JPH049251B2 - - Google Patents

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JPH049251B2
JPH049251B2 JP22867282A JP22867282A JPH049251B2 JP H049251 B2 JPH049251 B2 JP H049251B2 JP 22867282 A JP22867282 A JP 22867282A JP 22867282 A JP22867282 A JP 22867282A JP H049251 B2 JPH049251 B2 JP H049251B2
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light
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indication signal
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  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 透光性基板に、導電層を内壁面に形成している
スルーホールを形成した電気部材の、該導電層に
生ずるピンホール等の欠陥を検査するスルーホー
ル検査法及びその装置に関し、 スルーホールの遮光を高速に行ない得ることに
加えて、その中でスルーホール位置表示信号及び
欠陥表示信号の自動的な取得により欠陥検査を高
速化することを目的とし、 透光性基板に、導電層を内壁面に形成している
スルーホールを形成した電気部材の該導電層の欠
陥を検出するに際して、前記電気部材をその一側
から照明し、前記電気部材との間の相対的移動を
許容させつつ、前記照明光を遮光する遮光可能な
手段を前記照明側に配置させ、前記遮光可能な手
段による検出対象スルーホールの非遮光状態と、
遮光状態とに対応して、それぞれスルーホール位
置表示信号及び欠陥表示信号を前記照明側とは反
対側に配置された検出系から発生させ、これら両
信号に応答して前記検出対象スルーホールの欠陥
の有無を検出するようにして構成される。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] A through-hole for inspecting defects such as pinholes that occur in the conductive layer of an electrical member in which a through-hole is formed in a transparent substrate with a conductive layer formed on the inner wall surface. Regarding the inspection method and its equipment, the purpose is to speed up defect inspection by automatically acquiring through-hole position indication signals and defect indication signals, in addition to being able to perform light shielding of through holes at high speed. When detecting defects in the conductive layer of an electrical member in which a through hole with a conductive layer formed on the inner wall surface is formed in a transparent substrate, the electrical member is illuminated from one side, and the contact between the electrical member and the electrical member is detected. A light-blocking means for blocking the illumination light is disposed on the illumination side while allowing relative movement between the two, and the through-hole to be detected is in a non-light-blocking state by the light-blocking means;
In response to the light shielding state, a through-hole position indication signal and a defect indication signal are respectively generated from a detection system disposed on the opposite side to the illumination side, and in response to these two signals, a defect in the through-hole to be detected is detected. It is configured to detect the presence or absence of.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は透光性基板に、導電層を内壁面に形成
しているスルーホールを形成した電気部材の、該
導電層に生ずるピンホール等の欠陥を検査するス
ルーホール検査法及びその装置に関する。
The present invention relates to a through-hole inspection method and apparatus for inspecting defects such as pinholes that occur in the conductive layer of an electrical member in which a through-hole is formed in a light-transmitting substrate with a conductive layer formed on the inner wall surface.

画面プリント板や、多層プリント板には、それ
ら基板に形成されている表裏プリント配線間や、
各層プリント配線間の電気的接続のために、スル
ーホールが電気的或いは化学的メツキ法によりメ
ツキされて形成される。
For screen printed boards and multilayer printed boards, between the front and back printed wiring formed on those boards,
Through holes are formed by electrically or chemically plating for electrical connection between printed wiring layers.

このスルーホールのメツキ層が常に良好な状態
にあると限らず、切れ目、ピンホール等の欠陥が
生ずることがある。
The plating layer of the through hole is not always in good condition, and defects such as cuts and pinholes may occur.

