JPH05105459A - 平らなガラスセラミツク製品の成形方法 - Google Patents
平らなガラスセラミツク製品の成形方法Info
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- JPH05105459A JPH05105459A JP4088458A JP8845892A JPH05105459A JP H05105459 A JPH05105459 A JP H05105459A JP 4088458 A JP4088458 A JP 4088458A JP 8845892 A JP8845892 A JP 8845892A JP H05105459 A JPH05105459 A JP H05105459A
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- molding
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03B11/088—Flat discs
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/40—Product characteristics
- C03B2215/44—Flat, parallel-faced disc or plate products
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/86—Linear series of multiple press moulds
- C03B2215/87—Linear series of multiple press moulds with change of transportation direction in the horizontal plane, e.g. rectangular or "U" shape serial transport
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 平らなガラスセラミック製品の成形方法にお
いて、原材料利用効率を向上させ、二次加工を減少させ
る。 【構成】 （ａ）鋳型の各表面を所定の異なった温度に
加熱し、（ｂ）この鋳型の各表面を互いに接触させ、溶
融ガラス充填物をプレスして該鋳型を満たし、該鋳型の
各表面を熱的に平行に適合させて保持し、プレスされた
充填物を一様な厚さにし、（ｃ）前記表面とガラス製品
表面の温度がほぼ同時に平衡となるようにガラス充填物
をプレスし、（ｄ）前記鋳型から前記ガラス製品を取り
出す。
いて、原材料利用効率を向上させ、二次加工を減少させ
る。 【構成】 （ａ）鋳型の各表面を所定の異なった温度に
加熱し、（ｂ）この鋳型の各表面を互いに接触させ、溶
融ガラス充填物をプレスして該鋳型を満たし、該鋳型の
各表面を熱的に平行に適合させて保持し、プレスされた
充填物を一様な厚さにし、（ｃ）前記表面とガラス製品
表面の温度がほぼ同時に平衡となるようにガラス充填物
をプレスし、（ｄ）前記鋳型から前記ガラス製品を取り
出す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄く、平らなガラスセ
ラミック製品の製造方法に関する。より詳しくは、本発
明は、近最終形状プレス加工およびそれに続く平面セラ
ミング加工を使用する、実質的に平らで、薄い、実質的
に一様な厚さを有するディスク形状のガラスセラミック
製品の成形方法に関する。最小限の仕上げ加工を行った
後に得られるディスクは磁気記憶ディスク用の基材とし
て使用するのに適している。
ラミック製品の製造方法に関する。より詳しくは、本発
明は、近最終形状プレス加工およびそれに続く平面セラ
ミング加工を使用する、実質的に平らで、薄い、実質的
に一様な厚さを有するディスク形状のガラスセラミック
製品の成形方法に関する。最小限の仕上げ加工を行った
後に得られるディスクは磁気記憶ディスク用の基材とし
て使用するのに適している。
【０００２】
【従来の技術】剛性磁気記憶装置の市場は十分に確立さ
れ、薄膜媒体技術の使用によりさらに成長を続けてい
る。これらの磁気記憶装置に使用する剛性ディスク基材
は高性能用途向けに設計されており、したがって広範囲
な基準に合致しなければならない。米国特許第４，９７
１，９３２号（アルファら）は、これらの多様な基準を
満たす、剛性情報ディスク用のガラスセラミック基材を
