JPH05102005A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
- Publication number
- JPH05102005A JPH05102005A JP3290328A JP29032891A JPH05102005A JP H05102005 A JPH05102005 A JP H05102005A JP 3290328 A JP3290328 A JP 3290328A JP 29032891 A JP29032891 A JP 29032891A JP H05102005 A JPH05102005 A JP H05102005A
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- Japan
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- phase plate
- optical system
- projection optical
- projection
- reticle
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 スループットを低下させることなく、強度
的、精度的に設計の簡便な焦点位置移動手段を用いて効
率の良い多焦点露光を行なえる投影露光装置を得る。 【構成】 投影露光装置において、投影光学系が両側テ
レセントリックであり、且つ焦点位置移動手段を投影光
学系とフォトマスクとの間に配置した。
的、精度的に設計の簡便な焦点位置移動手段を用いて効
率の良い多焦点露光を行なえる投影露光装置を得る。 【構成】 投影露光装置において、投影光学系が両側テ
レセントリックであり、且つ焦点位置移動手段を投影光
学系とフォトマスクとの間に配置した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体装置、液
晶デイスプレイ等の微細パターンの形成において用いら
れている投影露光装置に関するものである。
晶デイスプレイ等の微細パターンの形成において用いら
れている投影露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、高度な微細化の要求に対応するた
め、投影露光装置において使用される露光光は短波長化
し、投影レンズの開口数（以下、ＮＡと記す）は増大し
つつあるが、一方、投影レンズの焦点深度は、露光波長
に比例しＮＡの２乗に反比例するため、焦点深度の不足
が深刻な問題になりつつある。
め、投影露光装置において使用される露光光は短波長化
し、投影レンズの開口数（以下、ＮＡと記す）は増大し
つつあるが、一方、投影レンズの焦点深度は、露光波長
に比例しＮＡの２乗に反比例するため、焦点深度の不足
が深刻な問題になりつつある。
【０００３】そこで、複数の焦点位置で露光を行なうこ
とにより、焦点深度を確保する手段を備えた投影露光装
置が公開されている（特開昭６３ー６４０３７号公報、
特開平２ー２８１７２５号公報）。
とにより、焦点深度を確保する手段を備えた投影露光装
置が公開されている（特開昭６３ー６４０３７号公報、
特開平２ー２８１７２５号公報）。
【０００４】例えば、焦点位置を変える手段として、ス
テージを上下させる方法が広く使われているが、この方
法ではステージを上下させて焦点位置を変化させる度に
露光を行なわなければならず、スループットが低下する
とともにステージに負担がかかるという問題がある。
テージを上下させる方法が広く使われているが、この方
法ではステージを上下させて焦点位置を変化させる度に
露光を行なわなければならず、スループットが低下する
とともにステージに負担がかかるという問題がある。
【０００５】そこでステージの上下運動をさせずに焦点
位置を変化させる方法として、フォトマスクを動かす方
法、位相平面板やレンズを出し入れする方法、密閉容器
内の気圧を変える方法等が考えられている。図２に、従
来の投影露光装置の一例として位相板を用いる場合を示
す。
位置を変化させる方法として、フォトマスクを動かす方
法、位相平面板やレンズを出し入れする方法、密閉容器
内の気圧を変える方法等が考えられている。図２に、従
来の投影露光装置の一例として位相板を用いる場合を示
す。
【０００６】図２において、投影レンズ２３と被露光物
