JPH0499160A - 溶融金属めっき方法 - Google Patents
溶融金属めっき方法Info
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- JPH0499160A JPH0499160A JP20497290A JP20497290A JPH0499160A JP H0499160 A JPH0499160 A JP H0499160A JP 20497290 A JP20497290 A JP 20497290A JP 20497290 A JP20497290 A JP 20497290A JP H0499160 A JPH0499160 A JP H0499160A
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- plating bath
- plating
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- steel strip
- bath
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Landscapes
- Coating With Molten Metal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、溶融金属めっき方法に関するものである。
従来の技術
鋼帯をめっき浴底部から浴中へ導きめっきする方法とし
ては1例えば特開昭411−31544号、特開昭83
−108149号で開示されているが、このようなめっ
き方法においては、めっき浴槽の鋼帯通過口からのめっ
き浴の洩れを確実に防止することが重要である。
ては1例えば特開昭411−31544号、特開昭83
−108149号で開示されているが、このようなめっ
き方法においては、めっき浴槽の鋼帯通過口からのめっ
き浴の洩れを確実に防止することが重要である。
発明が解決しようとする課題
このようなめっき浴の洩れ防止にラビリンス機構を採用
することも上記公報に開示されているが、実操業として
確実に洩れを防止することが困難である等の欠点をとも
なうものである。
することも上記公報に開示されているが、実操業として
確実に洩れを防止することが困難である等の欠点をとも
なうものである。
課題を解決するための手段
本発明の特徴とするところは、めっき浴底部から鋼帯を
連続的にめっき浴へ導き、めっきする方法において、鋼
帯をめっき浴中央より偏位位置を通過させ、浴下部の周
囲から高周波磁界を照射することを特徴とする、溶融金
属めっき方法に関するものである。
連続的にめっき浴へ導き、めっきする方法において、鋼
帯をめっき浴中央より偏位位置を通過させ、浴下部の周
囲から高周波磁界を照射することを特徴とする、溶融金
属めっき方法に関するものである。
本発明を図面によって説明する。
第1図において、鋼帯lをめっき浴2中央部より偏位位
置を通過させる。一方めっき浴2の下部の周囲からンレ
ノイド3から高周波を照射し。
置を通過させる。一方めっき浴2の下部の周囲からンレ
ノイド3から高周波を照射し。
めっき浴2の下端を中央部に移動保持させ中央部より偏
位させた鋼帯1の導入口4部位には、めっき浴2が位置
しないようにして、導入口4からのめっき浴の洩れを確
実に防止しつつ、鋼帯1をめっき浴2へ導くものである
。
位させた鋼帯1の導入口4部位には、めっき浴2が位置
しないようにして、導入口4からのめっき浴の洩れを確
実に防止しつつ、鋼帯1をめっき浴2へ導くものである
。
めっき浴下部の周囲から高周波を照射することによって
めっき浴下端を中央部に移動保持させる作用について詳
述する。
めっき浴下端を中央部に移動保持させる作用について詳
述する。
めっき浴2のヘッドをHとすると垂直方向の下向きの力
Fgは Fg=ρgh ρ:密度、g:重力加速度、h:ヘッドこれに対して、
高周波の磁界による磁気反発力Fmは、 Fm = 82/2 #L B:磁束密度、ル:透磁率 となり、めっき浴が浮上する条件は Fg = Fll となる。
Fgは Fg=ρgh ρ:密度、g:重力加速度、h:ヘッドこれに対して、
高周波の磁界による磁気反発力Fmは、 Fm = 82/2 #L B:磁束密度、ル:透磁率 となり、めっき浴が浮上する条件は Fg = Fll となる。
又周波数の選定においては、めっき浴の表皮効果(スキ
ンデプス)を考慮することが好ましく、例えば、スキン
デプス文は 見=5 μ:透磁効果、σ:導電率、ω:周波数めっき浴セル(
槽)5厚みをLとすると最適条件は、L=42であるこ
とが経験的に把握しており、周波数ωは、 となる。
ンデプス)を考慮することが好ましく、例えば、スキン
デプス文は 見=5 μ:透磁効果、σ:導電率、ω:周波数めっき浴セル(
槽)5厚みをLとすると最適条件は、L=42であるこ
とが経験的に把握しており、周波数ωは、 となる。
このような条件で高周波を照射することにより、めっき
浴の下端を中央部に移動保持することができる。
浴の下端を中央部に移動保持することができる。
具体的には、例えば溶融亜鉛めっき浴の場合。
めっき浴の高さlO〜500露■、巾50〜2000層
鳳、長さ10〜100mmで、下部10〜100mmに
ソレノイドを配置し、1 kHz〜1メガHzの高周波
を照射することにより、めっき浴の下端を中央部へ移動
保持することができる。従って鋼帯導入口を中央から偏
位位置に設け、鋼帯を浴中へ導くことにより、導入口か
らのめっき浴の洩れを確実に防止することができる。
鳳、長さ10〜100mmで、下部10〜100mmに
ソレノイドを配置し、1 kHz〜1メガHzの高周波
を照射することにより、めっき浴の下端を中央部へ移動
保持することができる。従って鋼帯導入口を中央から偏
位位置に設け、鋼帯を浴中へ導くことにより、導入口か
らのめっき浴の洩れを確実に防止することができる。
めっき浴としては、亜鉛めっき浴、亜鉛に鉄、アルミニ
ウム、マンガン等の1種又は、2種以上含有浴、アルミ
ニウム浴等溶融金属めっき浴に有効に適用することがで
きる。
ウム、マンガン等の1種又は、2種以上含有浴、アルミ
ニウム浴等溶融金属めっき浴に有効に適用することがで
きる。
次に本発明方法の一例を図面により説明する。
第2図において、鋼帯1を前処理炉6で表面清浄化し、
めっき浴2の底部中央より偏位位置の導入口4からめっ
