JPH05121817A - 狭帯域エキシマレーザ - Google Patents
狭帯域エキシマレーザInfo
- Publication number
- JPH05121817A JPH05121817A JP28342091A JP28342091A JPH05121817A JP H05121817 A JPH05121817 A JP H05121817A JP 28342091 A JP28342091 A JP 28342091A JP 28342091 A JP28342091 A JP 28342091A JP H05121817 A JPH05121817 A JP H05121817A
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- JP
- Japan
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- resonator
- etalon
- curvature
- excimer laser
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- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 狭帯域エキシマレーザの効率を向上させると
ともに、高次横モードを発生させる。 【構成】 球面鏡により共振器を構成し、その曲率半径
をR1、R2とし、共振器の長さをdとするとき 0≦(1−d/R1)(1−d/R2)≦1 の安定条件を満たすように曲率半径と長さを決めるとと
もに、エタロンの内でエタロンを構成するミラ−の間隔
が最も広いエタロンをおおむねビ−ムウエスト位置に配
置する。また、部分反射鏡の曲率半径をR1、共振器の
長さをdとしたとき、R1<2d とすることにより、
グレーティングをおおむねビームウエストに配置するこ
とができ、狭帯域エキシマレーザの効率の向上を図るこ
とができる。
ともに、高次横モードを発生させる。 【構成】 球面鏡により共振器を構成し、その曲率半径
をR1、R2とし、共振器の長さをdとするとき 0≦(1−d/R1)(1−d/R2)≦1 の安定条件を満たすように曲率半径と長さを決めるとと
もに、エタロンの内でエタロンを構成するミラ−の間隔
が最も広いエタロンをおおむねビ−ムウエスト位置に配
置する。また、部分反射鏡の曲率半径をR1、共振器の
長さをdとしたとき、R1<2d とすることにより、
グレーティングをおおむねビームウエストに配置するこ
とができ、狭帯域エキシマレーザの効率の向上を図るこ
とができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は露光装置用光源として使
用される狭帯域エキシマレーザに関するものである。
用される狭帯域エキシマレーザに関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体に0.5μm以下の線を露光する
ための装置(ステッパ)用光源として波長の短いエキシ
マレーザが注目されている。実際にステッパに用いる際
の条件として次のようなことがある。レンズの色収差を
防ぐためには波長幅として2pm以下にしなければなら
ない。また、露光むらを防ぐためには高次横モードのビ
ームにすること。加工速度を高めるために数W以上にす
ることなどが要求されている。
ための装置(ステッパ)用光源として波長の短いエキシ
マレーザが注目されている。実際にステッパに用いる際
の条件として次のようなことがある。レンズの色収差を
防ぐためには波長幅として2pm以下にしなければなら
ない。また、露光むらを防ぐためには高次横モードのビ
ームにすること。加工速度を高めるために数W以上にす
ることなどが要求されている。
【0003】エキシマレーザの狭帯域化の技術として、
グレーティングを使う方法、エタロンを使う方法などが
あるが、特開平2−224383号公報ではエタロンを
共振器のビ−ムウエストに置くことにより狭帯域化時の
効率を向上させる方法が示されている。さらに特開平2
−303178号公報ではグレ−ティングで狭帯域化を
行う際に部分反射鏡として、シリンドリカルミラーを使
って効率を向上させる方法が示されている。
グレーティングを使う方法、エタロンを使う方法などが
あるが、特開平2−224383号公報ではエタロンを
共振器のビ−ムウエストに置くことにより狭帯域化時の
効率を向上させる方法が示されている。さらに特開平2
