JPH05129208A - 薄膜気相成長装置のサセプタ回転支持構造 - Google Patents

薄膜気相成長装置のサセプタ回転支持構造

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JPH05129208A
JPH05129208A JP3190724A JP19072491A JPH05129208A JP H05129208 A JPH05129208 A JP H05129208A JP 3190724 A JP3190724 A JP 3190724A JP 19072491 A JP19072491 A JP 19072491A JP H05129208 A JPH05129208 A JP H05129208A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 複数枚のウエハを水平面上に並べて同時に薄
膜成長させる薄膜気相成長装置に於いて、ウエハを自動
搬送することができるという特徴を失うことなく、ウエ
ハを自転させ公転させることができるようにすること。 【構成】 公転する軸の上にキャリヤを設けここに遊星
歯車を有するサセプタ受け歯車を軸支する。サセプタ受
け歯車の上により広い直径を有するサセプタを置く。サ
セプタはトレイの段部に引っ掛かるので、トレイを持ち
上げるとサセプタが、サセプタ受け歯車から離れて持ち
上がる.遊星歯車は中央にある静止した太陽歯車と噛み
合っている。キャリヤが公転するとサセプタ受け歯車が
自転する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明はMOCVD装置などの
薄膜気相成長装置において用いられるサセプタの支持回
転構造に関する。特にウエハを載せたサセプタを着脱し
自動搬送できしかも成長時はサセプタを自転公転できる
ようにした改良に関する。
【0002】
【従来の技術】MOCVD法は真空チャンバの中に有機
金属ガスや水素化物ガスを導入し加熱された基板の上に
反応生成物の薄膜を成長させるものである。ガスは上か
ら下に向けて流れる。サセプタの上に基板を置くが、サ
セプタの形状にはいくつもの種類がある。鉛直に近い傾
斜面に複数の基板を取り付けるバレル型のものもある。
また水平面の上に1枚の基板を置くもの(枝葉式)もあ
る。さらに水平面の上に複数の基板(ウエハ)を載せる
方式のものもある。本発明はこのようなものの改良に関
する。この場合、サセプタは公転することができるよう
になっている。ガスの流れや温度が円周方向に於いて相
異すると薄膜形成の条件が異なるわけであるから膜厚や
膜質が一定にならない。それで円周方向の均一性を挙げ
るためにサセプタを中心軸の周りに回転するようになっ
ているのである。
【0003】MOCVD法に於いてもうひとつ重要な事
は、基板を自動搬送する事ができるという事である。基
板をサセプタに着装するためいちいち真空チャンバを開
き大気にさらしているようではいけない。生産性が低下
するしチャンバ壁に不純物が吸着されるということもあ
る。また有毒な成分が外部へ飛散するということもあ
る。多くの場合水平方向に移動でき先端が二股になった
フォ−クによりウエハトレイを搬送するようになってい
る。さて複数枚の基板を載せることのできるサセプタで
あるが、中心軸のまわりに回転させているだけでは、半
径方向の均一性を確保することができない。そこで複数
の基板自体を基板の中心軸のまわりに自転させたいとい
う要求が強くなってきた。しかし高温で真空中のチャン
バ内部のことであるから、多数の機械部品、駆動源を設
けるわけにはゆかない。
【0004】特開昭64−27226には図4,図5に
示すような自転する基板を有する気相成長装置が説明さ
れている。図4は水平円板のサセプタ41の上に複数の
止め穴42を穿ちそのまわりに軸受43を設け、サセプ
タ41の中心に太陽歯車44を設置したものである。複
数のウエハ受け歯車45をサセプタの上に置く。これら
は周縁に歯車が切ってあり下方中央に突起46を有す
る。この突起46が止め穴42の中に入るのでウエハ受
け歯車45は回転できる。ウエハ受け歯車45の外歯が
太陽歯車44に噛み合っているため、公転用モ−タ47
によってサセプタ41が公転し、自転用モ−タ48によ
って太陽歯車44が回転すると、その中心軸のまわりに
自転する。
【0005】この装置はたしかにウエハ49を自転公転
させることができるのであるがウエハを真空中で自動的
に搬送することはできない。ウエハ受け歯車を側方から
フォ−クで持ち上げる事ができないし、ウエハだけを持
ち上げるということも難しいからである。図5に示すも