開示している。主結晶相としてシート状ケイ酸塩または
鎖状ケイ酸塩のどちらかを含むこれらのガラスセラミッ
クは、従来の成形方法を使用して製造された場合、二次
的な処理を行わないとこれらの基準の幾つかを満たすこ
とができない。これらの欠点の主なものは、基材が満た
さなければならない厳密な平面性である。例えば、外径
が９５mmのディスクはその直径を横切る平面から１０μ
m しか外に出ることができない。一般的に板ガラスまた
は大型半製品から製造する、これらのガラスセラミック
を製造するための従来の方法は、平面性の必要条件を大
きく外れる（１０μm の要求に対して５０〜１００μm
）のみならず、原材料利用効率が低い。最初の成形の
後のこの平面性の欠点のために、基材用として好適な製
品を製造するには、経費のかかる機械的な仕上げ加工、
すなわち研削および研磨を広範囲に行わなければならな
い。これらの２つのファクター、低材料利用効率および
広範囲な二次仕上げ加工のために、これらの従来の製造
方法の製造原価が高くなる。したがって、近最終形状製
造方法により、プレス加工した製品の平面性を高め、原
材料利用効率を向上させ、二次的な作業を減少させるこ
とにより、製造原価を低減できることは明らかである。
れ、薄膜媒体技術の使用によりさらに成長を続けてい
る。これらの磁気記憶装置に使用する剛性ディスク基材
は高性能用途向けに設計されており、したがって広範囲
な基準に合致しなければならない。米国特許第４，９７
１，９３２号（アルファら）は、これらの多様な基準を
満たす、剛性情報ディスク用のガラスセラミック基材を
開示している。主結晶相としてシート状ケイ酸塩または
鎖状ケイ酸塩のどちらかを含むこれらのガラスセラミッ
クは、従来の成形方法を使用して製造された場合、二次
的な処理を行わないとこれらの基準の幾つかを満たすこ
とができない。これらの欠点の主なものは、基材が満た
さなければならない厳密な平面性である。例えば、外径
が９５mmのディスクはその直径を横切る平面から１０μ
m しか外に出ることができない。一般的に板ガラスまた
は大型半製品から製造する、これらのガラスセラミック
を製造するための従来の方法は、平面性の必要条件を大
きく外れる（１０μm の要求に対して５０〜１００μm
）のみならず、原材料利用効率が低い。最初の成形の
後のこの平面性の欠点のために、基材用として好適な製
品を製造するには、経費のかかる機械的な仕上げ加工、
すなわち研削および研磨を広範囲に行わなければならな
い。これらの２つのファクター、低材料利用効率および
広範囲な二次仕上げ加工のために、これらの従来の製造
方法の製造原価が高くなる。したがって、近最終形状製
造方法により、プレス加工した製品の平面性を高め、原
材料利用効率を向上させ、二次的な作業を減少させるこ
とにより、製造原価を低減できることは明らかである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の目的
は、先行技術の欠点を克服し、原材料利用効率を向上さ
せ、広範囲な仕上をせずに必要な平面性を有するガラス
セラミック製の磁気記憶ディスク基材を製造するため
の、近最終形状製造、プレスおよびセラミングからなる
方法を提供することにある。
は、先行技術の欠点を克服し、原材料利用効率を向上さ
せ、広範囲な仕上をせずに必要な平面性を有するガラス
セラミック製の磁気記憶ディスク基材を製造するため
の、近最終形状製造、プレスおよびセラミングからなる
方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】一般的に、本発明は、実
質的に一様な厚さおよび平行な対向表面を有するガラス
セラミック製品の製造方法であって、（ａ）鋳型の受け
成形表面および対向成形表面を所定の、異なった温度に
加熱すること、（ｂ）前記鋳型の受け成形表面および対
向成形表面を互いに実質的に接触させ、配送された溶融
ガラス充填物をプレスして該鋳型を満たし、該鋳型の受
け表面および対向表面間を熱的に、実質的に平行に適合
させ、保持し、プレスされた充填物を実質的に一様な厚
さにすること、（ｃ）前記成形表面および前記ガラス製
品表面の温度がすべてほとんど平衡になり、その際、プ
レス時間および鋳型温度差が組み合わされて熱が対称的
に除去され、それによって、上記の温度がすべてほとん
ど同時に平衡に到達するように、ガラス充填物から十分
な熱が除去されるのに十分な時間ガラス充填物をプレス