−303178号公報ではグレ−ティングで狭帯域化を
行う際に部分反射鏡として、シリンドリカルミラーを使
って効率を向上させる方法が示されている。
【0004】この動作を特開平2−224383に示さ
れた例をもとに説明する。第8図において1は部分反射
鏡、2は窓、3は放電チャンバ、4は全反射鏡、5はエ
タロン、6はレーザビームである。放電チャンバ3のな
かにはエキシマレーザの媒質となるガスが封入されてお
り、このガス中で放電を行うと紫外の強い光が発生す
る。この光は窓2から放電チャンバ外に放射され、部分
反射鏡1と全反射鏡4からなる光共振器中を往復する間
に強められ、かつ、エタロン5により波長が撰択され
る。その際、部分反射鏡1と全反射鏡4をそれぞれ曲率
R1、R2の凹面ミラーとし、部分反射鏡1から全反射
鏡までの距離をd、エタロン5から全反射鏡4までの距
離をtとすると、以下の関係を満たすようそれぞれの素
子の仕様を決めるとレーザ光6が最も平行になるビーム
ウエスト位置にエタロンが配置されることになる。エタ
ロンは特定角度のみを選択するため、ビ−ムウエスト位
置ではエタロンの透過効率が向上する。 t=d(R1−d)/(R1+R2ー2d)
れた例をもとに説明する。第8図において1は部分反射
鏡、2は窓、3は放電チャンバ、4は全反射鏡、5はエ
タロン、6はレーザビームである。放電チャンバ3のな
かにはエキシマレーザの媒質となるガスが封入されてお
り、このガス中で放電を行うと紫外の強い光が発生す
る。この光は窓2から放電チャンバ外に放射され、部分
反射鏡1と全反射鏡4からなる光共振器中を往復する間
に強められ、かつ、エタロン5により波長が撰択され
る。その際、部分反射鏡1と全反射鏡4をそれぞれ曲率
R1、R2の凹面ミラーとし、部分反射鏡1から全反射
鏡までの距離をd、エタロン5から全反射鏡4までの距
離をtとすると、以下の関係を満たすようそれぞれの素
子の仕様を決めるとレーザ光6が最も平行になるビーム
ウエスト位置にエタロンが配置されることになる。エタ
ロンは特定角度のみを選択するため、ビ−ムウエスト位
置ではエタロンの透過効率が向上する。 t=d(R1−d)/(R1+R2ー2d)
【0005】また、特開平2−303178号公報を9
図により説明する。この例では部分反射鏡1として曲率
R1のシリンドリカルミラーを用い、狭帯素子としては
グレーティング7を用いている。さらに部分反射鏡1と
グレーティング7の回転軸との間の距離をdとすると R1=2d となるようにシリンドリカルレンズの曲率を選ぶことに
より効率向上が期待できるとしている。
図により説明する。この例では部分反射鏡1として曲率
R1のシリンドリカルミラーを用い、狭帯素子としては
グレーティング7を用いている。さらに部分反射鏡1と
グレーティング7の回転軸との間の距離をdとすると R1=2d となるようにシリンドリカルレンズの曲率を選ぶことに
より効率向上が期待できるとしている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】以上のように従来の狭
帯域エキシマレーザでは、ステッパに要求される2pm
以下の波長幅を効率よく達成しようとした場合、一個の
エタロンで実現するためにはそのエタロンに高い精度と
反射率が要求される。しかし現実にはこの要求を満たす
ことは難しく、エタロン方式においては複数個のエタロ
ンを用いて機能を分担することが必然となる。また、グ
レーティング方式ではビームエキスパンダを使用するこ
とによりグレ−ティングに入射するビ−ムを拡大し分散
性能を高めることが必然となる。しかしながら従来例で
はこれらの場合については記述されてなく、また、高次
のモードで発振させる方法についても記載されていない
という問題点があった。
帯域エキシマレーザでは、ステッパに要求される2pm
以下の波長幅を効率よく達成しようとした場合、一個の
エタロンで実現するためにはそのエタロンに高い精度と
反射率が要求される。しかし現実にはこの要求を満たす
ことは難しく、エタロン方式においては複数個のエタロ
ンを用いて機能を分担することが必然となる。また、グ
レーティング方式ではビームエキスパンダを使用するこ
とによりグレ−ティングに入射するビ−ムを拡大し分散
性能を高めることが必然となる。しかしながら従来例で
はこれらの場合については記述されてなく、また、高次
のモードで発振させる方法についても記載されていない
という問題点があった。
【0007】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、ステッパの要求仕様を満たすた
