JPH0512522Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0512522Y2 JPH0512522Y2 JP1986111453U JP11145386U JPH0512522Y2 JP H0512522 Y2 JPH0512522 Y2 JP H0512522Y2 JP 1986111453 U JP1986111453 U JP 1986111453U JP 11145386 U JP11145386 U JP 11145386U JP H0512522 Y2 JPH0512522 Y2 JP H0512522Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bellows
- dust
- vacuum
- space
- several
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 12
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
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- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
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- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Diaphragms And Bellows (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本考案は、主として真空バルブその他の真空部
材に適用されるベローシール装置に関する。
材に適用されるベローシール装置に関する。
（従来の技術）
従来この種装置として、真空空間と、その外部
の大気空間その他の空間との間に金属製のベロー
ズを介在させて、両空間を互いに気密に隔離する
式のものは知られる。
の大気空間その他の空間との間に金属製のベロー
ズを介在させて、両空間を互いに気密に隔離する
式のものは知られる。
（考案が解決しようとする問題点）
然し乍ら、この場合、該ベローズは、成形加工
した状態でそのまゝ使用される式を一般としたも
ので、かゝるものではその表面に発塵を生じ勝ち
であり、特に伸縮回数の増大によれば、分子レベ
ルの剥離による発塵を生じ勝ちであり、これは例
えば半導体装置の無塵化の要求に対し、大きな問
題であり、これを換言すれば、該ベローズを発塵
のないものとすべき要求が存する。
した状態でそのまゝ使用される式を一般としたも
ので、かゝるものではその表面に発塵を生じ勝ち
であり、特に伸縮回数の増大によれば、分子レベ
ルの剥離による発塵を生じ勝ちであり、これは例
えば半導体装置の無塵化の要求に対し、大きな問
題であり、これを換言すれば、該ベローズを発塵
のないものとすべき要求が存する。
（問題点を解決するための手段）
本考案はかゝる要求に適合する装置を得ること
をその目的とするもので、真空空間と、その外部
の空間との間に、金属製のベローズを介在させて
両空間を互に気密に隔離するものにおいて、該ベ
ローズを、予め電解研摩或は化学研摩して、その
表面を数Å乃至数100Å程度の平滑面に形成させ
て成る。
をその目的とするもので、真空空間と、その外部
の空間との間に、金属製のベローズを介在させて
両空間を互に気密に隔離するものにおいて、該ベ
ローズを、予め電解研摩或は化学研摩して、その
表面を数Å乃至数100Å程度の平滑面に形成させ
て成る。
（作用）
その作用を説明するに、ベローズは予め電解研
摩等を施されてその表面を比較的平面度の高い平
滑面として用意するもので、その使用に際しクリ
ーニングが容易となつて初期のダストパーテイク
ルの発生量を減少させ得ると共に、表面研摩によ
れば金属疲労寿命が増大するため、伸縮回数の増
大によるもその表面に分子レベルの剥離がなく、
これを換言すれば、伸縮回数の増大によるも発塵
を生じない。
摩等を施されてその表面を比較的平面度の高い平
滑面として用意するもので、その使用に際しクリ
ーニングが容易となつて初期のダストパーテイク
ルの発生量を減少させ得ると共に、表面研摩によ
れば金属疲労寿命が増大するため、伸縮回数の増
大によるもその表面に分子レベルの剥離がなく、
これを換言すれば、伸縮回数の増大によるも発塵
を生じない。
（実施例）
本考案実施の１例を別紙図面に付説明する。
図面は半導体装置その他の真空処理装置におけ
る真空回路に介入される真空バルブに適用した場
合を示すもので、１は外周の弁筐、２はその内部
の真空空間を示し、該弁筐１内に上下方向にのび
る弁体３をその上側の駆動シリンダ４により昇降
自在に設けると共に、該弁体３の外周に、これを
囲繞する伸縮自在の金属製のベローズ５を備え
て、該ベローズ５により、前記した真空空間２
と、該ベローズ５内の外部に連通する空間６とを
互に気密に隔離するもので、かくて全体としてベ
ローシール型の真空バルブに得られるようにし
た。
る真空回路に介入される真空バルブに適用した場
合を示すもので、１は外周の弁筐、２はその内部
の真空空間を示し、該弁筐１内に上下方向にのび
る弁体３をその上側の駆動シリンダ４により昇降
自在に設けると共に、該弁体３の外周に、これを
囲繞する伸縮自在の金属製のベローズ５を備え
て、該ベローズ５により、前記した真空空間２
と、該ベローズ５内の外部に連通する空間６とを
互に気密に隔離するもので、かくて全体としてベ
ローシール型の真空バルブに得られるようにし
た。
以上は従来のものと特に異ならないが、本考案
によれば、該ベローズ５に予め電解研摩或は化学
研摩を施してその表面５ａを平面度数Å乃至数
100Å程度の比較的高い平面度の平滑面に形成さ
せるようにした。
によれば、該ベローズ５に予め電解研摩或は化学
研摩を施してその表面５ａを平面度数Å乃至数
100Å程度の比較的高い平面度の平滑面に形成さ
せるようにした。
電解研摩或は化学研摩それ自体は、公知であ
り、金属をある種の溶液中で電気科学的或は科学
的に溶出させて光沢を出し、あるいはさらに平滑
化する工程のことで、本案の場合、それは従来の
ものと特に異なることなく、比較的高い平面度の
平滑面に得られ、かくてその使用に際し、クリー
ニングが容易であつて初期のダストパーテイクル
量即ち、初期の発塵量が少なくなり、更に該研摩
によれば金属疲労寿命が伸びるため、伸縮回数の