すること、（ｄ）前記鋳型から前記ガラス製品を取り出
すこと、および必要に応じてさらに（ｅ）前記ガラス製
品の対向する表面を耐火性絶縁材料で被覆すること、
（ｆ）前記被覆したガラス製品を、そのガラス製品がそ
の場で結晶化してガラスセラミック製品になるのに十分
な温度および時間で熱処理すること、および（ｇ）前記
被覆したガラスセラミック製品を室温に冷却し、その被
覆をそこから除去すること、からなる方法を提供する。
質的に一様な厚さおよび平行な対向表面を有するガラス
セラミック製品の製造方法であって、（ａ）鋳型の受け
成形表面および対向成形表面を所定の、異なった温度に
加熱すること、（ｂ）前記鋳型の受け成形表面および対
向成形表面を互いに実質的に接触させ、配送された溶融
ガラス充填物をプレスして該鋳型を満たし、該鋳型の受
け表面および対向表面間を熱的に、実質的に平行に適合
させ、保持し、プレスされた充填物を実質的に一様な厚
さにすること、（ｃ）前記成形表面および前記ガラス製
品表面の温度がすべてほとんど平衡になり、その際、プ
レス時間および鋳型温度差が組み合わされて熱が対称的
に除去され、それによって、上記の温度がすべてほとん
ど同時に平衡に到達するように、ガラス充填物から十分
な熱が除去されるのに十分な時間ガラス充填物をプレス
すること、（ｄ）前記鋳型から前記ガラス製品を取り出
すこと、および必要に応じてさらに（ｅ）前記ガラス製
品の対向する表面を耐火性絶縁材料で被覆すること、
（ｆ）前記被覆したガラス製品を、そのガラス製品がそ
の場で結晶化してガラスセラミック製品になるのに十分
な温度および時間で熱処理すること、および（ｇ）前記
被覆したガラスセラミック製品を室温に冷却し、その被
覆をそこから除去すること、からなる方法を提供する。
【０００５】本方法をガラスセラミック過剰製品の製造
に使用することにより、（１）成形表面から取り外す時
に、ガラス充填物からほとんど完全にガラス製品が形成
され、（２）鋳型表面が実質的に平らで平行であり、曲
がりを防ぐために鋳型を温度差をつけて加熱する場合、
ガラス充填物は、プレスにより与えられる形状の、すな
わち薄い、実質的に平らなディスク形状のガラス製品に
なり、（３）そのガラス製品は、そのプレスされた形
状、特に平面性を、熱処理工程の結果ガラスセラミック
の形で保持することになる。簡単にいえば、上記の工程
は、近最終形状の、プレスおよび熱処理の両方の、成形
方法を説明している。
に使用することにより、（１）成形表面から取り外す時
に、ガラス充填物からほとんど完全にガラス製品が形成
され、（２）鋳型表面が実質的に平らで平行であり、曲
がりを防ぐために鋳型を温度差をつけて加熱する場合、
ガラス充填物は、プレスにより与えられる形状の、すな
わち薄い、実質的に平らなディスク形状のガラス製品に
なり、（３）そのガラス製品は、そのプレスされた形
状、特に平面性を、熱処理工程の結果ガラスセラミック
の形で保持することになる。簡単にいえば、上記の工程
は、近最終形状の、プレスおよび熱処理の両方の、成形
方法を説明している。
【０００６】
【実施例】磁気記憶ディスク（以下ＭＭＤと呼ぶ）用途
に好適な、代表的なガラスセラミックの製造における第
一工程は、鋳型装置の受け成形表面および対向成形表面
を異なった温度に加熱し、その後に配送される溶融ガラ
ス充填物の表面から対称的な量の熱が移動するようにす
ることである。実質的に平らなガラス製品を製造するた
めのこの工程は、トレンテルマンの名前で本出願と同時
に提出された米国特許出願第 号に、より詳細に記載
されている。その出願の、対向する鋳型表面を異なった
温度に加熱するこの方法を開示している部分をここに参
考文献として引用する。
に好適な、代表的なガラスセラミックの製造における第
一工程は、鋳型装置の受け成形表面および対向成形表面
を異なった温度に加熱し、その後に配送される溶融ガラ
ス充填物の表面から対称的な量の熱が移動するようにす
ることである。実質的に平らなガラス製品を製造するた
めのこの工程は、トレンテルマンの名前で本出願と同時
に提出された米国特許出願第 号に、より詳細に記載
されている。その出願の、対向する鋳型表面を異なった
温度に加熱するこの方法を開示している部分をここに参
考文献として引用する。
【０００７】次に、受け成形表面および対向成形表面間
を平行に適合させ、保持し、それによって、続いてプレ
スされるガラス製品の実質的に平行な対向表面、すなわ
ちそのガラス製品の実質的に一様な厚さを確保する。対