めに共振器に要求される条件を明らかにするとともに、
高次横モ−ドを発生させるための条件についてあきらか
にすることを目的とする。
ためになされたもので、ステッパの要求仕様を満たすた
めに共振器に要求される条件を明らかにするとともに、
高次横モ−ドを発生させるための条件についてあきらか
にすることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明に係る狭帯域エ
キシマレーザは、球面鏡により共振器を構成し、エタロ
ンの内、エタロンを構成するミラ−の間隔が最も広いエ
タロンをおおむねビ−ムウエスト位置に配置した。ま
た、部分反射鏡の曲率半径を共振器の長さに比べて小さ
くし、概ねビ−ムウエスト位置にグレ−ティングが配置
されるようにしたものである。
キシマレーザは、球面鏡により共振器を構成し、エタロ
ンの内、エタロンを構成するミラ−の間隔が最も広いエ
タロンをおおむねビ−ムウエスト位置に配置した。ま
た、部分反射鏡の曲率半径を共振器の長さに比べて小さ
くし、概ねビ−ムウエスト位置にグレ−ティングが配置
されるようにしたものである。
【0009】
【作用】この発明における狭帯域エキシマレーザは、狭
帯域素子であるエタロンやグレ−ティングをおおむねビ
−ムウエストに配置することによりレ−ザの発振効率が
向上する。また、部分反射鏡と全反射鏡の曲率半径をそ
れぞれR1、R2とし共振器の長さをdとしたとき 0≦(1−d/R1)(1−d/R2)≦1 となるよう値を設定することにより高次横モ−ドが発生
する。
帯域素子であるエタロンやグレ−ティングをおおむねビ
−ムウエストに配置することによりレ−ザの発振効率が
向上する。また、部分反射鏡と全反射鏡の曲率半径をそ
れぞれR1、R2とし共振器の長さをdとしたとき 0≦(1−d/R1)(1−d/R2)≦1 となるよう値を設定することにより高次横モ−ドが発生
する。
【0010】また、部分反射鏡の曲率半径をR1、共振
器の長さをdとしたとき R1<2d とすることによりグレ−ティングをおおむねビ−ムウエ
ストに配置することができ効率の向上を図ることができ
る。しかもこの条件は共振器の安定条件を満たしている
ため、高次横モ−ドを発生させることができる。
器の長さをdとしたとき R1<2d とすることによりグレ−ティングをおおむねビ−ムウエ
ストに配置することができ効率の向上を図ることができ
る。しかもこの条件は共振器の安定条件を満たしている
ため、高次横モ−ドを発生させることができる。
【0011】
【実施例】実施例1.以下この発明の一実施例を図1か
ら図7をもとに説明する。図1において従来例と同じ番
号は同等の働きを持つ要素である。また、5a、5bは
それぞれ微調エタロン、粗調エタロンである。このレー
ザの動作の概要は従来例と同様であるので省略し、2枚
のエタロンに関係する部分のみを記述する。粗調エタロ
ン5bは、エキシマレ−ザの動作可能波長範囲から特定
の波長領域を選ぶために用いられている。このエタロン
は、通常2枚の高反射率のミラ−を100μm程度の間
隔を保って向かい合わせたものである。1方、微調エタ
ロン5aは粗調エタロンが選択した波長領域からさらに
狭い波長範囲を選択するものであり、2枚のミラ−を数
百μmの間隔を保って向かい合わせたものである。
ら図7をもとに説明する。図1において従来例と同じ番
号は同等の働きを持つ要素である。また、5a、5bは
それぞれ微調エタロン、粗調エタロンである。このレー
ザの動作の概要は従来例と同様であるので省略し、2枚
のエタロンに関係する部分のみを記述する。粗調エタロ
ン5bは、エキシマレ−ザの動作可能波長範囲から特定
の波長領域を選ぶために用いられている。このエタロン
は、通常2枚の高反射率のミラ−を100μm程度の間
隔を保って向かい合わせたものである。1方、微調エタ
ロン5aは粗調エタロンが選択した波長領域からさらに
狭い波長範囲を選択するものであり、2枚のミラ−を数
百μmの間隔を保って向かい合わせたものである。
【0012】エタロンの透過特性は光学関係などでよく
知られた式で与えられるが、この式により入射角度に対
する透過率の減少を調べてみると、ミラ−の間隔が広い
ものほど減少が激しいことが理解される。通常、無用の
発振をさけるためエタロンをレ−ザの光軸にたいして傾
けて使用するが、ミラ−間隔が広いとミラ−の間を往復
するごとにビ−ムの位置がずれてゆき干渉が起こりにく
くなるからである。
知られた式で与えられるが、この式により入射角度に対
