JPH06268292A - 固体レーザ発振装置 - Google Patents
固体レーザ発振装置Info
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- JPH06268292A JPH06268292A JP7760593A JP7760593A JPH06268292A JP H06268292 A JPH06268292 A JP H06268292A JP 7760593 A JP7760593 A JP 7760593A JP 7760593 A JP7760593 A JP 7760593A JP H06268292 A JPH06268292 A JP H06268292A
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- laser
- laser medium
- reflecting mirror
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 熱レンズ効果等による光学的歪みを補正し、
高出力のレーザ光を得る。 【構成】 第1及び第2レーザ媒質1、2(厚みT)間
には、等距離(距離d)で且つ平行にフラッシュランプ
31,32が配置されている。端面1b及び2b間に配
置された反射鏡系10(3つの鏡11〜13より構成さ
れる)によって、レーザ光は次の光路を通る。第1レー
ザ媒質1の強励起部(距離xA )を通ったレーザ光LA
は、第2レーザ媒質2の弱励起部(距離T−xA )を通
る。逆に弱励起部(距離xB )を通ったレーザ光LB
は、強励起部(距離T−xB )を通ることとなる。これ
により、各レーザ媒質1、2内の屈折率分布は、全域に
亘り均一化され、ゲイン分布は均一なものとなる。
高出力のレーザ光を得る。 【構成】 第1及び第2レーザ媒質1、2(厚みT)間
には、等距離(距離d)で且つ平行にフラッシュランプ
31,32が配置されている。端面1b及び2b間に配
置された反射鏡系10(3つの鏡11〜13より構成さ
れる)によって、レーザ光は次の光路を通る。第1レー
ザ媒質1の強励起部(距離xA )を通ったレーザ光LA
は、第2レーザ媒質2の弱励起部(距離T−xA )を通
る。逆に弱励起部(距離xB )を通ったレーザ光LB
は、強励起部(距離T−xB )を通ることとなる。これ
により、各レーザ媒質1、2内の屈折率分布は、全域に
亘り均一化され、ゲイン分布は均一なものとなる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、YAGレーザやガラ
スレーザ等の固体レーザ発振装置に関するものである。
スレーザ等の固体レーザ発振装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図6は、特開平3−66185号公報に
開示された固体レーザ発振装置を示した構成図である。
同図中、(a)は正面図を、(b)は平面図を示してい
る。
開示された固体レーザ発振装置を示した構成図である。
同図中、(a)は正面図を、(b)は平面図を示してい
る。
【0003】本レーザ発振装置では、レーザ媒質として
スラブ型の形状を有するYAG結晶20を用いている。
YAG結晶20の断面は矩形に形成されており、その長
手方向の両端部にはそれぞれ厚さ方向に対してベベル加
工(ブリュスター角を考慮したもの)がなされている。
又、YAG結晶20の上面26及び下面27に対向する
ように、フラッシュランプ23(KrアークランプやX
eアークランプ等)が励起用光源として配置されてい
る。更にベベル加工されたYAG結晶20の両端面2
1、22に対向する様に、それぞれ出力鏡25及び反射
鏡24が配置されている。尚、反射鏡24は、図6
(b)に示す様に、W型形状に構成されている。
スラブ型の形状を有するYAG結晶20を用いている。
YAG結晶20の断面は矩形に形成されており、その長
手方向の両端部にはそれぞれ厚さ方向に対してベベル加
工(ブリュスター角を考慮したもの)がなされている。
又、YAG結晶20の上面26及び下面27に対向する
ように、フラッシュランプ23(KrアークランプやX
eアークランプ等)が励起用光源として配置されてい
る。更にベベル加工されたYAG結晶20の両端面2
1、22に対向する様に、それぞれ出力鏡25及び反射
鏡24が配置されている。尚、反射鏡24は、図6
(b)に示す様に、W型形状に構成されている。
【0004】本レーザ発振装置がこのような構成を備え
るのは、YAG結晶20の厚み方向及び巾方向に対し
て、熱レンズ効果が発生するのを防止する為である。こ
の熱レンズ効果は、周知の通り、励起光によってレーザ
媒質(YAG結晶20等)内に生じる熱の温度分布に起
因するものである。即ち、本レーザ発振装置では、YA
G結晶20の中心部が最も温度が高く、周囲に向かうに
つれて温度は低くなる。YAG結晶20の屈折率の温度
係数は正であるため、その中心部程屈折率が高くなるこ
とになる。このため、YAG結晶20内では、光の屈折
率分布が発生し、光路差が発生することとなる(熱レン
ズ効果)。
るのは、YAG結晶20の厚み方向及び巾方向に対し
て、熱レンズ効果が発生するのを防止する為である。こ
の熱レンズ効果は、周知の通り、励起光によってレーザ
媒質(YAG結晶20等)内に生じる熱の温度分布に起