この欠陥はその接続目的を阻害し、プリント板
の信頼性を低下せしめるので、このような欠陥を
予め検査する必要がある。
It is necessary to check for such defects beforehand, since they will defeat the purpose of the connection and reduce the reliability of the printed circuit board.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

スルーホール検査法の1つとして、プリント板
のスルーホールの一側に遮光性マスクを密着さ
せ、プリント板の透光性基板へ光を注入してスル
ーホールのメツキ層に生ずることがある欠陥を経
て透過して来る光を検出することにより、メツキ
層に欠陥があることを知る方法が知られている。
As one of the through-hole inspection methods, a light-shielding mask is closely attached to one side of the through-hole in a printed board, and light is injected into the transparent substrate of the printed board to detect defects that may occur in the plating layer of the through-hole. There is a known method for detecting the presence of defects in the plating layer by detecting the light that passes through the plating layer.

〔発明が解決しようとする課題] この方法は遮光性マスクのプリント板への密着
を必須条件としていることから、速やかな検査を
なし得ないばかりでなく、プリント板毎にマスク
とスルーホールとの位置合わせを行なわなければ
ならないという不具合がある。
[Problems to be Solved by the Invention] Since this method requires the light-shielding mask to be in close contact with the printed board, it not only makes it impossible to perform prompt inspection, but also makes it difficult to inspect the mask and through-holes for each printed board. There is a problem that alignment must be performed.

本発明は上述したような従来方法の有する欠点
に鑑みて創作されたもので、スルーホールの遮光
を高速に行ない得ることに加えて、その中でスル
ーホール位置表示信号及び欠陥表示信号の自動的
な取得により欠陥検査を高速化しうるスルーホー
ル検査法及びその装置を提供することをその目的
とする。
The present invention has been created in view of the drawbacks of the conventional methods as described above, and in addition to being able to quickly block light through holes, it also allows automatic transmission of through hole position indicating signals and defect indicating signals. The purpose of the present invention is to provide a through-hole inspection method and device that can speed up defect inspection by acquiring accurate information.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

第1の発明は、透光性基板に、導電層を内壁面
に形成しているスルーホールを形成した電気部材
の該導電層の欠陥を検出するに際して、前記電気
部材をその一側から照明し、前記電気部材との間
の相対的移動を許容させつつ、前記照明光を遮光
する遮光可能な手段を前記照明側に配置させ、前
記遮光可能な手段による検出対象スルーホールの
非遮光状態と、遮光状態とに対応して、それぞれ
スルーホール位置表示信号及び欠陥表示信号を前
記照明側とは反対側に配置された検出系から発生
させ、これら両信号に応答して前記検出対象スル
ーホールの欠陥の有無を検出するようにして、構
成される。
A first aspect of the present invention is to illuminate the electrical member from one side when detecting defects in the electrically conductive layer in which a through hole is formed in the transparent substrate and the electrically conductive layer is formed on the inner wall surface of the electrical member. , disposing a light-shielding means for blocking the illumination light on the illumination side while allowing relative movement between the electric member and the through-hole to be detected by the light-shielding means; In response to the light shielding state, a through-hole position indication signal and a defect indication signal are respectively generated from a detection system disposed on the opposite side to the illumination side, and in response to these two signals, a defect in the through-hole to be detected is detected. It is configured to detect the presence or absence of.

第2の発明は、透光性基板に、導電層を内壁面
一面に形成しているスルーホールを形成し、且つ
前記透光性基板を含む面内で所定の方向へ移動を
生ぜしめられる電気部材の該導電層の欠陥を検出
するスルーホール検査装置であつて、前記電気部
材を照明する光源と、前記電気部材の前記移動を
許容させつつ、前記光源からの光が前記検査対象
スルーホールに直接入るのを遮ぎるマスク手段
と、該マスク手段が検査対象スルーホールへの前
記光源からの光の遮光を生じさせない状態におい
て検査対象スルーホールの位置表示信号を出力す
るスルーホール位置検出手段と、前記マスク手段
が検査対象スルーホール内への前記光源からの光
の遮光を生じさせる状態において前記電気部材の
透光性基板内へ注入された前記光源からの光のス
ルーホール内の存在を検出し、スルーホール欠陥
表示信号を出力する欠陥検出手段と、前記スルー
ホール位置検出手段からの位置表示信号と、前記
欠陥検出手段からの欠陥表示信号とから欠陥導電
層の存在を判断する手段とを有して構成される。
A second aspect of the present invention is to form a through hole in which a conductive layer is formed on the entire inner wall surface of a transparent substrate, and to generate electricity that moves in a predetermined direction within a plane including the transparent substrate. A through-hole inspection device for detecting defects in the conductive layer of a member, comprising: a light source illuminating the electrical member; and light from the light source entering the through-hole to be inspected while allowing the movement of the electrical member. a through-hole position detection means that outputs a position indication signal of the through-hole to be inspected in a state where the masking means does not block the light from the light source from entering the through-hole to be inspected; Detecting the presence of light from the light source injected into the transparent substrate of the electrical member in the through hole in a state where the mask means blocks the light from the light source into the through hole to be inspected. , comprising a defect detection means for outputting a through-hole defect indication signal, and means for determining the presence of a defective conductive layer from the position indication signal from the through-hole position detection means and the defect indication signal from the defect detection means. It is composed of