のはウエハ51を斜め上向きに複数枚支持するものであ
る。ベベルギヤ52、53の噛合いを用いている。個々
のサセプタ54の内端にベベルギヤ52があり、これら
が水平方向に固定されたベベルギヤ53に噛み合ってい
る。円錐状のサセプタ支持錐5が公転すると、ウエハ5
1は公転自転する。しかしこの装置もウエハを真空中に
於いて自動的に搬送することができない。ウエハの交換
のためには真空チャンバを開き作業者が手によってウエ
ハを交換しなければならないのである。
【0006】このようにウエハを支持するサセプタに歯
車を設け、固定歯車との噛合いでウエハを自転させるも
のは公転のための駆動力を利用して自転させるのである
から、新たに駆動機構などを設ける必要がないという利
点がある。しかし歯車の噛合いが必要であり、フォ−ク
のように操作性の悪いもので歯車の着脱はできないか
ら、このような装置では自動搬送というような事は全く
不可能であった。本発明はこのような難点を解決し、ウ
エハ(基板)を真空中で自動搬送することができしかも
ウエハが自転公転できるようにしたサセプタ支持回転構
造を提供する。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の薄膜気相成長装
置のサセプタ回転支持構造は、真空チャンバの中へ原料
気体を導入し加熱されたサセプタの上に置かれた基板の
上へ反応生成物の薄膜を成長させる事とした薄膜気相成
長装置のサセプタ回転支持構造であって、筒状で鉛直方
向に設けられた鉛直軸のまわりに回転する事のできる公
転軸と、公転軸の上端によって固定支持されるより直径
の大きい筒状体である支持筒と、円板状であってサセプ
タが上から入るような段部を有する挿入穴が複数個切欠
かれており支持筒の上端に着脱可能に戴置できるトレイ
と、公転軸の内部を通って鉛直方向に設けられ回転しな
い固定軸と、固定軸の上端に直接或は間接に設けられる
中心軸と、中心軸の上端のトレイとほぼ同じ高さに固定
される太陽歯車と、支持筒の上端に於いて中心方向に向
けて固定され先端に傾斜穴を有する複数のキャリヤと、
円形であって上面に凹部を有し下面中心に下向き突起を
有し周囲に遊星歯車を刻んでありトレイの挿入穴に遊嵌
され前記キャリヤの傾斜穴に下向き突起が挿入され遊星
歯車が前記太陽歯車に噛合うようにした複数のサセプタ
受け歯車と、円形であってトレイの挿入穴の段部よりも
大きい直径を有し上面に基板を支持し前記サセプタ受け
歯車の凹部に戴置されるべき複数のサセプタとよりな
り、公転軸が回転する事によりサセプタが公転自転する
ようにした事を特徴とする。
【0008】
【作用】サセプタ受け歯車の中心軸は、キャリヤの傾斜
穴に差し込んでありキャリヤは公転軸とともに回転する
から、サセプタ受け歯車は公転する。サセプタ受け歯車
は側周に遊星歯車を持ちこれが静止した太陽歯車と噛み
合っているからサセプタ受け歯車がその中心軸のまわり
に自転する。このような点は先述のものと同じである。
しかし本発明に於いてはトレイを持ち上げることがで
き、トレイを持ち上げると、段部によってサセプタも持
ち上がるので、ウエハ(基板)の自動搬送が可能であ
る。サセプタ受け歯車は持ち上がらず、サセプタのみが
これから離れてトレイとともに持ち上がる。このため歯
車と歯車との噛合部が外れたり噛み合ったりするような
ことがない。また歯車は外れないから中心軸を合わせて
再挿入しなければならないということもない。
【0009】トレイをフォ−クのような先端の分岐した
搬送装置で持ち上げればトレイとサセプタ、基板のみが
他の部品から分離する。もちろんトレイを回転支持構造
の上へ置く場合はトレイの位相と支持機構の回転部の位
相とを合致させておかなくてはならない。回転軸を一定
箇所に静止させるための技術は既に用いられている。こ
れは例えば回転軸のまわりにいくつかの切り込みを設け
たリングを固定しておき、切り込みに対して進退する止
め部材を設けておくことによってなされる。モ−タの回
転角を制御することによりおおざっぱな停止位置に回転
軸を止める。この状態で止め部材を進ませて切り込みに
押し込むと回転軸が微かに動いて一定位置に停止するの
である。
【0010】
【実施例】図1は本発明の実施例にかかるサセプタ回転
支持構造の縦断面図である。図2はやや縮小した平面図
である。サセプタ回転支持のための機構は、最上位置に
円板状のトレイ1を有する。トレイ1は広い円筒状の部
材である支持筒2の上端に着脱自在に設けられる。支持
筒2はその下端に於いて公転軸3の上フランジ部4に固
着されている。
【0011】公転軸3も筒体であるがこれは下方で適当
な軸受けによって回転可能に支持されかつ駆動機構(図
示せず)によって回転できるようになっている。公転軸