き浴2−へ導き、めっき後上部でノズル7から気体噴射
によって付着量を制御する。
めっき浴2の底部中央より偏位位置の導入口4からめっ
き浴2−へ導き、めっき後上部でノズル7から気体噴射
によって付着量を制御する。
一方めっき浴2下部周囲からソレノイド3によって、高
周波を照射し、めっき浴?、下端を中央部へ移動保持し
、導入口4からのめっき浴2の洩れを防止するものであ
る。
周波を照射し、めっき浴?、下端を中央部へ移動保持し
、導入口4からのめっき浴2の洩れを防止するものであ
る。
めっき浴2のめっきによる減少をめっきタンク8からポ
ンプ9を介してパイプlOから補給し、又補給がオーバ
ーしたときは、パイプ10aからタンク8へ戻す。
ンプ9を介してパイプlOから補給し、又補給がオーバ
ーしたときは、パイプ10aからタンク8へ戻す。
実施例
次に、本発明の実施例を挙げる。
l)めっき浴(槽)の条件
(1)めっき浴:溶m夏鉛(480℃)(2)めっき浴
高さ:2001層。
高さ:2001層。
(3)めっき浴中: 3800■■、
(4)めっき浴長さ21001層、
(5)めっき浴底部の鋼帯導入口:ft](長) 15
00mm、開口巾20■腸。
00mm、開口巾20■腸。
(6)めっき浴槽(セル):9iC製、20■腸厚。
2)高周波照射条件
(1)ソレノイド配Ii:めっき浴(槽)下端から上部
10軸1間(′めっき浴全周配置) (2)高周波数: 20KHz (電流1000A)
このような条件で、鋼帯(厚1.011、巾10010
0O通板速度100■/分でめっきを施したところ鋼帯
導入口からのめっき浴の洩れは全く認められなかった。
10軸1間(′めっき浴全周配置) (2)高周波数: 20KHz (電流1000A)
このような条件で、鋼帯(厚1.011、巾10010
0O通板速度100■/分でめっきを施したところ鋼帯
導入口からのめっき浴の洩れは全く認められなかった。
発明の効果
かくすることにより、鋼帯導入口からのめつき浴の洩れ
を確実に防止しつつめっきすることができ、このような
めっき方法において、工業的規模でのめっきが確実にで
きる等の優れた効果をもたらすことができる。
を確実に防止しつつめっきすることができ、このような
めっき方法において、工業的規模でのめっきが確実にで
きる等の優れた効果をもたらすことができる。
第1図は1本発明の説明図、第2図は1本発明の−例を
示す説明図である。 1・・・鋼帯、2・・・めつき浴、3・・eソレノイド
、4・・・導入口、5・Φ・めっき浴セル(槽)、6・
・・前処理炉、7・・・ノズル、g II @・めっき
タンク、9・・・ポンプ、10.10a・・・パイプ。
示す説明図である。 1・・・鋼帯、2・・・めつき浴、3・・eソレノイド
、4・・・導入口、5・Φ・めっき浴セル(槽)、6・
・・前処理炉、7・・・ノズル、g II @・めっき
タンク、9・・・ポンプ、10.10a・・・パイプ。
Claims (1)
- めっき浴底部から鋼帯を連続的にめっき浴へ導き、め
っきする方法において、鋼帯をめっき浴中央より偏位位
置を通過させ、浴下部の周囲から高周波磁界を照射する
ことを特徴とする、溶融金属めっき方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20497290A JPH0499160A (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | 溶融金属めっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20497290A JPH0499160A (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | 溶融金属めっき方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0499160A true JPH0499160A (ja) | 1992-03-31 |
Family
ID=16499346
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20497290A Pending JPH0499160A (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | 溶融金属めっき方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0499160A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2773820A1 (fr) * | 1998-01-22 | 1999-07-23 | Snecma | Procede d'enduction metallique de fibres par voie liquide |
-
1990
- 1990-08-03 JP JP20497290A patent/JPH0499160A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2773820A1 (fr) * | 1998-01-22 | 1999-07-23 | Snecma | Procede d'enduction metallique de fibres par voie liquide |
EP0931846A1 (fr) * | 1998-01-22 | 1999-07-28 | SOCIETE NATIONALE D'ETUDE ET DE CONSTRUCTION DE MOTEURS D'AVIATION -Snecma | Procédé d'enduction métallique de fibres par voie liquide |
WO1999037828A1 (fr) * | 1998-01-22 | 1999-07-29 | Societe Nationale D'etude Et De Construction De Moteurs D'aviation 'snecma' | Procede d'enduction metallique de fibres par voie liquide |
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