体２５との間には、厚さが各々異なる透明板の扇形部２
４ａからなる円板２４が配置されている。光源からコン
デンサレンズ２１を介して、フォトマスク２２が照明さ
れ、投影レンズ２３によって投影像が被露光物上に結像
するが、円板２４を回転させ、光が透過する部分の厚さ
を変化させることによって断続的に結像点の位置を変化
させて露光を行なうことができる。
体２５との間には、厚さが各々異なる透明板の扇形部２
４ａからなる円板２４が配置されている。光源からコン
デンサレンズ２１を介して、フォトマスク２２が照明さ
れ、投影レンズ２３によって投影像が被露光物上に結像
するが、円板２４を回転させ、光が透過する部分の厚さ
を変化させることによって断続的に結像点の位置を変化
させて露光を行なうことができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】一般に、微細パターン
の転写に用いられる投影レンズは、製造工程において光
軸方向に対するウエハの位置決め精度にマージンを持た
せるためウエハ側（以下、像側と記す）でテレセントリ
ックな光学系になっているが、マスク側（以下、物体側
と記す）では必ずしもテレセントリック光学系とはなっ
ていない。このような物体側非テレセントリック光学系
で上記のような焦点位置移動手段を用いる場合、像高に
よって倍率が変動してしまい、焦点位置の横ずれが生じ
るという問題があり、実用的ではない。
の転写に用いられる投影レンズは、製造工程において光
軸方向に対するウエハの位置決め精度にマージンを持た
せるためウエハ側（以下、像側と記す）でテレセントリ
ックな光学系になっているが、マスク側（以下、物体側
と記す）では必ずしもテレセントリック光学系とはなっ
ていない。このような物体側非テレセントリック光学系
で上記のような焦点位置移動手段を用いる場合、像高に
よって倍率が変動してしまい、焦点位置の横ずれが生じ
るという問題があり、実用的ではない。
【０００８】さらに、像側（投影レンズと被露光物体と
の間）に前記焦点位置移動手段を配置した場合では、例
えば位相板を挿入して焦点位置を移動させる方法を実際
に考えると、屈折率ｎ，厚さｄの位相板による焦点位置
移動距離ΔはΔ＝（ｎー１）ｄ／ｎで与えられ、ガラス
の如き一般の透明物質の屈折率ｎ＝１．５，焦点位置移
動距離Δ＝１μｍとすると、位相板の厚さｄ＝３μｍと
なる。
の間）に前記焦点位置移動手段を配置した場合では、例
えば位相板を挿入して焦点位置を移動させる方法を実際
に考えると、屈折率ｎ，厚さｄの位相板による焦点位置
移動距離ΔはΔ＝（ｎー１）ｄ／ｎで与えられ、ガラス
の如き一般の透明物質の屈折率ｎ＝１．５，焦点位置移
動距離Δ＝１μｍとすると、位相板の厚さｄ＝３μｍと
なる。
【０００９】像側に位相板を配置するにはこのように極
めて薄い位相膜でなければならないが、これを均一に形
成し保持することは非常に困難であるにもかかわらず、
わずかな厚さムラによっても焦点移動距離が大きく変動
してしまう。また、薄い位相膜を高速で移動させること
が困難であるという問題が発生する。さらに、縮小光学
系においては、投影レンズと被露光物体との距離が極め
て小さくなるため、位相板に限らずこの間での焦点位置
移動手段の操作は非常に困難である。
めて薄い位相膜でなければならないが、これを均一に形
成し保持することは非常に困難であるにもかかわらず、
わずかな厚さムラによっても焦点移動距離が大きく変動
してしまう。また、薄い位相膜を高速で移動させること
が困難であるという問題が発生する。さらに、縮小光学
系においては、投影レンズと被露光物体との距離が極め
て小さくなるため、位相板に限らずこの間での焦点位置
移動手段の操作は非常に困難である。
【００１０】本発明は、上記問題を解消し、強度的、精
度的に問題なく且つ製造上設計の簡便な焦点位置移動手
段の実現を可能とする投影露光装置を得ることを目的と
する。
度的に問題なく且つ製造上設計の簡便な焦点位置移動手
段の実現を可能とする投影露光装置を得ることを目的と
する。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載の本発明に係る投影露光装置では、
照明されたフォトマスクから投影光学系を介して被露光
物体に至る光軸上で像の焦点位置を移動させる焦点位置
移動手段を備えた投影露光装置において、前記投影光学