3、上フランジ部4、支持筒2、トレイ1は一体となっ
て中心軸線のまわりを回転する。公転軸3の内部に固定
軸5がある。固定軸5の上端には固定円板6が固着され
る。固定円板6には鉛直方向に複数の固定支持棒7が立
設してある。固定支持棒7の上端には円板状の受け板8
が固定されている。受け板8の上には円環状のリフレク
タ9が複数枚積層されている。これはMo又Taなど耐
熱金属の薄板である。受け板8の中央には中心軸10が
上向きに固着させている。これもMoなどの高融点金属
で作ることができる。中心軸10の上には太陽歯車11
が固着される。下方の筒部12が中心軸10に固定され
ているから太陽歯車11は回転しない。
【0012】トレイ1は平面円板状であるが外側で下方
へ垂下された形状の外縁13を有する。外縁13によっ
て支持筒2の上端周を囲むようになっている。トレイ1
は支持筒2に固定されておらず、着脱可能である。外縁
13が支持筒2に嵌りこむから、着装した状態でトレイ
1は左右に動かない。トレイ1の中心14は、太陽歯車
11が入るための凹部15が内部に形成されているので
薄肉になっている。支持筒2の上端16にトレイ1の裏
面が支持されるのであるが、これの近くの内周面に内側
に突き出たリング状の段17が形成してある。
【0013】この段17には、内向きに延びる複数のキ
ャリヤ18を有するキャリヤリング19が固定されてい
る。キャリヤリングは例えばMoで作ることができる。
ウエハの数に等しいキャリヤ18を持っている。この部
分を詳しく示すために図2の平面図ではトレイの一部を
切欠き、サセプタを除いた状態のものも示している。ト
レイ1には処理すべきウエハの数に等しい円形の挿入穴
20が穿たれる。これは中間高さに段部21を有する。
上方からサセプタ22、サセプタ受け歯車23がトレイ
1の挿入穴20へ嵌めこまれる。
【0014】サセプタ受け歯車23は上面に、サセプタ
22がぴったり嵌り込む凹部24を有する。側周には遊
星歯車25が刻んであって、これが中心の太陽歯車11
に噛み合っている。サセプタ受け歯車23の下面中央に
は下向きに先細りの突起26が形成してある。この突起
26がすべり筒27を介して、キャリヤ18の先端に穿
たれた傾斜穴28に差し込まれている。つまりサセプタ
受け歯車23は傾斜穴28の中心軸線のまわりに回転で
きる。サセプタ受け歯車23の側周にある遊星歯車25
はトレイ1の挿入穴20の内側面には接触しない。段部
21の内径よりもさらに小さい外径を有するからであ
る。キャリヤリング19はMoによって作ることができ
る。
【0015】サセプタ22は円形の薄い容器である。上
面にはウエハ29を戴置すべき浅い凹部30がある。下
面はサセプタ受け歯車23の凹部24によって支持され
る。周縁のフランジ部31はサセプタ受け歯車23より
も広くて、トレイ1の挿入穴20の中間にある段部21
より広い直径を持つ。このためトレイ1を持ち上げると
段部21に引っかかってサセプタ22が持ち上がること
になる。以上がサセプタの回転支持のための機構であ
る。この実施例ではサセプタを抵抗加熱するようになっ
ているから、支持筒2の内部にカ−ボンのヒータを内蔵
している。もちろん本発明は抵抗加熱方式に限られるも
のではなく、外部にある誘導コイルによってサセプタを
加熱するようにした誘導加熱方式にも適用できる。この
場合は支持筒の中にヒ−タは存在しないわけである。
【0016】固定軸5の内側に2本の電極棒32が縦に
設けられる。これらは上端で半径方向に拡がる水平部3
3、縦方向立上り部34に変形されている。これもたと
えばMoの棒材で作られる。縦方向立上り部34に、電
極部35を介して渦巻き状のカ−ボン抵抗36が取り付
けられる。カ−ボン抵抗36は電極部35と一体のもの
として作られている。渦巻き状抵抗36の形状や分布は
ウエハの面内の温度分布が均一になるように適当に決定
される。電流は一方の電極棒32から一方の電極棒35
を通りカ−ボン抵抗体を通って反対側の電極部35、電
極棒32へと流れていく。
【0017】カ−ボン抵抗体からジュ−ル熱が発生し輻
射となってサセプタ22を加熱する。リフレクタ9は下
側に向かった輻射を反射してサセプタ22の方へ戻すた
めのものである。以上の構成に於いてその作用を説明す
る。公転軸3が下部にあるモ−タ(図示せず)の力によ
って回転する。この公転の角速度をΩ1 とする。これと
同じ角速度で支持筒2、トレイ1が回転する。トレイ1
が回転すると、キャリヤ18も同じ速さで回転する。従
ってサセプタ22、サセプタ受け歯車23も同じ角速度
で回転する。
【0018】ところがサセプタ受け歯車23の側周にあ
る遊星歯車25が静止した太陽歯車11と噛み合ってい