する透過率の減少を調べてみると、ミラ−の間隔が広い
ものほど減少が激しいことが理解される。通常、無用の
発振をさけるためエタロンをレ−ザの光軸にたいして傾
けて使用するが、ミラ−間隔が広いとミラ−の間を往復
するごとにビ−ムの位置がずれてゆき干渉が起こりにく
くなるからである。
【0013】そこで、間隔が広いエタロンほどビ−ムウ
エストに近い位置に置くほうが透過特性が向上してレ−
ザの効率が高くなる。図1では2枚のエタロンをいずれ
も全反射鏡4側に配置しているが、間隔が広い微調エタ
ロン5aをビ−ムウエストに配置している。また、図2
では粗調エタロン5bを部分反射鏡1側に配置したもの
で、粗調エタロン5bの透過率は多少入射角が異なって
も低下しないのでこのような配置も可能になる。もちろ
ん、それぞれの反射鏡の曲率半径を調整すればビ−ムウ
エストを部分反射鏡1側にすることは可能であるが、そ
の場合はこのビ−ムウエスト位置に微調エタロンを配置
すればよい。
エストに近い位置に置くほうが透過特性が向上してレ−
ザの効率が高くなる。図1では2枚のエタロンをいずれ
も全反射鏡4側に配置しているが、間隔が広い微調エタ
ロン5aをビ−ムウエストに配置している。また、図2
では粗調エタロン5bを部分反射鏡1側に配置したもの
で、粗調エタロン5bの透過率は多少入射角が異なって
も低下しないのでこのような配置も可能になる。もちろ
ん、それぞれの反射鏡の曲率半径を調整すればビ−ムウ
エストを部分反射鏡1側にすることは可能であるが、そ
の場合はこのビ−ムウエスト位置に微調エタロンを配置
すればよい。
【0014】また、図3は全反射鏡4として平面鏡を用
いたものである。この場合、ビ−ムウエストは全反射鏡
4の位置にできるのであるが、ビ−ムの大きさの変化が
小さいためウエストから離れていても効率の低下は少な
い。図3では微調エタロンを全反射鏡4側に設置してい
るが逆でもよい。また、部分反射鏡1を平面鏡とする場
合はエタロンを部分反射鏡側に設置すればよい。
いたものである。この場合、ビ−ムウエストは全反射鏡
4の位置にできるのであるが、ビ−ムの大きさの変化が
小さいためウエストから離れていても効率の低下は少な
い。図3では微調エタロンを全反射鏡4側に設置してい
るが逆でもよい。また、部分反射鏡1を平面鏡とする場
合はエタロンを部分反射鏡側に設置すればよい。
【0015】以上の例では2個のエタロンを用いたが3
個以上ある場合でも、最も間隔が広いエタロンをおおむ
ねビ−ムウエストに配置すれば効率よくレ−ザビ−ムを
発生することができる。
個以上ある場合でも、最も間隔が広いエタロンをおおむ
ねビ−ムウエストに配置すれば効率よくレ−ザビ−ムを
発生することができる。
【0016】高次の横モ−ドを発生させるためには、曲
率半径について次のような条件が必要となる。図4は光
エレクトロニクスの基礎に示された光共振器の安定性を
示すダイアグラムである。部分反射鏡と全反射鏡の曲率
半径をそれぞれR1、R2とし共振器の長さをdとした
とき 0≦(1−d/R1)(1−d/R2)≦1 の条件を満たしたときレ−ザビ−ムは光共振器内に安定
に存在し、高次モ−ドが発生しやすくなる。従って、こ
の条件を満たすよう値を決めなければならない。
率半径について次のような条件が必要となる。図4は光
エレクトロニクスの基礎に示された光共振器の安定性を
示すダイアグラムである。部分反射鏡と全反射鏡の曲率
半径をそれぞれR1、R2とし共振器の長さをdとした
とき 0≦(1−d/R1)(1−d/R2)≦1 の条件を満たしたときレ−ザビ−ムは光共振器内に安定
に存在し、高次モ−ドが発生しやすくなる。従って、こ
の条件を満たすよう値を決めなければならない。
【0017】図5は別の発明を横から見たもので、図6
はこの発明を上から見たものである。図において8はビ
−ムエキスパンダ、7はグレ−ティングである。ビ−ム
エキスパンダ8は、レ−ザビ−ムを拡大しビ−ムの広が
り角を補正するとともにグレ−ティングを照らす面積を
広くしてグレ−ティング7の波長選択能力を高めるため
に用いられている。通常、シリンドリカルレンズかプリ
ズムを使って1方向にビ−ムを拡大している。
はこの発明を上から見たものである。図において8はビ
−ムエキスパンダ、7はグレ−ティングである。ビ−ム
エキスパンダ8は、レ−ザビ−ムを拡大しビ−ムの広が
り角を補正するとともにグレ−ティングを照らす面積を
広くしてグレ−ティング7の波長選択能力を高めるため
に用いられている。通常、シリンドリカルレンズかプリ