向する鋳型表面が平行になるように熱的に整列させるこ
の方法は、マニハンらの名前で本出願と同時に提出され
た米国特許出願第 号に、より詳細に記載されてい
る。その出願の、熱的な平行整列方法を開示している部
分をここに参考文献として引用する。
を平行に適合させ、保持し、それによって、続いてプレ
スされるガラス製品の実質的に平行な対向表面、すなわ
ちそのガラス製品の実質的に一様な厚さを確保する。対
向する鋳型表面が平行になるように熱的に整列させるこ
の方法は、マニハンらの名前で本出願と同時に提出され
た米国特許出願第 号に、より詳細に記載されてい
る。その出願の、熱的な平行整列方法を開示している部
分をここに参考文献として引用する。
【０００８】適切な鋳型表面温度および平行な対向鋳型
表面が達成された後、溶融ガラスを配送し、適切な形状
にプレスし、ガラス製品を形成する。ディスク形状製品
を形成するための精確な重量および１０2 〜１０3 の範
囲の粘度を有する溶融ガラス充填物を切断し、成形装置
の受け成形表面上に落とす。次いで、対向鋳型表面がこ
の受け成形表面と実質的に接触し、その間でガラス充填
物がプレスされて所望のディスク形状製品を形成する位
置に合わせる。次いで、ガラス製品をプレスから取り出
す。
表面が達成された後、溶融ガラスを配送し、適切な形状
にプレスし、ガラス製品を形成する。ディスク形状製品
を形成するための精確な重量および１０2 〜１０3 の範
囲の粘度を有する溶融ガラス充填物を切断し、成形装置
の受け成形表面上に落とす。次いで、対向鋳型表面がこ
の受け成形表面と実質的に接触し、その間でガラス充填
物がプレスされて所望のディスク形状製品を形成する位
置に合わせる。次いで、ガラス製品をプレスから取り出
す。
【０００９】しかし、ガラス充填物の温度が対向する鋳
型の温度と共にすべて、充填物の軟化点未満でほとんど
平衡になるように、充填物から十分な熱が除去されるま
でガラス充填物のプレスを続行する。
型の温度と共にすべて、充填物の軟化点未満でほとんど
平衡になるように、充填物から十分な熱が除去されるま
でガラス充填物のプレスを続行する。
【００１０】ＭＭＤとして好適な、一様な厚さを有し、
実質的に平らで、薄いディスク形状製品に好ましい組成
を有するガラス組成物は、カナサイト(canasite)ガラス
セラミック製造用のガラス前駆物質として使用される組
成物である。米国特許第４，３８６，１６２号（ビー
ル）に開示されているこのガラス前駆物質の組成は実質
的に、酸化物基準の重量％で、約４５〜７５％のＳｉＯ
2 、約８〜３０％のＣａＯ、約２．５〜１２％のＦ、約
３〜１５％のＮａ2 Ｏ、約０〜２０％のＫ2 Ｏ、約５〜
２５％のＮａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ、約０〜６％のＢ2 Ｏ3 、約
０〜７％のＡＬ2 Ｏ3 、および約０〜８％のＺｒＯ2 か
らなり、最も好ましい組成物は分析組成が約５０〜６５
％のＳｉＯ2 、約１５〜２４％のＣａＯ、約３〜１３％
のＮａ2 Ｏ、約３〜１５％のＫ2 Ｏ、約１１〜２２％の
Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ、約０〜３％のＢ2 Ｏ3 、約０〜３％
のＡＬ2 Ｏ3 、および約０〜８％のＺｒＯ2 であると記
載されている。
実質的に平らで、薄いディスク形状製品に好ましい組成
を有するガラス組成物は、カナサイト(canasite)ガラス
セラミック製造用のガラス前駆物質として使用される組
成物である。米国特許第４，３８６，１６２号（ビー
ル）に開示されているこのガラス前駆物質の組成は実質
的に、酸化物基準の重量％で、約４５〜７５％のＳｉＯ
2 、約８〜３０％のＣａＯ、約２．５〜１２％のＦ、約
３〜１５％のＮａ2 Ｏ、約０〜２０％のＫ2 Ｏ、約５〜
２５％のＮａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ、約０〜６％のＢ2 Ｏ3 、約
０〜７％のＡＬ2 Ｏ3 、および約０〜８％のＺｒＯ2 か
らなり、最も好ましい組成物は分析組成が約５０〜６５
％のＳｉＯ2 、約１５〜２４％のＣａＯ、約３〜１３％
のＮａ2 Ｏ、約３〜１５％のＫ2 Ｏ、約１１〜２２％の
Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ、約０〜３％のＢ2 Ｏ3 、約０〜３％
のＡＬ2 Ｏ3 、および約０〜８％のＺｒＯ2 であると記
載されている。