るので、サセプタ受け歯車23は公転の方向と同じ方向
に自転もする。自転の角速度Ω2 は Ω2 =(S+P)Ω1 /P (1) である。ただしSは太陽歯車の歯数、Pは遊星歯車の歯
数である。Ω2 は実験室系に対する回転角速度である。
サセプタ受け歯車のトレイに対する相対回転角速度Ω3
を求めると、これは、 Ω3 =Ω2 −Ω1 =SΩ1 /P (2) となる。相対自転角速度は公転角速度Ω1 よりも小さい
(S/P<1であれば)がそれでも自転することはする
のである。温度分布やガス流の分布を同一にするために
ウエハを回転するのであるからあまり速く回転しなくて
もよいのである。
【0019】さて本発明に於いて最も重要なのはウエハ
が自動搬送できるという事である。トレイ1の外縁13
の下に入る二股分岐を持ったフォ−クを支持筒2の周囲
に差し込み、支持筒2、固定軸5、公転軸3など全体を
下方に下げる。するとフォ−クの上にトレイ1が乗り、
他の部分から切り離される。トレイ1の段部21によっ
てサセプタ22、ウエハ29がトレイ1の上に残る。サ
セプタ受け歯車23は下方へ降りる。図3は持ち上げら
れたトレイ部分のみを示す断面図である。このようなト
レイ1、サセプタ22、ウエハ29のみが取り上げられ
る。この状態でフォークによって搬送される。トレイを
取り付ける場合はこの逆であるが、位置決めをしなくて
はならない。つまり公転軸3を停止した場合に常に同じ
位相で停止するようにするのである。これについては既
に述べた。モ−タの停止時の回転数を適当に規定するこ
とによりおおまかな位置決めをして、さらに機械的手段
によって、厳格な位置決めをするのである。
【0021】
【発明の効果】薄膜気相成長装置に於いてウエハを自転
公転させることができるので、温度分布やガス流れの分
布が各ウエハ間、及びひとつのウエハの面内で均一にな
る。このため膜厚、膜質の一定した薄膜を成長させるこ
とができる。さらにウエハを載せたトレイを取り付けた
り取り外したりするのが自動的に行えるので自動搬送す
ることができる。真空を破ることなくウエハの交換がで
きるから、生産性が向上するし、品質が一定する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例にかかる薄膜気相成長装置のサ
セプタ回転支持構造の概略を示す縦断面図。
【図2】同じものの一部切欠き平面図。
【図3】トレイのみを持ち上げた場合のトレイ部品の縦
断面図。
【図4】従来例にかかる気相成長装置の概略断面図。
【図5】他の従来例にかかる気相成長装置の概略断面
図。
【符号の説明】
1 トレイ 2 支持筒 3 公転軸 4 上フランジ部 5 固定軸 6 固定円板 7 固定支持棒 8 受け板 9 リフレクタ 10 中心軸 11 太陽歯車 13 トレイの外縁 18 キャリヤ 19 キャリヤリング 20 挿入穴 21 段部 22 サセプタ 23 サセプタ受け歯車 25 遊星歯車 26 突起 28 傾斜穴 29 ウエハ 32 電極棒 35 電極部 36 抵抗加速ヒ−タ
【手続補正書】
【提出日】平成4年10月16日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空チャンバの中へ原料気体を導入し加
    熱されたサセプタの上に置かれた基板の上へ反応生成物
    の薄膜を成長させる事とした薄膜気相成長装置のサセプ
    タ回転支持構造であって、筒状で鉛直方向に設けられた
    鉛直軸のまわりに回転する事のできる公転軸と、公転軸
    の上端によって固定支持されるより直径の大きい筒状体
    である支持筒と、円板状であってサセプタが上から入る
    ような段部を有する挿入穴が複数個切欠かれており支持
    筒の上端に着脱可能に戴置できるトレイと、公転軸の内
    部を通って鉛直方向に設けられ回転しない固定軸と、固
    定軸の上端に直接或は間接に設けられる中心軸と、中心
    軸の上端のトレイとほぼ同じ高さに固定される太陽歯車
    と、支持筒の上端に於いて中心方向に向けて固定され先
    端に傾斜穴を有する複数のキャリヤと、円形であって上
    面に凹部を有し下面中心に下向き突起を有し周囲に遊星
    歯車を刻んでありトレイの挿入穴に遊嵌され前記キャリ
    ヤの傾斜穴に下向き突起が挿入され遊星歯車が前記太陽
    歯車に噛合うようにした複数のサセプタ受け歯車と、円
    形であってトレイの挿入穴の段部よりも大きい直径を有
    し上面に基板を支持し前記サセプタ受け歯車の凹部に戴
    置されるべき複数のサセプタとよりなり、公転軸が回転
    する事によりサセプタが公転自転するようにした事を特
