JPH0513422Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0513422Y2 JPH0513422Y2 JP1985177046U JP17704685U JPH0513422Y2 JP H0513422 Y2 JPH0513422 Y2 JP H0513422Y2 JP 1985177046 U JP1985177046 U JP 1985177046U JP 17704685 U JP17704685 U JP 17704685U JP H0513422 Y2 JPH0513422 Y2 JP H0513422Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roller
- coating
- substrate
- liquid
- flat substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 41
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 38
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010291 electrical method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は液晶表示素子等に使用されるガラス基
板等の、平面基板表面に、レジスト液、有機金属
化合物あるいは、配向処理膜等のごく低粘度の液
体を均一に塗布するための、ロールコート式液体
塗布装置に関するものである。
板等の、平面基板表面に、レジスト液、有機金属
化合物あるいは、配向処理膜等のごく低粘度の液
体を均一に塗布するための、ロールコート式液体
塗布装置に関するものである。
一般にごく低粘度の液体を平面基板に塗布する
方法として従来(1)デイツピング法、及び(2)上ロー
ルコート法等があつた。
方法として従来(1)デイツピング法、及び(2)上ロー
ルコート法等があつた。
第２図ａは前記(1)のデイツピング法を模式的に
示した塗布方法断面図で、１は平面基板（以下基
板と呼ぶ）２は塗布される液体（以下液体と呼
ぶ）３は液体容器、４は等速引昇げ装置であり、
３の液体容器に入れられた２の液体に１の基板を
浸漬した後、４の等速引昇げ装置により基板を等
速引昇げする事によつて、１の基板に２の液体が
均一に塗布される。この方法によれば、塗布され
る液体の膜厚は２の液体の粘度と引昇げスピード
に依存する事が知られており、一般に膜厚コント
ロールが簡単にできる、及び塗布膜厚精度が比較
的良い事から、最も一般的に使用されている方法
と言える。
示した塗布方法断面図で、１は平面基板（以下基
板と呼ぶ）２は塗布される液体（以下液体と呼
ぶ）３は液体容器、４は等速引昇げ装置であり、
３の液体容器に入れられた２の液体に１の基板を
浸漬した後、４の等速引昇げ装置により基板を等
速引昇げする事によつて、１の基板に２の液体が
均一に塗布される。この方法によれば、塗布され
る液体の膜厚は２の液体の粘度と引昇げスピード
に依存する事が知られており、一般に膜厚コント
ロールが簡単にできる、及び塗布膜厚精度が比較
的良い事から、最も一般的に使用されている方法
と言える。
しかし第２図ａからも解る通り、片面のみの塗
布が困難、部分的塗布が困難及び液体の使用量が
多い等の欠点があつた。
布が困難、部分的塗布が困難及び液体の使用量が
多い等の欠点があつた。
第２図ｂは前記(2)の上ロールコート法を模式的
に示した塗布方法断面図で、１は基板、２は液
体、３は液体容器、５は塗布ローラー、６はドク
ターローラー、７は基板を押える押えローラー
（以下押えローラーと呼ぶ）であり、５の塗布ロ
ーラーを回転させる事によつて１の基板を移動さ
せると同時に、３の液体容器に入れられた、２の
液体を５の塗布ローラーに付着させ引上げた後、
６のドクターローラーによつて付着させる液体量
をコントロールし、１の基板に連続的に塗布す
る。７は１の基板と５の塗布ローラ間の液体層を
均一に保持させるための役目を図す。
に示した塗布方法断面図で、１は基板、２は液
体、３は液体容器、５は塗布ローラー、６はドク
ターローラー、７は基板を押える押えローラー
（以下押えローラーと呼ぶ）であり、５の塗布ロ
ーラーを回転させる事によつて１の基板を移動さ
せると同時に、３の液体容器に入れられた、２の
液体を５の塗布ローラーに付着させ引上げた後、
６のドクターローラーによつて付着させる液体量
をコントロールし、１の基板に連続的に塗布す
る。７は１の基板と５の塗布ローラ間の液体層を
均一に保持させるための役目を図す。
この方法によれば、塗布膜の厚みは一般的に、
１の基板と５の塗布ローラー間のギヤツプと５の
塗布ローラーの回転スピード、６のドクターロー
ラーと５の塗布ローラー間のギヤツプ及び２の液
体の粘度に依存する事が知られている。この方法