ズムを使って1方向にビ−ムを拡大している。
【0018】ビ−ムエキスパンダを用いた場合のビ−ム
ウエストの位置はAppl.Phys.17p.131
(1978)により計算されている。図7a、bはこの
文献より得た図である。図7bのAの位置にウエストが
くるよう部分反射鏡1の曲率半径R1を決めてやれば、
実際には図7aのグレ−ティング7の位置にウエストが
存在する。すなわちR1=2Lとなるように曲率半径を
選べばよい。また、先に示した共振器の安定条件より全
反射鏡の曲率半径をR2=∞とすればR1>Lでなくて
はならないが、上記の関係を満たしておれば安定条件を
満足している。
ウエストの位置はAppl.Phys.17p.131
(1978)により計算されている。図7a、bはこの
文献より得た図である。図7bのAの位置にウエストが
くるよう部分反射鏡1の曲率半径R1を決めてやれば、
実際には図7aのグレ−ティング7の位置にウエストが
存在する。すなわちR1=2Lとなるように曲率半径を
選べばよい。また、先に示した共振器の安定条件より全
反射鏡の曲率半径をR2=∞とすればR1>Lでなくて
はならないが、上記の関係を満たしておれば安定条件を
満足している。
【0019】文献によればエキスパンダ8の長さをLx
とし総合倍率をMとすればD0はおおむねつぎの式によ
り与えられる。 D0〜Lx/M 実際のレ−ザではLx=150mm、M=25程度なの
でD0は6mmとなる。倍率Mが大きいほどウエストの
位置は部分反射鏡1とエキスパンダの間の距離D1に近
づく。実際の値としてはD1は1000mm、dは13
00mmなので公知例のように曲率半径を設定するとグ
レ−ティングには収束ビ−ムが入射することになる。R
1=1000+6mmとすればウエスト位置にグレ−テ
ィングを配置することができる。
とし総合倍率をMとすればD0はおおむねつぎの式によ
り与えられる。 D0〜Lx/M 実際のレ−ザではLx=150mm、M=25程度なの
でD0は6mmとなる。倍率Mが大きいほどウエストの
位置は部分反射鏡1とエキスパンダの間の距離D1に近
づく。実際の値としてはD1は1000mm、dは13
00mmなので公知例のように曲率半径を設定するとグ
レ−ティングには収束ビ−ムが入射することになる。R
1=1000+6mmとすればウエスト位置にグレ−テ
ィングを配置することができる。
【0020】公知例ではシリンドリカルミラ−を用いて
いたが、特に1方向のみに曲率をつける必要はなく、通
常の球面鏡を用いてもよい。図6で示したビ−ムを拡大
しない方向では、上記のように部分反射鏡1の曲率半径
を決めるとウエストがグレ−ティングの位置にこないこ
とになるが、この方向は波長選択能力とは関係がなく共
振器の長さdと曲率半径R1が図4で示した安定条件を
満足しておればよい。球面鏡に変えることにより光共振
器の調整が容易になる。また、D0の値は拡大率やエキ
スパンダの大きさにより様々であるが、曲率半径を2d
よりやや短くしておけばほとんどの場合について効率よ
くレ−ザビ−ムを発生させることができる。
いたが、特に1方向のみに曲率をつける必要はなく、通
常の球面鏡を用いてもよい。図6で示したビ−ムを拡大
しない方向では、上記のように部分反射鏡1の曲率半径
を決めるとウエストがグレ−ティングの位置にこないこ
とになるが、この方向は波長選択能力とは関係がなく共
振器の長さdと曲率半径R1が図4で示した安定条件を
満足しておればよい。球面鏡に変えることにより光共振
器の調整が容易になる。また、D0の値は拡大率やエキ
スパンダの大きさにより様々であるが、曲率半径を2d
よりやや短くしておけばほとんどの場合について効率よ
くレ−ザビ−ムを発生させることができる。
【0021】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば複数のエ
タロンを共振器中に配置したエキシマレ−ザにおいて、
球面鏡により共振器を構成し、その曲率半径R1、R2
と共振器長dを 0≦(1−d/R1)(1−d/R2)≦1 の安定条件を満たすように配置するとともに、エタロン
の内でエタロンを構成するミラ−の間隔が最も広いエタ
ロンをおおむねビ−ムウエスト位置に配置することによ
り、高次横モ−ドのビ−ムを効率良く発生させる効果が
ある。
タロンを共振器中に配置したエキシマレ−ザにおいて、
球面鏡により共振器を構成し、その曲率半径R1、R2
と共振器長dを 0≦(1−d/R1)(1−d/R2)≦1 の安定条件を満たすように配置するとともに、エタロン