因するものである。即ち、本レーザ発振装置では、YA
G結晶20の中心部が最も温度が高く、周囲に向かうに
つれて温度は低くなる。YAG結晶20の屈折率の温度
係数は正であるため、その中心部程屈折率が高くなるこ
とになる。このため、YAG結晶20内では、光の屈折
率分布が発生し、光路差が発生することとなる(熱レン
ズ効果)。
【0005】そこで本従来技術では、レーザ媒質として
スラブ型のYAG結晶20を用いると共に、その両端面
21、22を共に厚み方向に対してベベル加工を施して
いる。これにより、レーザ光は、YAG結晶20の上面
26及び下面27に於いて反射を繰り返しながらYAG
結晶20内をじぐざぐに伝播すると共に、反射鏡24と
出力鏡25との間を共振することとなる。その結果、厚
み方向に対しては屈折率分布は均一化されることとな
る。
スラブ型のYAG結晶20を用いると共に、その両端面
21、22を共に厚み方向に対してベベル加工を施して
いる。これにより、レーザ光は、YAG結晶20の上面
26及び下面27に於いて反射を繰り返しながらYAG
結晶20内をじぐざぐに伝播すると共に、反射鏡24と
出力鏡25との間を共振することとなる。その結果、厚
み方向に対しては屈折率分布は均一化されることとな
る。
【0006】一方、巾方向に対しては、熱レンズ効果等
の発生は次のように防止される。図6(b)に示すよう
に、W型形状の反射鏡24の中央の頂点28はYAG結
晶20の巾方向の中心位置に設置されているため、中心
位置付近を通ったレーザ光は当該反射鏡24によってほ
ぼ90度で反射され、再びYAG結晶20の側面部付近
を通ることとなる。しかも当該レーザ光は出力鏡25に
よって反射されて側面部付近を通過した後、再び反射鏡
24によって反射された上、中心付近を通過することと
なる。従って、巾方向に対する屈折率分布も又均一化さ
れ、熱レンズ効果等の発生が防止されることとなる。
の発生は次のように防止される。図6(b)に示すよう
に、W型形状の反射鏡24の中央の頂点28はYAG結
晶20の巾方向の中心位置に設置されているため、中心
位置付近を通ったレーザ光は当該反射鏡24によってほ
ぼ90度で反射され、再びYAG結晶20の側面部付近
を通ることとなる。しかも当該レーザ光は出力鏡25に
よって反射されて側面部付近を通過した後、再び反射鏡
24によって反射された上、中心付近を通過することと
なる。従って、巾方向に対する屈折率分布も又均一化さ
れ、熱レンズ効果等の発生が防止されることとなる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来技術は以上の様に
熱レンズ効果等を防止することが出来るが、これは理想
的な状態において成立する話であり、現実には次の様な
問題点が発生していた。
熱レンズ効果等を防止することが出来るが、これは理想
的な状態において成立する話であり、現実には次の様な
問題点が発生していた。
【0008】 先ず従来技術は、厚み方向における熱
レンズ効果等を確実に補正することが出来なかった。こ
れは、次の様な原因によるものである。
レンズ効果等を確実に補正することが出来なかった。こ
れは、次の様な原因によるものである。
【0009】その第1は、レーザ媒質の両端部を高精度
でベベル加工することが困難であることによる。このた
め、厚み方向に対して一定の傾きを持ったベベル加工面
を形成することが出来なくなり、図6(a)に示す様な
じぐざぐの光路を確保することが難しくなる。
でベベル加工することが困難であることによる。このた
め、厚み方向に対して一定の傾きを持ったベベル加工面
を形成することが出来なくなり、図6(a)に示す様な
じぐざぐの光路を確保することが難しくなる。
【0010】第2としては、常温時においてもレーザ媒
質内の屈折率分布は均一でないことに起因している。一
般に、YAG結晶等のレーザ媒質は引き上げ法によって
形成されたインゴットより研磨・切断を通じて得られ
る。しかし、製造上、インゴット内の屈折率分布を全域
に亘り均一化するのは困難であり、屈折率が一定の領域
は極めて狭いというのが実情である。この様なインゴッ
トよりレーザ媒質が切り出されるため、レーザ媒質内に
は屈折率が均一な領域と不均一な領域とが混在している
こととなる。更に加えて、実際にはレーザ媒質の両端部
(ベベル加工部)を固定することにより当該媒質を支持
しているが、この支持部より応力が加わる結果、レーザ
媒質の両端部近傍における屈折率分布の歪みは、長手方
向中心部近傍におけるそれと比較して大きなものとなっ
てしまう。この様に常温時においてさえも様々な要因に
よりレーザ媒質内に屈折率の不均一な領域が発生してい
る。更にこの様な状況に加えて、光励起による屈折率分
布の不均一が加わるため、仮に上記じぐざぐ光路をレー
ザ媒質内に確保することが出来たとしても、反射を繰り
返すことによって屈折率分布を媒質内全域に亘り均一化
することは極めて困難なものとなる。
質内の屈折率分布は均一でないことに起因している。一
般に、YAG結晶等のレーザ媒質は引き上げ法によって
形成されたインゴットより研磨・切断を通じて得られ
る。しかし、製造上、インゴット内の屈折率分布を全域
に亘り均一化するのは困難であり、屈折率が一定の領域
は極めて狭いというのが実情である。この様なインゴッ
トよりレーザ媒質が切り出されるため、レーザ媒質内に