によれば、連続塗布が可能、片面塗布である。又
液体の使用量が比較的少ない長所を持つが、1cp
〜200cpの範囲の低粘度液体の場合、塗布される
液体の膜厚が均一でなく、基板進行方向前部が薄
く、後部にゆく程厚くなる又、塗布膜厚のコント
ロールが困難である等の欠点を有している。
１の基板と５の塗布ローラー間のギヤツプと５の
塗布ローラーの回転スピード、６のドクターロー
ラーと５の塗布ローラー間のギヤツプ及び２の液
体の粘度に依存する事が知られている。この方法
によれば、連続塗布が可能、片面塗布である。又
液体の使用量が比較的少ない長所を持つが、1cp
〜200cpの範囲の低粘度液体の場合、塗布される
液体の膜厚が均一でなく、基板進行方向前部が薄
く、後部にゆく程厚くなる又、塗布膜厚のコント
ロールが困難である等の欠点を有している。
本考案は前記(1)及び(2)に方法では解決できない
連続塗布ができ、かつ片面のみ塗布及び部分塗布
も可能とし、なおかつ高精度な塗布膜厚を可能と
する、例えば1cp〜200cpの範囲の低粘度液体の
液体塗布装置を提供する事を目的としている。
連続塗布ができ、かつ片面のみ塗布及び部分塗布
も可能とし、なおかつ高精度な塗布膜厚を可能と
する、例えば1cp〜200cpの範囲の低粘度液体の
液体塗布装置を提供する事を目的としている。
本考案の液体塗布装置は、平面基板の一方の面
を押えるための基板押えローラーと、該基板押え
ローラーと対向し且つ前記平面基板が挿入可能な
間隔を有して配置され一部が液体中に浸漬された
塗布ローラーと、該塗布ローラーに近接して配設
されたドクターローラーとを有する液体塗布装置
において、前記平面基板の位置を検出する手段
と、検出されたタイミングでストツパーを接触さ
せて前記平面基板の移動を前記塗布ローラー上で
一定時間停止させるストツパー手段を有すること
を特徴とする。
を押えるための基板押えローラーと、該基板押え
ローラーと対向し且つ前記平面基板が挿入可能な
間隔を有して配置され一部が液体中に浸漬された
塗布ローラーと、該塗布ローラーに近接して配設
されたドクターローラーとを有する液体塗布装置
において、前記平面基板の位置を検出する手段
と、検出されたタイミングでストツパーを接触さ
せて前記平面基板の移動を前記塗布ローラー上で
一定時間停止させるストツパー手段を有すること
を特徴とする。
このようにすることにより、基板上に塗布され
た液体の厚さが前部が薄くなり、後部が厚くなる
といつた不具合点が解消される。
た液体の厚さが前部が薄くなり、後部が厚くなる
といつた不具合点が解消される。
以下本考案に係る実施例を図面を用い詳細に説
明する。
明する。
第１図は本考案の実施例における塗布ローラー
上に基板を一定時間停止させるためのストツパー
を有する液体塗布装置を模式的に示した断面図で
１は基板２は液体、３は液体容器、５は塗布ロー
ラー、６はドクターローラー、７は押えローラ
ー、８はストツパーである。手順を追つて説明す
ると、５の塗布ローラー６のドクターローラー、
は常時回転している。７の押えローラーは、基板
１の移動により回転を与えられるか又は常時回転
している。まず基板１が５の塗布ローラーと７の
押えローラー間にそう入される前にその時の位置
を検出し、同時にその検出されたタイミングで８
のストツパーを公知の電気的又は機械的方法によ
り下降させる。同時にこのタイミングからストツ
パー上昇までの時間をカウントし一定時間後スト
ツパーが上昇する。したがつて、基板１はストツ
パーに移動をさえぎられ５の塗布ローラー上に一
定時間停止し５の塗布ローラーの回転により５の
塗布ローラーと１の基板間に所定量の液体溜りを
形成する。その後ストツパーが上昇解除する事に
より塗布ローラーと同期して基板１が移動する。
これにより基板１と塗布ローラー間の液体溜りが
基板前部から後部にかけ常に一定となり、均一な
塗布膜厚が得られる。
上に基板を一定時間停止させるためのストツパー
を有する液体塗布装置を模式的に示した断面図で
１は基板２は液体、３は液体容器、５は塗布ロー
ラー、６はドクターローラー、７は押えローラ
ー、８はストツパーである。手順を追つて説明す
ると、５の塗布ローラー６のドクターローラー、
は常時回転している。７の押えローラーは、基板
１の移動により回転を与えられるか又は常時回転
している。まず基板１が５の塗布ローラーと７の
押えローラー間にそう入される前にその時の位置
を検出し、同時にその検出されたタイミングで８
のストツパーを公知の電気的又は機械的方法によ
り下降させる。同時にこのタイミングからストツ
パー上昇までの時間をカウントし一定時間後スト
ツパーが上昇する。したがつて、基板１はストツ
パーに移動をさえぎられ５の塗布ローラー上に一
定時間停止し５の塗布ローラーの回転により５の
塗布ローラーと１の基板間に所定量の液体溜りを
形成する。その後ストツパーが上昇解除する事に
より塗布ローラーと同期して基板１が移動する。