    徴とする薄膜気相成長装置のサセプタ回転支持構造。
  2. 【請求項2】 真空チャンバの中へ原料気体を導入し加
    熱されたサセプタの上に置かれた基板の上へ反応生成物
    の薄膜を成長させる事とした薄膜気相成長装置のサセプ
    タ回転支持構造であって、筒状で鉛直方向に設けられた
    鉛直軸のまわりに回転する事のできる公転軸と、公転軸
    の上端によって固定支持されるより直径の大きい筒状体
    である支持筒と、円板状であってサセプタが上から入る
    ような段部を有する挿入穴が複数個切欠かれており支持
    筒の上端に着脱可能に戴置できるトレイと、公転軸の内
    部を通って鉛直方向に設けられ回転しない固定軸と、固
    定軸の上端に設けられた水平の受け板と、受け板の上面
    周縁に置かれた複数の円板状のリフレクタと、支持筒の
    内部であってリフレクタとサセプタの間に設けられる抵
    抗加熱ヒ−タと、抵抗加熱ヒ−タを支持しかつこれに電
    流を流すため公転軸の内部に設けられた電極棒と、前記
    受け板の中央に上向きに固定された中心軸と、中心軸の
    上端のトレイとほぼ同じ高さに固定される太陽歯車と、
    支持筒の上端に於いて中心方向に向けて固定され先端に
    傾斜穴を有する複数のキャリヤと、円形であって上面に
    凹部を有し下面中心に下向き突起を有し周囲に遊星歯車
    を刻んでありトレイの挿入穴に遊嵌され前記キャリヤの
    傾斜穴に下向き突起が挿入され遊星歯車が前記太陽歯車
    に噛合うようにした複数のサセプタ受け歯車と、円形で
    あってトレイの挿入穴の段部よりも大きい直径を有し上
    面に基板を支持し前記サセプタ受け歯車の凹部に戴置さ
    れるべき複数のサセプタとよりなり、公転軸が回転する
    事によりサセプタが公転自転するようにした事を特徴と
    する薄膜気相成長装置のサセプタ回転支持構造。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100247981B1 (ko) * 1997-08-22 2000-04-01 윤종용 피도금체의지그장치
KR100489189B1 (ko) * 2002-01-14 2005-05-11 주성엔지니어링(주) 서셉터 구조물
JP2006057183A (ja) * 2004-08-20 2006-03-02 Jds Uniphase Corp 蒸着システム用の磁気ラッチ
JP2011044532A (ja) * 2009-08-20 2011-03-03 Varios Kk 半導体基板の回転保持装置
WO2012104928A1 (ja) * 2011-02-04 2012-08-09 フジエピ セミコンダクダー イクイップメント インコーポレイティッド 半導体基板の回転保持装置及び搬送装置
JP2013219217A (ja) * 2012-04-10 2013-10-24 Taiyo Nippon Sanso Corp 気相成長装置
CN115216727A (zh) * 2021-04-16 2022-10-21 西安青松光电技术有限公司 一种led灯板选择性镀膜装置、选择性镀膜方法及led灯板

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100247981B1 (ko) * 1997-08-22 2000-04-01 윤종용 피도금체의지그장치
KR100489189B1 (ko) * 2002-01-14 2005-05-11 주성엔지니어링(주) 서셉터 구조물
JP2006057183A (ja) * 2004-08-20 2006-03-02 Jds Uniphase Corp 蒸着システム用の磁気ラッチ
JP2011044532A (ja) * 2009-08-20 2011-03-03 Varios Kk 半導体基板の回転保持装置
WO2012104928A1 (ja) * 2011-02-04 2012-08-09 フジエピ セミコンダクダー イクイップメント インコーポレイティッド 半導体基板の回転保持装置及び搬送装置
JP2013219217A (ja) * 2012-04-10 2013-10-24 Taiyo Nippon Sanso Corp 気相成長装置
CN115216727A (zh) * 2021-04-16 2022-10-21 西安青松光电技术有限公司 一种led灯板选择性镀膜装置、选择性镀膜方法及led灯板

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