は屈折率が均一な領域と不均一な領域とが混在している
こととなる。更に加えて、実際にはレーザ媒質の両端部
(ベベル加工部)を固定することにより当該媒質を支持
しているが、この支持部より応力が加わる結果、レーザ
媒質の両端部近傍における屈折率分布の歪みは、長手方
向中心部近傍におけるそれと比較して大きなものとなっ
てしまう。この様に常温時においてさえも様々な要因に
よりレーザ媒質内に屈折率の不均一な領域が発生してい
る。更にこの様な状況に加えて、光励起による屈折率分
布の不均一が加わるため、仮に上記じぐざぐ光路をレー
ザ媒質内に確保することが出来たとしても、反射を繰り
返すことによって屈折率分布を媒質内全域に亘り均一化
することは極めて困難なものとなる。
【0011】 又、上記ベベル加工はその精度の低さ
に加えて、加工費が高いという問題点をも内包してい
る。更に本従来技術では反射鏡としてW型構造のものを
採用しているが、その様な形状をミラー等によって形成
することは容易でなく、その光軸調整も又困難なもので
ある。この様な加工費のアップや調整時間の増大は、レ
ーザ発振装置自身のコストをも増大させる結果となる。
に加えて、加工費が高いという問題点をも内包してい
る。更に本従来技術では反射鏡としてW型構造のものを
採用しているが、その様な形状をミラー等によって形成
することは容易でなく、その光軸調整も又困難なもので
ある。この様な加工費のアップや調整時間の増大は、レ
ーザ発振装置自身のコストをも増大させる結果となる。
【0012】 又、W型構造の反射鏡調整が困難であ
ることは、本従来技術が意図していた巾方向への熱レン
ズ効果等の補正をも実現困難なものとさせてしまう。即
ち、W型反射鏡の位置がずれた場合には、レーザ光は当
該反射鏡においてほぼ90度で反射されなくなってしま
い、強励起部を通過したレーザ光は、それに対応した弱
励起部を通過し得なくなってしまう。この様に本従来技
術は、W型構造の反射鏡の微妙な光軸調整に依存してい
るものである。
ることは、本従来技術が意図していた巾方向への熱レン
ズ効果等の補正をも実現困難なものとさせてしまう。即
ち、W型反射鏡の位置がずれた場合には、レーザ光は当
該反射鏡においてほぼ90度で反射されなくなってしま
い、強励起部を通過したレーザ光は、それに対応した弱
励起部を通過し得なくなってしまう。この様に本従来技
術は、W型構造の反射鏡の微妙な光軸調整に依存してい
るものである。
【0013】 更に本従来技術は、高出力のレーザ光
を得ることが困難であるという問題点をも有している。
確かに本従来技術においても、レーザ媒質自身の寸法を
大きくすることによって高出力化を行うことは可能であ
る。しかしながら、実際上はスラブ型のレーザ媒質の寸
法にも製造上制限があり、必要な出力に見合っただけの
寸法を実現出来る保証はない。しかも前述した様に、イ
ンゴット内の屈折率分布が一定の領域は極めて狭いた
め、大きな寸法の結晶を当該インゴットより切り出すこ
とは結晶内の屈折率分布の不均一化を一層進めることと
なってしまう。この様に、従来技術では、スラブ型レー
ザ媒質の寸法を大きくすることは好ましくないものであ
ると言える。又、当該レーザ媒質の寸法を大きくする
と、それに伴ってW型形状の反射鏡自身をも大きな寸法
とする必要が生じ、更にその実現の困難性及び光軸調整
の困難性を加速することとなってしまう。
を得ることが困難であるという問題点をも有している。
確かに本従来技術においても、レーザ媒質自身の寸法を
大きくすることによって高出力化を行うことは可能であ
る。しかしながら、実際上はスラブ型のレーザ媒質の寸
法にも製造上制限があり、必要な出力に見合っただけの
寸法を実現出来る保証はない。しかも前述した様に、イ
ンゴット内の屈折率分布が一定の領域は極めて狭いた
め、大きな寸法の結晶を当該インゴットより切り出すこ
とは結晶内の屈折率分布の不均一化を一層進めることと
なってしまう。この様に、従来技術では、スラブ型レー
ザ媒質の寸法を大きくすることは好ましくないものであ
ると言える。又、当該レーザ媒質の寸法を大きくする
と、それに伴ってW型形状の反射鏡自身をも大きな寸法
とする必要が生じ、更にその実現の困難性及び光軸調整
の困難性を加速することとなってしまう。
【0014】
【発明の目的】この発明は、以上の様な問題点を全て同
時に解決すべくなされたものである。即ち、熱レンズ効
果等による光学的歪みを確実に補正し、且つ高出力のレ
ーザ光を出力することが出来ると共に、簡単な光学的構
成を有し、その組立及び光軸調整が容易な固体レーザ発
振装置を実用に供することを目的としている。
時に解決すべくなされたものである。即ち、熱レンズ効
果等による光学的歪みを確実に補正し、且つ高出力のレ
ーザ光を出力することが出来ると共に、簡単な光学的構
成を有し、その組立及び光軸調整が容易な固体レーザ発
振装置を実用に供することを目的としている。
【0015】
【課題を解決するための手段】この発明は、互いに平行
配置され同一の厚みTを有する2つのレーザ媒質(第1
及び第2レーザ媒質)を用いており、光励起手段を当該
2つのレーザ媒質間に等距離で、且つ平行となる様に挿
入している。そして出力鏡を第1レーザ媒質の一端に対
面して配置するとともに、反射鏡を第2レーザ媒質の一
端に対面して配置している。更に、光励起手段に対面し
た第1レーザ媒質の面から厚み方向に距離xだけ離れた
第1レーザ媒質内の光路を通ったレーザ光が、光励起手