の内でエタロンを構成するミラ−の間隔が最も広いエタ
ロンをおおむねビ−ムウエスト位置に配置することによ
り、高次横モ−ドのビ−ムを効率良く発生させる効果が
ある。
【0022】また、部分反射鏡の曲率半径をR1、共振
器の長さをdとしたときR1<2dとすることによりグ
レ−ティングをおおむねビ−ムウエストに配置すること
ができ効率の向上を図る効果がある。
器の長さをdとしたときR1<2dとすることによりグ
レ−ティングをおおむねビ−ムウエストに配置すること
ができ効率の向上を図る効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の狭帯域エキシマレーザ一実施例を示
す側面図である。
す側面図である。
【図2】この発明の他の実施例を示す側面図である。
【図3】この発明の他の実施例を示す側面図である。
【図4】光共振器の安定条件を示す説明図である。
【図5】この発明の他の実施例を示す側面図である。
【図6】図5の実施例を示す平面図である。
【図7】プリズムエキスパンダとウエスト位置を示す説
明図である。
明図である。
【図8】従来の狭帯域エキシマレーザの例を示す側面図
である。
である。
【図9】従来の他の狭帯域エキシマレーザの例を示す側
面図である。
面図である。
1 部分反射鏡 2 窓 3 放電チャンバ 4 全反射鏡 5 エタロン 7 グレ−ティング 8 ビ−ムエキスパンダ
Claims (2)
- 【請求項1】 2枚の球面鏡により構成された共振器中
に複数のエタロンを配置したエキシマレ−ザにおいて、
上記球面鏡の曲率半径をR1、R2とし上記共振器の長
さをdとするとき 0≦(1−d/R1)(1−d/R2)≦1 の安定条件を満たすように曲率半径と長さを決めるとと
もに、エタロンの内でエタロンを構成するミラ−の間隔
が最も広いエタロンをおおむねビ−ムウエスト位置に配
置したことを特徴とする狭帯域エキシマレ−ザ。 - 【請求項2】グレ−ティングとビ−ムエキスパンダを備
えたエキシマレ−ザにおいて、部分反射鏡の曲率半径を
R1とし部分反射鏡とグレ−ティングにより決まる共振
器の長さをdとしたとき R1<2d の関係を満たすよう曲率半径および共振器の長さを決め
たことを特徴とする狭帯域エキシマレ−ザ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28342091A JPH05121817A (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 狭帯域エキシマレーザ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28342091A JPH05121817A (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 狭帯域エキシマレーザ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05121817A true JPH05121817A (ja) | 1993-05-18 |
Family
ID=17665305
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28342091A Pending JPH05121817A (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 狭帯域エキシマレーザ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05121817A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006339358A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Gigaphoton Inc | 狭帯域レーザ装置 |
-
1991
- 1991-10-30 JP JP28342091A patent/JPH05121817A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006339358A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Gigaphoton Inc | 狭帯域レーザ装置 |
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