〔作用〕[Effect]

スルーホール検査において、電気部材はその一
側から光源によつて照明され、その電気部材の検
査対象スルーホールは、遮光可能な手段によつて
前記光源からの光が遮光されていない状態におい
て該検査対象スルーホールのスルーホール位置表
示信号が、前記検査対象スルーホールを通過した
前記光源からの光を検知する検出系(乃至スルー
ホール位置検出系)から出力される。
In through-hole inspection, an electrical component is illuminated by a light source from one side, and the through-hole to be inspected in the electrical component is inspected in a state where the light from the light source is not blocked by a means capable of blocking light. A through-hole position display signal of the target through-hole is output from a detection system (or through-hole position detection system) that detects light from the light source that has passed through the target through-hole.

又、当該検査対象スルーホールが遮光可能な手
段によつて前記光源からの光を遮つている状態に
おいて透光性基板へ注入された前記光源からの光
は、前記検査対象スルーホールに欠陥部があれ
ば、これを通過して前記検査対象スルーホール内
へ入り、その光が検出系(乃至欠陥検出手段)に
よつて検知されて欠陥表示信号が出力される。
Furthermore, in a state where the through-hole to be inspected is blocking light from the light source by a light-shielding means, the light from the light source injected into the transparent substrate is transmitted when there is a defective part in the through-hole to be inspected. If there is, the light passes through this and enters the through hole to be inspected, and the light is detected by a detection system (or defect detection means) and a defect display signal is output.

この欠陥表示信号と前記スルーホール位置表示
信号とから判断手段において前記検査対象スルー
ホールに欠陥があることを認識する。
Based on this defect display signal and the through-hole position display signal, the determining means recognizes that there is a defect in the through-hole to be inspected.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明の第1の発明の実施例を示す。
この図において、1は透光性基板2に、導電層3
を内壁面に形成しているスルーホール4を形成し
た電気部材(以下、単にプリント板と称する。)
を示す。5は遮光手段(以下、単にマスクと称す
る。)で、これはプリント板1の照明側(6はそ
の斜め照明光を表わす。)においてプリント板1
から予め決められた距離、例えば0.1mm程度の距
離だけ離隔して位置されるものである。7は光学
系を構成するレンズであり、8は光検知器であ
る。
FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
In this figure, 1 has a conductive layer 3 on a transparent substrate 2.
An electrical member (hereinafter simply referred to as a printed board) in which a through hole 4 is formed on the inner wall surface.
shows. Reference numeral 5 denotes a light shielding means (hereinafter simply referred to as a mask), which shields the printed board 1 on the illumination side of the printed board 1 (6 represents the oblique illumination light).
It is located at a predetermined distance, for example, about 0.1 mm, from the center. 7 is a lens constituting the optical system, and 8 is a photodetector.