段に対面した第2レーザ媒質の面から厚み方向に距離
(T−x)だけ離れた第2レーザ媒質内の光路を通るよ
うに、反射鏡系を第1レーザ媒質の他端と第2レーザ媒
質の他端間の光路上に配置している。
配置され同一の厚みTを有する2つのレーザ媒質(第1
及び第2レーザ媒質)を用いており、光励起手段を当該
2つのレーザ媒質間に等距離で、且つ平行となる様に挿
入している。そして出力鏡を第1レーザ媒質の一端に対
面して配置するとともに、反射鏡を第2レーザ媒質の一
端に対面して配置している。更に、光励起手段に対面し
た第1レーザ媒質の面から厚み方向に距離xだけ離れた
第1レーザ媒質内の光路を通ったレーザ光が、光励起手
段に対面した第2レーザ媒質の面から厚み方向に距離
(T−x)だけ離れた第2レーザ媒質内の光路を通るよ
うに、反射鏡系を第1レーザ媒質の他端と第2レーザ媒
質の他端間の光路上に配置している。
【0016】
【作用】第1及び第2レーザ媒質間に光励起手段が等距
離・平行で配置されているため、第1及び第2レーザ媒
質内では、光励起手段に対面した面側ほど強励起とな
る。そのため、各レーザ媒質内の温度分布は、光励起手
段に対面した面の温度が最も高く、当該面から中心へ向
かって遠ざかるにつれて媒質内の温度が低くなることと
なる。
離・平行で配置されているため、第1及び第2レーザ媒
質内では、光励起手段に対面した面側ほど強励起とな
る。そのため、各レーザ媒質内の温度分布は、光励起手
段に対面した面の温度が最も高く、当該面から中心へ向
かって遠ざかるにつれて媒質内の温度が低くなることと
なる。
【0017】一方、第1レーザ媒質内の強励起部を通っ
たレーザ光は、反射鏡系を通った後、第2レーザ媒質内
の弱励起部を通ることとなる。逆に、第1レーザ媒質内
の弱励起部を通ったレーザ光は、第2レーザ媒質内の強
励起部を通ることとなる。第2レーザ媒質から反射鏡系
を介して第1レーザ媒質へレーザ光が入射する場合につ
いても、同様のことが成立する。
たレーザ光は、反射鏡系を通った後、第2レーザ媒質内
の弱励起部を通ることとなる。逆に、第1レーザ媒質内
の弱励起部を通ったレーザ光は、第2レーザ媒質内の強
励起部を通ることとなる。第2レーザ媒質から反射鏡系
を介して第1レーザ媒質へレーザ光が入射する場合につ
いても、同様のことが成立する。
【0018】この様に第1及び第2レーザ媒質内の光路
が互いに断面方向に関して反転しているため、第1及び
第2レーザ媒質内では、均一な励起が行われることとな
る。
が互いに断面方向に関して反転しているため、第1及び
第2レーザ媒質内では、均一な励起が行われることとな
る。
【0019】
【実施例】A. 実施例1(スラブ型)
【0020】(1) 光学的構成
【0021】図1は、この発明の一実施例である固体レ
ーザ発振装置(以下、レーザ発振装置と略す)の正面図
を模式的に示した光学的構成図である。従って、本図1
には必要な構成部分のみが描かれており、レーザ媒質冷
却用の冷却水や励起光源の電源等の図示化は省略されて
いる。又、図1に示した断線I−Iに関する断面図を、
図2に示す。各部の構成は、次の通りである。
ーザ発振装置(以下、レーザ発振装置と略す)の正面図
を模式的に示した光学的構成図である。従って、本図1
には必要な構成部分のみが描かれており、レーザ媒質冷
却用の冷却水や励起光源の電源等の図示化は省略されて
いる。又、図1に示した断線I−Iに関する断面図を、
図2に示す。各部の構成は、次の通りである。
【0022】本レーザ発振装置では、レーザ媒質とし
て、YAG結晶やガラス等よりなる2つのスラブ型のレ
ーザ媒質が用いられる。以後、レーザ媒質1を第1レー
ザ媒質と、レーザ媒質2を第2レーザ媒質と呼ぶことと
する。第1及び第2レーザ媒質1、2は、共に巾方向及
び長手方向の断面が矩形型のスラブ形状を有している。
しかも両媒質1、2は、共に厚みTを有しており、互い
に平行配置されている。第1レーザ媒質1の一方の端面
1a側には出力鏡4が配置されており、又、第2レーザ
媒質2の一方の端面2a側には反射鏡5が配置されてい
る。これらの鏡4及び5はレーザ共振器を構成してい
る。
て、YAG結晶やガラス等よりなる2つのスラブ型のレ
ーザ媒質が用いられる。以後、レーザ媒質1を第1レー
ザ媒質と、レーザ媒質2を第2レーザ媒質と呼ぶことと
する。第1及び第2レーザ媒質1、2は、共に巾方向及
び長手方向の断面が矩形型のスラブ形状を有している。
しかも両媒質1、2は、共に厚みTを有しており、互い
に平行配置されている。第1レーザ媒質1の一方の端面
1a側には出力鏡4が配置されており、又、第2レーザ
媒質2の一方の端面2a側には反射鏡5が配置されてい
る。これらの鏡4及び5はレーザ共振器を構成してい
る。
【0023】又、第1レーザ媒質1の他方の端面1b及
び第2レーザ媒質2の他方の端面2bの間の光路上に
は、反射鏡系10が配置されている。この反射鏡系10
は、3つの鏡11、12、13より構成されており、後
述する様に、一方のレーザ媒質内の強励起部を通ったレ
ーザ光が他方のレーザ媒質内の弱励起部を通る様に、こ
れら3つの鏡11〜13の配置が決定される。
び第2レーザ媒質2の他方の端面2bの間の光路上に
は、反射鏡系10が配置されている。この反射鏡系10
は、3つの鏡11、12、13より構成されており、後
述する様に、一方のレーザ媒質内の強励起部を通ったレ