系が両側テレセントリックであり、且つ前記焦点移動手
段が、前記投影光学系と前記フォトマスクとの間に配置
されている。
め、請求項１に記載の本発明に係る投影露光装置では、
照明されたフォトマスクから投影光学系を介して被露光
物体に至る光軸上で像の焦点位置を移動させる焦点位置
移動手段を備えた投影露光装置において、前記投影光学
系が両側テレセントリックであり、且つ前記焦点移動手
段が、前記投影光学系と前記フォトマスクとの間に配置
されている。
【００１２】また、請求項２に記載の発明に係る投影露
光装置では、請求項１に記載の投影露光装置において、
前記焦点移動手段が、Δ＝（ｎー１）ｄβ2 ／ｎ を満
たす位相板（但し、Δは焦点移動距離、ｎは位相板の屈
折率、ｄは位相板の厚さ、βは投影光学系の倍率でβ＜
１）であるとした。
光装置では、請求項１に記載の投影露光装置において、
前記焦点移動手段が、Δ＝（ｎー１）ｄβ2 ／ｎ を満
たす位相板（但し、Δは焦点移動距離、ｎは位相板の屈
折率、ｄは位相板の厚さ、βは投影光学系の倍率でβ＜
１）であるとした。
【００１３】また、請求項３に記載の発明に係る投影露
光装置では、請求項２に記載の投影露光装置において、
前記位相板を、少なくとも１つ以上の遮光部分を有する
ものとした。
光装置では、請求項２に記載の投影露光装置において、
前記位相板を、少なくとも１つ以上の遮光部分を有する
ものとした。
【００１４】
【作用】本発明は、投影露光装置において投影光学系が
両側テレセントリックであるため、倍率の変動が生じな
いので物体側に焦点位置移動手段を配置することが可能
となる。従って、縮小光学系を用いる場合であっても、
投影光学系とフォトマスクとの距離は比較的大きいので
焦点位置移動手段の操作は容易となる。
両側テレセントリックであるため、倍率の変動が生じな
いので物体側に焦点位置移動手段を配置することが可能
となる。従って、縮小光学系を用いる場合であっても、
投影光学系とフォトマスクとの距離は比較的大きいので
焦点位置移動手段の操作は容易となる。
【００１５】ここで、焦点位置移動手段が、屈折率ｎ＝
１．５の位相板であり、焦点位置移動距離Δ＝１μｍ、
倍率β＝１／５とした場合を例に本発明の作用を説明す
る。この場合、Δ＝（ｎー１）ｄβ2 の式より位相板の
厚さはｄ＝７５μｍと比較的厚いものとなる。よって、
たとえ位相板に５μｍもの厚さムラが生じたとしても、
所望の焦点位置からのズレは０．０７μｍ程度と極めて
わずかとなる。
１．５の位相板であり、焦点位置移動距離Δ＝１μｍ、
倍率β＝１／５とした場合を例に本発明の作用を説明す
る。この場合、Δ＝（ｎー１）ｄβ2 の式より位相板の
厚さはｄ＝７５μｍと比較的厚いものとなる。よって、
たとえ位相板に５μｍもの厚さムラが生じたとしても、
所望の焦点位置からのズレは０．０７μｍ程度と極めて
わずかとなる。
【００１６】また、このように比較的厚いものであれ
ば、ある程度の強度を持ったものが形成できるので、露
光操作を行なう際に、均一に保持し、高速で移動させる
ことも容易となる。以上のように本発明においては、位
相板に限らず、スループットが低下することなく強度
的、精度的にも設計の簡便な焦点位置移動手段を用いる
ことができる。
ば、ある程度の強度を持ったものが形成できるので、露
光操作を行なう際に、均一に保持し、高速で移動させる
ことも容易となる。以上のように本発明においては、位
相板に限らず、スループットが低下することなく強度
的、精度的にも設計の簡便な焦点位置移動手段を用いる
ことができる。
【００１７】
【実施例】以下に、本発明の実施例を説明する。図１
（ａ）は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の概略
構成図であり、焦点位置移動手段として位相板を用いた
ものである。図において、レクチル２と投影光学系４と
の間に位相板３Ａが配置されており、投影光学系４は両
側テレセントリックである。
（ａ）は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の概略
構成図であり、焦点位置移動手段として位相板を用いた
ものである。図において、レクチル２と投影光学系４と
の間に位相板３Ａが配置されており、投影光学系４は両
側テレセントリックである。
【００１８】光源（図示せず）からの照射光は、コンデ
ンサレンズ１を介してレクチル２を照射する。さらに位