これにより基板１と塗布ローラー間の液体溜りが
基板前部から後部にかけ常に一定となり、均一な
塗布膜厚が得られる。
以上述べたように本考案によれば、塗布ロール
の上に、一定時間基板を停止させるストツパー手
段をもうけた事により、基板進行方向前部が薄
く、後部にゆく程厚くなる現象を防ぎ、さらに塗
布膜厚コントロールが非常に正確かつ簡単な、低
粘度液体塗布装置を提供できる。
の上に、一定時間基板を停止させるストツパー手
段をもうけた事により、基板進行方向前部が薄
く、後部にゆく程厚くなる現象を防ぎ、さらに塗
布膜厚コントロールが非常に正確かつ簡単な、低
粘度液体塗布装置を提供できる。
第１図は本考案に係わる一実施例を模式的に示
した断面図。第２図ａは従来の技術である、デイ
ツピング法を模式的に示した断面図、第２図ｂは
同じく従来の技術である上ローラコート法を模式
的に示した断面図。 図中、１……平面基板、２……塗布される液
体、３……液体容器、４……等速引上げ装置、５
……塗布ローラー、６……ドクターローラー、７
……基板を押える押えローラー、８……ストツパ
ー。
した断面図。第２図ａは従来の技術である、デイ
ツピング法を模式的に示した断面図、第２図ｂは
同じく従来の技術である上ローラコート法を模式
的に示した断面図。 図中、１……平面基板、２……塗布される液
体、３……液体容器、４……等速引上げ装置、５
……塗布ローラー、６……ドクターローラー、７
……基板を押える押えローラー、８……ストツパ
ー。
Claims (1)
- 平面基板の一方の面を押えるための基板押えロ
ーラーと、該基板押えローラーと対向し且つ前記
平面基板が挿入可能な間隔を有して配置され一部
が液体中に浸漬された塗布ローラーと、該塗布ロ
ーラーに近接して配設されたドクターローラーと
を有する液体塗布装置において、前記平面基板の
位置を検出する手段と、検出されたタイミングで
ストツパーを接触させて前記平面基板の移動を前
記塗布ローラー上で一定時間停止させるストツパ
ー手段を有することを特徴とする液体塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985177046U JPH0513422Y2 (ja) | 1985-11-18 | 1985-11-18 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985177046U JPH0513422Y2 (ja) | 1985-11-18 | 1985-11-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6283572U JPS6283572U (ja) | 1987-05-28 |
| JPH0513422Y2 true JPH0513422Y2 (ja) | 1993-04-08 |
Family
ID=31117878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985177046U Expired - Lifetime JPH0513422Y2 (ja) | 1985-11-18 | 1985-11-18 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0513422Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5558927A (en) * | 1992-09-17 | 1996-09-24 | Seiko Epson Corporation | Color filter for liquid crystal displays and film-forming apparatus |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS621782B2 (ja) * | 1981-06-05 | 1987-01-16 | Mitsubishi Electric Corp |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6310837Y2 (ja) * | 1985-06-19 | 1988-03-31 |
-
1985
- 1985-11-18 JP JP1985177046U patent/JPH0513422Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS621782B2 (ja) * | 1981-06-05 | 1987-01-16 | Mitsubishi Electric Corp |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6283572U (ja) | 1987-05-28 |
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