ーザ光が他方のレーザ媒質内の弱励起部を通る様に、こ
れら3つの鏡11〜13の配置が決定される。
【0024】更に本レーザ発振装置では、第1及び第2
レーザ媒質1,2の間に、光励起手段3が配置される。
本実施例では、光励起手段3として、2つのフラッシュ
ランプ31、32(KrアークランプやXeアークラン
プ等)が用いられており、両媒質1、2間に対称的に配
置されている。しかも図2に示す様に、光励起手段3の
中心軸33が両媒質1、2間の中央に位置する様に、光
励起手段3が配置されている(距離d)。即ち、図2よ
り明らかな様に、本レーザ発振装置の厚み方向の断面に
関しては、中心軸33を含む平面に対して面対象な光学
的配置となっている。
レーザ媒質1,2の間に、光励起手段3が配置される。
本実施例では、光励起手段3として、2つのフラッシュ
ランプ31、32(KrアークランプやXeアークラン
プ等)が用いられており、両媒質1、2間に対称的に配
置されている。しかも図2に示す様に、光励起手段3の
中心軸33が両媒質1、2間の中央に位置する様に、光
励起手段3が配置されている(距離d)。即ち、図2よ
り明らかな様に、本レーザ発振装置の厚み方向の断面に
関しては、中心軸33を含む平面に対して面対象な光学
的配置となっている。
【0025】(2) 動作原理
【0026】次に本レーザ発振装置における動作原理
を、図1及び図3に基づいて説明する。ここで図3は、
第1及び第2レーザ媒質1、2内の屈折率分布を示した
説明図である。
を、図1及び図3に基づいて説明する。ここで図3は、
第1及び第2レーザ媒質1、2内の屈折率分布を示した
説明図である。
【0027】本レーザ発振装置ではフラッシュランプ3
1、32の両側に第1及び第2レーザ媒質1、2を配置
しているため、各レーザ媒質1、2内に光励起によって
生じる熱温度分布は、次の通りとなる。即ち、レーザ媒
質の内、フラッシュランプ31、32に対面した面側部
分の温度が最も高く、そこから中心に向かって遠ざかる
につれて温度は低下することとなる。このため屈折率分
布は、第1レーザ媒質1においては図3のn1に、第2
レーザ媒質2においてはn2の様になる。
1、32の両側に第1及び第2レーザ媒質1、2を配置
しているため、各レーザ媒質1、2内に光励起によって
生じる熱温度分布は、次の通りとなる。即ち、レーザ媒
質の内、フラッシュランプ31、32に対面した面側部
分の温度が最も高く、そこから中心に向かって遠ざかる
につれて温度は低下することとなる。このため屈折率分
布は、第1レーザ媒質1においては図3のn1に、第2
レーザ媒質2においてはn2の様になる。
【0028】しかし、反射鏡系10を前述した様な配置
としているため、第1レーザ媒質1内の強励起部(図1
の距離xA の位置)を通ったレーザ光LAは、反射鏡系
10の各鏡11〜13によって順次反射され、第2レー
ザ媒質2においては逆に外側の弱励起部(距離T−xA
の位置に該当)を通ることとなる。同様に、第1レーザ
媒質1の外側の弱励起部(距離xB の位置に該当)を通
ったレーザ光LBは、各鏡11〜13によって同じく順
次反射された後、第2レーザ媒質2内の強励起部(距離
T−xB の位置に該当)を通ることとなる。レーザ光L
A、LBは、反射鏡5及び出力鏡4の間で往復を繰り返
すこととなるので、第2レーザ媒質2から第1レーザ媒
質1へと進む場合にも同様に、上記原理が成り立つこと
となる。この様に本レーザ発振装置では、反射鏡系10
によって各レーザ媒質内のレーザ光の光路を断面方向に
関して反転させた状態となっている。
としているため、第1レーザ媒質1内の強励起部(図1
の距離xA の位置)を通ったレーザ光LAは、反射鏡系
10の各鏡11〜13によって順次反射され、第2レー
ザ媒質2においては逆に外側の弱励起部(距離T−xA
の位置に該当)を通ることとなる。同様に、第1レーザ
媒質1の外側の弱励起部(距離xB の位置に該当)を通
ったレーザ光LBは、各鏡11〜13によって同じく順
次反射された後、第2レーザ媒質2内の強励起部(距離
T−xB の位置に該当)を通ることとなる。レーザ光L
A、LBは、反射鏡5及び出力鏡4の間で往復を繰り返
すこととなるので、第2レーザ媒質2から第1レーザ媒
質1へと進む場合にも同様に、上記原理が成り立つこと
となる。この様に本レーザ発振装置では、反射鏡系10
によって各レーザ媒質内のレーザ光の光路を断面方向に
関して反転させた状態となっている。
【0029】従って屈折率分布n1を有する第1レーザ
媒質1を通過したレーザ光は、屈折率分布n1′(屈折
率分布nlに相当)で示される光学的歪みを受けた状態
で、第2レーザ媒質2内へ入射することとなり、屈折率
分布n2はキャンセルされ、第2レーザ媒質2における
屈折率分布は均一な屈折率分布n20となる。同様に、
第2レーザ媒質2から第1レーザ媒質1へと入射するレ
ーザ光は、屈折率分布n2′で示される様な光学的歪み
を受けた状態であるため、第1レーザ媒質1の屈折率分
布n1も又キャンセルされることとなり、均一な屈折率
分布n10となる。この様にして、第1及び第2レーザ
媒質1、2内のゲイン分布はレーザ媒質全域に亘って均
一化されることとなる。
媒質1を通過したレーザ光は、屈折率分布n1′(屈折
率分布nlに相当)で示される光学的歪みを受けた状態
で、第2レーザ媒質2内へ入射することとなり、屈折率