相板３Ａを介して投影レンズ光学系４に入射したのち、
ウエハ５上に投影像を結像し露光が行なわれる。ここで
は図１（ｂ）に示すような円板状の位相板３Ａを用いて
多焦点露光を効率良く行なう。位相板３Ａは、遮光部
３，３’と各々厚さの異なる透明扇状部１４ａ，１４
ｂ，１４ｃとからなる。
ンサレンズ１を介してレクチル２を照射する。さらに位
相板３Ａを介して投影レンズ光学系４に入射したのち、
ウエハ５上に投影像を結像し露光が行なわれる。ここで
は図１（ｂ）に示すような円板状の位相板３Ａを用いて
多焦点露光を効率良く行なう。位相板３Ａは、遮光部
３，３’と各々厚さの異なる透明扇状部１４ａ，１４
ｂ，１４ｃとからなる。
【００１９】また、図１（ｂ）中１１で示した部分は、
何もないかあるいは均一な位相板とし、アライメント時
にレチクル２上にくるよう設定し、アライメント光を通
してレチクル２とステージ（図示せず）との位置合せを
行なう。露光の際には、レチクル２上に遮光部３がくる
よう設定した後露光を開始する。
何もないかあるいは均一な位相板とし、アライメント時
にレチクル２上にくるよう設定し、アライメント光を通
してレチクル２とステージ（図示せず）との位置合せを
行なう。露光の際には、レチクル２上に遮光部３がくる
よう設定した後露光を開始する。
【００２０】露光を行なったまま、位相板３Ａを矢印方
向に一定の角速度で回転させる。これによって厚さの異
なる透明扇状部１４ａ，１４ｂ，１４ｃが順次レチクル
２上を走査していき、位相板の各々の厚みに基いた焦点
位置において時間平均で一定の露光が行なわれていく。
遮光部１３’がレチクル２を覆った時点で露光を止め
る。
向に一定の角速度で回転させる。これによって厚さの異
なる透明扇状部１４ａ，１４ｂ，１４ｃが順次レチクル
２上を走査していき、位相板の各々の厚みに基いた焦点
位置において時間平均で一定の露光が行なわれていく。
遮光部１３’がレチクル２を覆った時点で露光を止め
る。
【００２１】本実施例においては位相板に遮光部を設け
ているので、従来用いられていた位相板と違って、各露
光毎にエネルギーを均一に割振ることができる。また、
円板状位相板の各扇状部の頂角は同一である必要はな
く、頂角を変えることにより、任意の焦点位置に重みづ
けを行なうことが可能である。
ているので、従来用いられていた位相板と違って、各露
光毎にエネルギーを均一に割振ることができる。また、
円板状位相板の各扇状部の頂角は同一である必要はな
く、頂角を変えることにより、任意の焦点位置に重みづ
けを行なうことが可能である。
【００２２】上記実施例のような円板状の位相板３Ａの
代りに、図１（ｃ）に示すような位相板３Ｂを用いても
よい。この場合、一定速度で矢印方向に移動させながら
露光を行なえば、遮光部１５から透明部１６ａ，１６
ｂ，１６ｃ，遮光部１５’、あるいは遮光部１５’から
遮光部１５までが順次レクチル２上を走査し、円板状位
相板３Ａの場合と同様に位相板の各厚みに基く焦点位置
で露光が行なわれる。
代りに、図１（ｃ）に示すような位相板３Ｂを用いても
よい。この場合、一定速度で矢印方向に移動させながら
露光を行なえば、遮光部１５から透明部１６ａ，１６
ｂ，１６ｃ，遮光部１５’、あるいは遮光部１５’から
遮光部１５までが順次レクチル２上を走査し、円板状位
相板３Ａの場合と同様に位相板の各厚みに基く焦点位置
で露光が行なわれる。
【００２３】以上の実施例においては、位相板に３つの
異なる厚みを持たせ、３つの焦点位置で露光を行なわせ
ているが、これに限らない。また、段階状に厚みが異な
る位相板を用いているが、斜面状の位相板を用いて連続
的に焦点位置を移動させて露光を行なうこともできる。
異なる厚みを持たせ、３つの焦点位置で露光を行なわせ
ているが、これに限らない。また、段階状に厚みが異な
る位相板を用いているが、斜面状の位相板を用いて連続
的に焦点位置を移動させて露光を行なうこともできる。
【００２４】
【発明の効果】本発明は以上説明したとおり、投影露光
装置において投影光学系が両側テレセントリックである
ため、倍率の変動が生じないので物体側に焦点位置移動
手段を配置することが可能となる。従って、縮小投影光
学系で要求される精度が倍率（β）の逆数倍（１／β
2 ）分だけ楽になり、位相板等の焦点位置移動手段が強
度的にも精度的にもその設計が簡便となる。
装置において投影光学系が両側テレセントリックである
