信号ライン W1〜W4:リード・ライト信号ライン XCE1〜XCE4:チップ・イネーブル信号 XWE1〜XWE4:リード・ライト信号 1: LSI 2: Pattern generation circuit A1 to A4: Active signal line C1 to C4: Chip enable signal line W1 to W4: Read / write signal line XCE1 to XCE4: Chip enable signal XWE1 to XWE4: Read / write signal
Claims (5)
式の多数のLSI(1)に対して少くとも前記アクティ
ブ信号を夫々供給しながら行なうバーン・イン試験方法
において、 タイミングが相互に異なる複数の前記アクティブ信号を
前記各LSI(1)に夫々供給することを特徴とするL
SIのバーン・イン試験方法。1. A burn-in test method in which a large number of LSIs (1) of a type which receive an active signal and are activated are supplied with at least the respective active signals, and a plurality of timings different from each other are provided. The L is characterized in that the active signal is supplied to each of the LSIs (1).
SI burn-in test method.
成され、前記各アクティブ信号が夫々、チップ選択信号
若しくはチップ・イネーブル信号とリード・ライト信号
とを含むことを特徴とする請求項1記載のバーン・イン
試験方法。2. The LSI (1) is configured as a memory LSI, and each of the active signals includes a chip selection signal or a chip enable signal and a read / write signal, respectively. Burn-in test method.
クティブ信号から得られることを特徴とする請求項1又
は2記載のバーン・イン試験方法。3. The burn-in test method according to claim 1, wherein each active signal is obtained from a common original active signal.
ィブ信号からインバータを介して得られることを特徴と
する請求項1乃至3の一に記載のバーン・イン試験方
法。4. The burn-in test method according to claim 1, wherein any one of the active signals is obtained from an original active signal through an inverter.
式の多数のLSI(1)に、少くとも前記アクティブ信
号を夫々供給するバーン・イン試験のためのパターン発
生回路(2)において、 前記パターン発生回路(2)が複数のアクティブ信号出
力ライン(A1〜A4)を備え、該アクティブ信号出力
ラインはタイミングが相互に異なる複数のアクティブ信
号を夫々出力することを特徴とするパターン発生回路。5. A pattern generation circuit (2) for a burn-in test, which supplies at least the active signal to a large number of LSIs (1) of a type which receives an active signal and is activated. The pattern generating circuit, wherein the generating circuit (2) includes a plurality of active signal output lines (A1 to A4), and the active signal output lines respectively output a plurality of active signals having different timings.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3304957A JPH05142295A (en) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | Method for burn-in test and pattern generating circuit for the test |
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---|---|---|---|
JP3304957A JPH05142295A (en) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | Method for burn-in test and pattern generating circuit for the test |
Publications (1)
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---|---|
JPH05142295A true JPH05142295A (en) | 1993-06-08 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05142295A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011145207A (en) * | 2010-01-15 | 2011-07-28 | Renesas Electronics Corp | Apparatus for manufacturing and inspecting semiconductor, and semiconductor device |
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1991
- 1991-11-20 JP JP3304957A patent/JPH05142295A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011145207A (en) * | 2010-01-15 | 2011-07-28 | Renesas Electronics Corp | Apparatus for manufacturing and inspecting semiconductor, and semiconductor device |
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