分布n2はキャンセルされ、第2レーザ媒質2における
屈折率分布は均一な屈折率分布n20となる。同様に、
第2レーザ媒質2から第1レーザ媒質1へと入射するレ
ーザ光は、屈折率分布n2′で示される様な光学的歪み
を受けた状態であるため、第1レーザ媒質1の屈折率分
布n1も又キャンセルされることとなり、均一な屈折率
分布n10となる。この様にして、第1及び第2レーザ
媒質1、2内のゲイン分布はレーザ媒質全域に亘って均
一化されることとなる。
【0030】本実施例では、フラッシュランプ31、3
2を両レーザ媒質1、2に対し対称に配置しているた
め、励起光は両レーザ媒質1、2へ均等に入射すること
となる。従って、フラッシュランプ31、32の励起光
を効率良く使用することが可能となる。しかも本実施例
では、2つのフラッシュランプ31、32を使用してい
るため、光励起手段3の励起パワーを高めることが可能
である。又、レーザ媒質として2つの媒質を利用してい
るため、吸収領域が増す結果、容易に高出力のレーザ光
を発振させることが可能である。
2を両レーザ媒質1、2に対し対称に配置しているた
め、励起光は両レーザ媒質1、2へ均等に入射すること
となる。従って、フラッシュランプ31、32の励起光
を効率良く使用することが可能となる。しかも本実施例
では、2つのフラッシュランプ31、32を使用してい
るため、光励起手段3の励起パワーを高めることが可能
である。又、レーザ媒質として2つの媒質を利用してい
るため、吸収領域が増す結果、容易に高出力のレーザ光
を発振させることが可能である。
【0031】尚、本実施例では、厚み方向の熱レンズ効
果等を補正することが可能であるが、一方、巾方向に関
しては、厚み方向に対して行った様な温度勾配のキャン
セルはなされていない。しかし、巾方向への励起光の光
量分布の不均一は僅かであり、実際上は厚み方向におけ
る熱レンズ効果等の影響よりも無視できる程度である。
そのため、本実施例では、従来技術で行われていた様な
巾方向への補正を行っておらず、厚み方向への確実な補
正の実現に着眼点を置いている。又、本実施例では2つ
のフラッシュランプ31、32を用いて両レーザ媒質
1、2を均等に照明しているため、巾方向への熱レンズ
効果等は殆ど生じていないものと考えられる。
果等を補正することが可能であるが、一方、巾方向に関
しては、厚み方向に対して行った様な温度勾配のキャン
セルはなされていない。しかし、巾方向への励起光の光
量分布の不均一は僅かであり、実際上は厚み方向におけ
る熱レンズ効果等の影響よりも無視できる程度である。
そのため、本実施例では、従来技術で行われていた様な
巾方向への補正を行っておらず、厚み方向への確実な補
正の実現に着眼点を置いている。又、本実施例では2つ
のフラッシュランプ31、32を用いて両レーザ媒質
1、2を均等に照明しているため、巾方向への熱レンズ
効果等は殆ど生じていないものと考えられる。
【0032】以上の様に、本実施例では厚み方向の屈折
率勾配を容易にキャンセルすることが出来るため、ビー
ム性能の良好なレーザ光(光学的歪みの無い、高出力レ
ーザ光)を得ることが出来る。しかも、高出力化に際し
レーザ媒質の寸法を特別に大きくする必要がなく、又、
ベベル加工の様な特別な加工をも必要としないため、レ
ーザ媒質の加工費用等の部材費を大幅に低減することが
出来る。しかも、図1の構成から明らかな通り、簡単な
光学的組み合わせを用いているのみであり、本レーザ発
振装置の組立及びその光軸調整は、極めて容易であるこ
とが理解される。
率勾配を容易にキャンセルすることが出来るため、ビー
ム性能の良好なレーザ光(光学的歪みの無い、高出力レ
ーザ光)を得ることが出来る。しかも、高出力化に際し
レーザ媒質の寸法を特別に大きくする必要がなく、又、
ベベル加工の様な特別な加工をも必要としないため、レ
ーザ媒質の加工費用等の部材費を大幅に低減することが
出来る。しかも、図1の構成から明らかな通り、簡単な
光学的組み合わせを用いているのみであり、本レーザ発
振装置の組立及びその光軸調整は、極めて容易であるこ
とが理解される。
【0033】B. 実施例2(ロッド型)
【0034】図4は、この発明の第2の実施例であるレ
ーザ発振装置の断面図を模式的に示した構成図である。
本実施例2においても、2つのレーザ媒質(第1レーザ
媒質1A、第2レーザ媒質2A)が用いられており、両
レーザ媒質1A、2A間に等距離・平行で光励起手段3
A(本実施例2ではフラッシュランプ1台)が配置され
ている。これらの点に関しては、前述の実施例1と同一
である。しかし、本実施例2では、第1及び第2レーザ
媒質1A、2Aとして、ロッド型のレーザ媒質が利用さ
れており、しかも両レーザ媒質1A、2A及び光励起手
段3Aが楕円型の容器6の焦点位置にそれぞれ配置され
ている。
ーザ発振装置の断面図を模式的に示した構成図である。
本実施例2においても、2つのレーザ媒質(第1レーザ
媒質1A、第2レーザ媒質2A)が用いられており、両
レーザ媒質1A、2A間に等距離・平行で光励起手段3
A(本実施例2ではフラッシュランプ1台)が配置され
ている。これらの点に関しては、前述の実施例1と同一
である。しかし、本実施例2では、第1及び第2レーザ
媒質1A、2Aとして、ロッド型のレーザ媒質が利用さ
れており、しかも両レーザ媒質1A、2A及び光励起手
段3Aが楕円型の容器6の焦点位置にそれぞれ配置され
ている。