【００１１】上記組成のガラス製品を所望の形状にプレ
スした後、最終工程のセラミング、すなわちガラス製品
を熱処理によりガラスセラミックの形に変換する工程を
行う。しかし、実際の熱処理の前に、ガラス製品に適当
な処理を施す必要がある。この処理工程では、ディスク
形状のガラス製品の対向する平らな表面をセッター（se
tter）で被覆する。被覆したディスクは、ＭＭＤ用途に
必要とされるような薄い物体では一般的にディスクの曲
がりを引き起こす軸方向の温度勾配が減少するので、被
覆していないディスクよりもはるかに平らにセラミック
化される。熱処理工程の結果ガラス製品が湾曲すると、
その前のプレス工程で達成された実質的な平面性および
実質的に一様な厚さが損なわれる。
スした後、最終工程のセラミング、すなわちガラス製品
を熱処理によりガラスセラミックの形に変換する工程を
行う。しかし、実際の熱処理の前に、ガラス製品に適当
な処理を施す必要がある。この処理工程では、ディスク
形状のガラス製品の対向する平らな表面をセッター（se
tter）で被覆する。被覆したディスクは、ＭＭＤ用途に
必要とされるような薄い物体では一般的にディスクの曲
がりを引き起こす軸方向の温度勾配が減少するので、被
覆していないディスクよりもはるかに平らにセラミック
化される。熱処理工程の結果ガラス製品が湾曲すると、
その前のプレス工程で達成された実質的な平面性および
実質的に一様な厚さが損なわれる。
【００１２】使用するセッター材料は、耐火性の絶縁材
料が好ましく、代表的な材料としては、キン青石、アル
ミナおよびグラファイトがある。しかし、グラファイト
は他の材料よりもはるかに平らな、直径を横切って１μ
m までの平らな部品を製造するので、グラファイトが最
も好ましい材料である。さらに、グラファイトセッター
は表面の平滑性が非常に高い部品を製造する傾向があ
る。
料が好ましく、代表的な材料としては、キン青石、アル
ミナおよびグラファイトがある。しかし、グラファイト
は他の材料よりもはるかに平らな、直径を横切って１μ
m までの平らな部品を製造するので、グラファイトが最
も好ましい材料である。さらに、グラファイトセッター
は表面の平滑性が非常に高い部品を製造する傾向があ
る。
【００１３】本発明を実行するのに、これらの「サンド
イッチ」を積み重ねる必要はないが、ディスクを積み重
ねることにより、セラミング装置の価格および大きさを
低減することができる。積み重ねるべきディスクの理想
的な数というのはないが、４３個までのディスクを効果
的に使用し、９５mmディスク直径を横切って７．３＋／
−２．０μm の平面性が測定されている。
イッチ」を積み重ねる必要はないが、ディスクを積み重
ねることにより、セラミング装置の価格および大きさを
低減することができる。積み重ねるべきディスクの理想
的な数というのはないが、４３個までのディスクを効果
的に使用し、９５mmディスク直径を横切って７．３＋／
−２．０μm の平面性が測定されている。
【００１４】セラミング工程でディスクを積み重ねる場
合、最上部の表面、つまり一番上のセッターおよび一番
下のセッターの底面に絶縁層を追加する必要がある。熱
伝導性の低い材料からなるこの絶縁層により、最上部お
よび最下部のディスクがその絶縁されていない状態で軸
方向の温度勾配にさらされるのを実質的に防ぐことがで
きる。特にこの実施形態には、カーボランダム、ナイア
ガラ フォールス、ＮＹから市販されているファイバー
フラックス絶縁を使用した。１／１６インチ〜３／４イ
ンチの厚さの絶縁が効果的であった。
合、最上部の表面、つまり一番上のセッターおよび一番
下のセッターの底面に絶縁層を追加する必要がある。熱
伝導性の低い材料からなるこの絶縁層により、最上部お
よび最下部のディスクがその絶縁されていない状態で軸
方向の温度勾配にさらされるのを実質的に防ぐことがで
きる。特にこの実施形態には、カーボランダム、ナイア
ガラ フォールス、ＮＹから市販されているファイバー
フラックス絶縁を使用した。１／１６インチ〜３／４イ
ンチの厚さの絶縁が効果的であった。
【００１５】一般に、上記のガラス前駆物質をカナサイ
トガラスセラミック状態にセラミック化するには、ガラ
スをそのアニール点より幾分高い温度に、少なくともそ
の中に結晶性核が生じるのに十分な時間適当に加熱す
る。次いで、ガラスをさらに、通常ガラスのアニール点
とガラスの軟化点との間の高い温度に加熱し、その中に
主要な結晶性相を発達させる。好ましい実施形態では、