ため、倍率の変動が生じないので物体側に焦点位置移動
手段を配置することが可能となる。従って、縮小投影光
学系で要求される精度が倍率（β）の逆数倍（１／β
2 ）分だけ楽になり、位相板等の焦点位置移動手段が強
度的にも精度的にもその設計が簡便となる。
【００２５】このように縮小光学系を用いる場合、投影
光学系とフォトマスクとの距離が比較的大きくなるとと
もに、上記のように焦点位置移動手段がある程度の強度
を持ったものが用いられるので、露光を行なう際、均一
に保持し、高速で移動させる等焦点位置移動手段の操作
が非常に容易となる。
光学系とフォトマスクとの距離が比較的大きくなるとと
もに、上記のように焦点位置移動手段がある程度の強度
を持ったものが用いられるので、露光を行なう際、均一
に保持し、高速で移動させる等焦点位置移動手段の操作
が非常に容易となる。
【００２６】以上のように本発明は、スループットを低
下させることなく、強度的、精度的にも設計の簡便な焦
点位置移動手段を用いて効率良く多焦点露光を行なうこ
とが可能であるという効果を有する。
下させることなく、強度的、精度的にも設計の簡便な焦
点位置移動手段を用いて効率良く多焦点露光を行なうこ
とが可能であるという効果を有する。
【図１】本発明の一実施例に係る投影露光装置の概略構
成図である。
成図である。
【図２】従来の投影露光装置の概略構成図である。
１，２１：コンデンサレンズ ２，２２：レクチル ３Ａ，３Ｂ，２４：位相板 ４：投影光学系（両側テレセントリック） ５：ウエハ １３，１３’，１５，１５’：遮光部 １４ａ，１４ｂ，４ｃ，２４ａ：透明扇状部
Claims (3)
- 【請求項１】 照明されたフォトマスクから投影光学系
を介して被露光物体に至る光軸上で像の焦点位置を移動
させる焦点位置移動手段を備えた投影露光装置におい
て、前記投影光学系が両側テレセントリックであり、且
つ前記焦点移動手段が、前記投影光学系と前記フォトマ
スクとの間に配置されていることを特徴とする投影露光
装置。 - 【請求項２】 前記焦点移動手段が、Δ＝（ｎー１）ｄ
β2 ／ｎ を満たす位相板（但し、Δは焦点移動距離、
ｎは位相板の屈折率、ｄは位相板の厚さ、βは投影光学
系の倍率でβ＜１）であることを特徴とする前記請求項
１に記載の投影露光装置。 - 【請求項３】 前記位相板が、少なくとも１つ以上の遮
光部分を有することを特徴とする前記請求項２に記載の
投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3290328A JPH05102005A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3290328A JPH05102005A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | 投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05102005A true JPH05102005A (ja) | 1993-04-23 |
Family
ID=17754655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3290328A Pending JPH05102005A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05102005A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011007941A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Fujifilm Corp | 露光ヘッド及び露光装置 |
-
1991
- 1991-10-11 JP JP3290328A patent/JPH05102005A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011007941A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Fujifilm Corp | 露光ヘッド及び露光装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010529 |