【0035】この様な配置のため、光励起手段3Aより
放出された励起光は、楕円型容器6の壁面で反射された
後、焦点位置に配置された各レーザ媒質1A、2Aに入
射することとなる。そのため、この限りにおいては、各
レーザ媒質1A、2A内には、光励起による温度分布の
勾配は生じないこととなる。しかし、光励起手段3Aか
ら直接に各レーザ媒質1A、2Aへ入射する励起光が存
在するため、本実施例2においても同様に第1及び第2
レーザ媒質1A、2A内には温度勾配が発生することと
なる。
放出された励起光は、楕円型容器6の壁面で反射された
後、焦点位置に配置された各レーザ媒質1A、2Aに入
射することとなる。そのため、この限りにおいては、各
レーザ媒質1A、2A内には、光励起による温度分布の
勾配は生じないこととなる。しかし、光励起手段3Aか
ら直接に各レーザ媒質1A、2Aへ入射する励起光が存
在するため、本実施例2においても同様に第1及び第2
レーザ媒質1A、2A内には温度勾配が発生することと
なる。
【0036】しかし、実施例2においても実施例1にお
ける反射鏡系10が適用されているため(図示せず)、
同じく各レーザ媒質1A、2A内で発生する温度勾配
を、確実にキャンセルすることが可能となる。この点
は、上述説明より明白なところである。
ける反射鏡系10が適用されているため(図示せず)、
同じく各レーザ媒質1A、2A内で発生する温度勾配
を、確実にキャンセルすることが可能となる。この点
は、上述説明より明白なところである。
【0037】C. その他(励起光源について)
【0038】 実施例1においては、光励起手段3と
して2つのフラッシュランプ31、32を用いていた
が、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、
図5(a)に示す様に、1個のフラッシュランプ3Bを
用いることも可能である。但しこの場合には、吸収効率
を高めるため、高出力のフラッシュランプを用意する必
要がある。
して2つのフラッシュランプ31、32を用いていた
が、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、
図5(a)に示す様に、1個のフラッシュランプ3Bを
用いることも可能である。但しこの場合には、吸収効率
を高めるため、高出力のフラッシュランプを用意する必
要がある。
【0039】又、光励起手段としては、図5(b)に示
す様に、断面が半球型のフラッシュランプ3C1,3C
2よりなる光励起手段3Cを用いることも可能である。
この場合においても、光励起手段3Cは、第1及び第2
レーザ媒質1、2よりそれぞれ等距離d′の位置に平行
的に配置される。
す様に、断面が半球型のフラッシュランプ3C1,3C
2よりなる光励起手段3Cを用いることも可能である。
この場合においても、光励起手段3Cは、第1及び第2
レーザ媒質1、2よりそれぞれ等距離d′の位置に平行
的に配置される。
【0040】 又、上記実施例1、2においては同一
材料からなる第1及び第2レーザ媒質を用いてきたが、
必ずしも本発明はこの点に限定されるものではない。第
1及び第2レーザ媒質として、共に厚みTを有し且つそ
の光学的性質が類似するもの同士であれば、使用可能で
ある。
材料からなる第1及び第2レーザ媒質を用いてきたが、
必ずしも本発明はこの点に限定されるものではない。第
1及び第2レーザ媒質として、共に厚みTを有し且つそ
の光学的性質が類似するもの同士であれば、使用可能で
ある。
【0041】
【発明の効果】 この発明は、反射鏡系によって、第
1及び第2レーザ媒質内のレーザ光の光路を、互いに断
面方向に関して反転させているため、各レーザ媒質に生
じる温度勾配をキャンセルすることができ、その結果、
熱レンズ効果等の光学的歪を確実に補正することができ
る。これにより、レーザ光のゲイン分布をレーザ媒質内
全体に対し一様にすることが可能となる。
1及び第2レーザ媒質内のレーザ光の光路を、互いに断
面方向に関して反転させているため、各レーザ媒質に生
じる温度勾配をキャンセルすることができ、その結果、
熱レンズ効果等の光学的歪を確実に補正することができ
る。これにより、レーザ光のゲイン分布をレーザ媒質内
全体に対し一様にすることが可能となる。
【0042】 この発明では、レーザ媒質として第1
及び第2のレーザ媒質を用いており、しかも上述した様
に各レーザ媒質を均一に光励起しているので、レーザ光
の高出力化を容易に達成することができる。
及び第2のレーザ媒質を用いており、しかも上述した様
に各レーザ媒質を均一に光励起しているので、レーザ光
の高出力化を容易に達成することができる。
【0043】、より本発明は、ビーム性能の良好な
レーザ光を出力することができる。
レーザ光を出力することができる。
【0044】 又、この発明では、光学系(第1及び
第2レーザ媒質、光励起手段、反射鏡系等)の簡単な構
成ないしは組合せによって上記効果、を達成してい
るため、その光軸調整を従来技術と比較して格段に容易
なものとすることが可能である。更にこの発明では、従
来技術の様にレーザ媒質を特別な形状に加工する必要が
ないため、レーザ媒質の加工費用を格段に低減せしめる
ことが可能となる。従って、本発明は、低コストで実用
的な固体レーザ発振装置を提供することができる。
第2レーザ媒質、光励起手段、反射鏡系等)の簡単な構