セラミングを５段階の熱処理、（１）常温から毎時約１
５０℃の速度で約６００℃に加熱する、（２）約６００
℃の温度を２時間維持し、核を発達させる、（３）毎時
約１２５℃の速度で約８５０℃に加熱する、（４）温度
を約８５０℃に維持し、発達した核の上にカナサイト結
晶を成長させる、および（５）ガラスセラミック製品を
常温に冷却させることにより行う。
トガラスセラミック状態にセラミック化するには、ガラ
スをそのアニール点より幾分高い温度に、少なくともそ
の中に結晶性核が生じるのに十分な時間適当に加熱す
る。次いで、ガラスをさらに、通常ガラスのアニール点
とガラスの軟化点との間の高い温度に加熱し、その中に
主要な結晶性相を発達させる。好ましい実施形態では、
セラミングを５段階の熱処理、（１）常温から毎時約１
５０℃の速度で約６００℃に加熱する、（２）約６００
℃の温度を２時間維持し、核を発達させる、（３）毎時
約１２５℃の速度で約８５０℃に加熱する、（４）温度
を約８５０℃に維持し、発達した核の上にカナサイト結
晶を成長させる、および（５）ガラスセラミック製品を
常温に冷却させることにより行う。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ローランド アラン デヴイツドソン アメリカ合衆国 ニユーヨーク州 14845 ホースヘツズ ウエスト サリヴアンヴ イル ロード 2840 (72)発明者 エドウイン クエンテイン ガイルズ アメリカ合衆国 ニユーヨーク州 14812 ビーヴアー ダムズ メイン ストリー ト 1340 (72)発明者 ロバート メリツク メニハン アメリカ合衆国 ニユーヨーク州 14830 コーニング ブライアークリフ ドライ ヴ ７ (72)発明者 デヴイツド リー ネイラー アメリカ合衆国 ニユーヨーク州 14845 ホースヘツズ ライオンズ ドライヴ 3128
Claims (7)
- 【請求項１】 実質的に平らで、薄い、実質的に一様な
厚さを有するガラスセラミック製品のプレス成形方法で
あって、 （ａ）鋳型の受け成形表面および対向成形表面を所定
の、異なった温度に加熱すること、 （ｂ）前記鋳型の前記受け成形表面および対向成形表面
を互いに実質的に接触させ、配送された溶融ガラス充填
物をプレスして該鋳型を満たし、該鋳型の前記受け表面
および対向表面間を熱的に、実質的に平行に適合させ、
保持し、前記プレスされた充填物を実質的に一様な厚さ
にすること、 （ｃ）前記成形表面および前記ガラス製品表面の温度が
すべてほとんど平衡になり、その際、前記プレス時間お
よび鋳型温度差が組み合わされて熱が対称的に除去さ
れ、それによって、前記温度がすべてほとんど同時に平
衡に到達するように、前記ガラス充填物から十分な熱が
除去されるのに十分な時間前記ガラス充填物をプレスす
ること、 （ｄ）前記鋳型から前記ガラス製品を取り出すこと、 を特徴とする方法。 - 【請求項２】 さらに （ａ）前記ガラス製品の対向表面を耐火性絶縁材料で被
覆すること、 （ｂ）前記被覆したガラス製品を、前記ガラス製品がそ
の場で結晶化してガラスセラミック製品になるのに十分
な温度および時間で熱処理すること、および（ｃ）前記
被覆したガラスセラミック製品を室温に冷却し、その被
覆をその製品から除去すること、 を特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 前記成形表面が、ゼロに近い熱膨脹を示
し、実質的に非粘着性の表面を有する材料からなること
を特徴とする請求項１または２記載の方法。 - 【請求項４】 前記成形材料が、窒化ホウ素、窒化ホウ
素複合材料、炭化ケイ素、炭化ケイ素被覆のグラファイ
トおよび熱分解グラファイトからなる群より選択される
ことを特徴とする請求項３記載の方法。 - 【請求項５】 前記耐火性絶縁材料が、セッターの形に
成形され、前記ガラス製品が２つのセッターの間に配置
されてサンドイッチ構造を形成することを特徴とする請
求項２記載の方法。 - 【請求項６】 前記耐火性絶縁材料が、アルミナ、キン
青石およびグラファイトからなる群より選択されること
を特徴とする請求項２の記載方法。 - 【請求項７】 幾つかのサンドイッチ構造を互いに重ね
合わせ、最上部のセッターの上表面上および最下部のセ
ッターの底面上に耐火性絶縁材料の層を追加することを
特徴とする請求項５記載の方法。
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