増大によるも、その表面の分子レベルの剥離即ち
それによる発塵も著しく減少される。
り、金属をある種の溶液中で電気科学的或は科学
的に溶出させて光沢を出し、あるいはさらに平滑
化する工程のことで、本案の場合、それは従来の
ものと特に異なることなく、比較的高い平面度の
平滑面に得られ、かくてその使用に際し、クリー
ニングが容易であつて初期のダストパーテイクル
量即ち、初期の発塵量が少なくなり、更に該研摩
によれば金属疲労寿命が伸びるため、伸縮回数の
増大によるも、その表面の分子レベルの剥離即ち
それによる発塵も著しく減少される。
この事実は、考案者の実験により確認されてお
り、その結果は、例えば第２図及び第３図示の通
りである。即ち、該第２図はベローズに電気科学
的研摩処理を施した本考案による真空バルブの場
合、第３図はベローズが未処理の従来例の真空バ
ルブの場合の測定結果であり、横軸にバルブの開
閉回数、縦軸にバルブの１開閉当りの平均ダスト
パーテイクル発生個数が示される。両図の比較か
ら明らかなように、初期の発生量は、本考案の場
合、従来例に比して1/10程度に減少され、更に開
閉回数の増大によれば、本考案の場合、多少とも
発塵はあるが、その量は従来例に比し数10分の１
の或はそれ以下となり、更に開閉回数が増大した
とき、従来例では、分子レベルの剥離による発塵
が見られるが、本考案のものではかゝる発塵が全
く見られない。
り、その結果は、例えば第２図及び第３図示の通
りである。即ち、該第２図はベローズに電気科学
的研摩処理を施した本考案による真空バルブの場
合、第３図はベローズが未処理の従来例の真空バ
ルブの場合の測定結果であり、横軸にバルブの開
閉回数、縦軸にバルブの１開閉当りの平均ダスト
パーテイクル発生個数が示される。両図の比較か
ら明らかなように、初期の発生量は、本考案の場
合、従来例に比して1/10程度に減少され、更に開
閉回数の増大によれば、本考案の場合、多少とも
発塵はあるが、その量は従来例に比し数10分の１
の或はそれ以下となり、更に開閉回数が増大した
とき、従来例では、分子レベルの剥離による発塵
が見られるが、本考案のものではかゝる発塵が全
く見られない。
（考案の効果）
このように本考案によるときは、シール作用の
金属製のベローズを、予め電解研摩或は化学研摩
してその表面を比較的高い平面度の平滑面に形成
させるもので、発塵量を従来のものに比し著しく
減少し得ると共に、その減少は伸縮回数の増大に
よれば一層顕著であり、かくて長期に亘り実質上
無塵状態で使用することが可能であり、例えば半
導体装置その他の真空処理装置における真空バル
ブその他に適用して該装置の無塵化の要求に良好
に適合することが出来、その構成は簡単で廉価に
得られる等の効果を有する。
金属製のベローズを、予め電解研摩或は化学研摩
してその表面を比較的高い平面度の平滑面に形成
させるもので、発塵量を従来のものに比し著しく
減少し得ると共に、その減少は伸縮回数の増大に
よれば一層顕著であり、かくて長期に亘り実質上
無塵状態で使用することが可能であり、例えば半
導体装置その他の真空処理装置における真空バル
ブその他に適用して該装置の無塵化の要求に良好
に適合することが出来、その構成は簡単で廉価に
得られる等の効果を有する。
第１図は本案装置の１例の説明線図、第２図及
び第３図は発塵特性の説明線図である。 ２……真空空間、６……外部空間、５……ベロ
ーズ、５ａ……表面。
び第３図は発塵特性の説明線図である。 ２……真空空間、６……外部空間、５……ベロ
ーズ、５ａ……表面。
Claims (1)
- 真空空間と、その外部の空間との間に、金属製
のベローズを介在させて、両空間を互に気密に隔
離するものにおいて、該ベローズを、予め電解研
摩或は化学研摩して、その表面を数Å乃至数100
Å程度の平滑面に形成させて成るベローシール装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986111453U JPH0512522Y2 (ja) | 1986-07-22 | 1986-07-22 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986111453U JPH0512522Y2 (ja) | 1986-07-22 | 1986-07-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6318674U JPS6318674U (ja) | 1988-02-06 |
| JPH0512522Y2 true JPH0512522Y2 (ja) | 1993-03-31 |
Family
ID=30991392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986111453U Expired - Lifetime JPH0512522Y2 (ja) | 1986-07-22 | 1986-07-22 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0512522Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2574827Y2 (ja) * | 1991-02-25 | 1998-06-18 | 東陶機器株式会社 | パネル引掛け梁構造 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53123337A (en) * | 1977-04-01 | 1978-10-27 | Daburiyuu Murudaa Jierarudo | Improved polishing composition |
-
1986
- 1986-07-22 JP JP1986111453U patent/JPH0512522Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53123337A (en) * | 1977-04-01 | 1978-10-27 | Daburiyuu Murudaa Jierarudo | Improved polishing composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6318674U (ja) | 1988-02-06 |
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