成ないしは組合せによって上記効果、を達成してい
るため、その光軸調整を従来技術と比較して格段に容易
なものとすることが可能である。更にこの発明では、従
来技術の様にレーザ媒質を特別な形状に加工する必要が
ないため、レーザ媒質の加工費用を格段に低減せしめる
ことが可能となる。従って、本発明は、低コストで実用
的な固体レーザ発振装置を提供することができる。
【0045】 更にこの発明では、光励起手段の両側
に第1及び第2レーザ媒質を配置しているため、励起光
を有効に用いることができる。
に第1及び第2レーザ媒質を配置しているため、励起光
を有効に用いることができる。
【図1】この発明の一実施例である固体レーザ発振装置
の構成を模式的に示した正面図である。
の構成を模式的に示した正面図である。
【図2】この発明の一実施例である固体レーザ発振装置
の断面図である。
の断面図である。
【図3】第1及び第2レーザ媒質内における屈折率分布
を示した説明図である。
を示した説明図である。
【図4】この発明の他の実施例である固体レーザ発振装
置の構成を模式的に示した断面図である。
置の構成を模式的に示した断面図である。
【図5】光励起手段としての変形例を示した断面図であ
る。
る。
【図6】従来の固体レーザ発振装置の構成を示す説明図
である。
である。
1 第1レーザ媒質 2 第2レーザ媒質 3 光励起手段 31、32 フラッシュランプ 4 出力鏡 5 反射鏡 10 反射鏡系 11、12、13 鏡 LA、LB レーザ光
フロントページの続き (72)発明者 武内 清 兵庫県西宮市田近野町6番107号 新明和 工業株式会社開発技術本部内 (72)発明者 野田 智靖 兵庫県西宮市田近野町6番107号 新明和 工業株式会社開発技術本部内 (72)発明者 奥田 宏史 兵庫県西宮市田近野町6番107号 新明和 工業株式会社開発技術本部内
Claims (1)
- 【請求項1】 互いに平行配置され、且つ同一の厚みT
を有する第1及び第2レーザ媒質と、 前記両レーザ媒質に対し等距離でしかも平行となるよう
に当該両レーザ媒質間に配置された光励起手段と、 前記第1レーザ媒質の一端に対面して配置された出力鏡
と、 前記第2レーザ媒質の一端に対面して配置された反射鏡
と、 前記第1レーザ媒質の他端と第2レーザ媒質の他端間の
光路上に配置された反射鏡系とを備えており、 前記光励起手段に対面した前記第1レーザ媒質の面から
厚み方向に距離x(x≦T)だけ離れた前記第1レーザ
媒質内の光路を通ったレーザ光が、前記反射鏡系を通っ
て前記第2レーザ媒質内に入射した後は、前記光励起手
段に対面した前記第2レーザ媒質の面から厚み方向に距
離(T−x)だけ離れた光路を通るように、前記反射鏡
系が構成されていることを、 特徴とする固体レーザ発振装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7760593A JPH06268292A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | 固体レーザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7760593A JPH06268292A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | 固体レーザ発振装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06268292A true JPH06268292A (ja) | 1994-09-22 |
Family
ID=13638567
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7760593A Pending JPH06268292A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | 固体レーザ発振装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06268292A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2866161A1 (fr) * | 2004-02-10 | 2005-08-12 | Thales Sa | Tete de pompage pour amplificateur optique a effet laser |
-
1993
- 1993-03-10 JP JP7760593A patent/JPH06268292A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2866161A1 (fr) * | 2004-02-10 | 2005-08-12 | Thales Sa | Tete de pompage pour amplificateur optique a effet laser |
EP1564852A1 (fr) * | 2004-02-10 | 2005-08-17 | Thales | Tête de pompage pour amplificateur optique à effet laser |
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