この構成によれば、斜め照明光6を、マスク5
で遮光されているスルーホール4を含む領域へ照
明し、もし導電層3に欠陥が生じていれば、透光
性基板2内へ注入され伝播して来た光はその欠陥
9からスルーホール4内へ漏れる。その光をレン
ズ7を経て光検知器8により検知することにより
当該スルーホール4の導電層3に欠陥が生じてい
ることを知ることが出来る。
According to this configuration, the oblique illumination light 6 is transmitted through the mask 5.
If there is a defect in the conductive layer 3, the light that has been injected into the transparent substrate 2 and propagated will be transmitted from the defect 9 to the through hole 4. Leak inside. By detecting the light through the lens 7 with the photodetector 8, it can be determined that a defect has occurred in the conductive layer 3 of the through hole 4.

この検査法によれば、その検査後、可及的速や
かにマスク5等とプリント板1との間に相対的な
移動を可能にする手段が提供されることになるか
ら、検査の高速化を大いに進展させ得る。又、斜
め照明は検査に有利性を導入するものであり、好
ましい。6′も照明光6に対称な斜め照明光で、
この照明光の併用でむらのない照明をなすことが
出来る。
According to this inspection method, a means is provided that allows relative movement between the mask 5, etc. and the printed board 1 as soon as possible after the inspection, so the inspection can be speeded up. It can make a lot of progress. Also, oblique illumination introduces advantages in inspection and is therefore preferred. 6' is also an oblique illumination light symmetrical to illumination light 6,
By using this illumination light in combination, even illumination can be achieved.

なお、第1図において、欠陥9からスルーホー
ル4内へ漏れる光をレンズ7を経て光検知器8に
より検知する図が示されるが、第2図乃至第6図
においても述べているように、スルーホール4P
及びスルーホール4Aの2つのスルーホール位置
からの光は、1つのレンズ12でハーフミラー1
3を介し、それぞれ光検知器14,15に集光結
像される。
Note that although FIG. 1 shows a diagram in which light leaking from a defect 9 into the through hole 4 is detected by the photodetector 8 via the lens 7, as also described in FIGS. 2 to 6, Through hole 4P
The light from the two through-hole positions of the through-hole 4A is transmitted through the half mirror 1 with one lens 12.
3, the light is focused and imaged onto photodetectors 14 and 15, respectively.

第2図は本発明の第2の発明のうち第1の実施
例である。この図において、1,5,6は第1図
で説明したと同じである。10はコントローラ1
1によつて駆動制御されるステージである。1
2,13は夫々、光学系を構成するレンズ、ハー
フミラーである。14,15は光検知器であり、
14はプリント板1のステージによる移動方向に
おいて先行するスルーホール(マスク外のスルー
ホール)からの直接光を検知するためのもので、
又、15はマスク5が位置付けられているスルー
ホールからの光を検知するためのものである。
FIG. 2 shows a first embodiment of the second aspect of the present invention. In this figure, 1, 5, and 6 are the same as explained in FIG. 10 is controller 1
This stage is driven and controlled by 1. 1
Reference numerals 2 and 13 are lenses and half mirrors that constitute the optical system, respectively. 14 and 15 are photodetectors;
14 is for detecting direct light from a preceding through hole (through hole outside the mask) in the direction of movement of the printed board 1 by the stage;
Further, 15 is for detecting light from the through hole in which the mask 5 is positioned.

これらの光検知器14,15は、いずれもよく
知られている形式のラインCCDから構成され、
このラインCCDは、プリント板1の移動方向に
対し直角に配置され、例えば8つのアナログ画素
信号を発生するように構成されて成るものであ
る。光検知器14,15は、プリント板1が所定
単位距離進む毎に8つのアナログ画素信号を発生
させて来る。光検知器14,15の前記8つの画
素信号発生セル数は、後述シフトレジスタ18,
19の各段のシフト位置数8に対応する。
These photodetectors 14 and 15 are both composed of well-known line CCDs,
This line CCD is arranged perpendicularly to the direction of movement of the printed board 1 and is configured to generate, for example, eight analog pixel signals. The photodetectors 14 and 15 generate eight analog pixel signals every time the printed board 1 moves a predetermined unit distance. The number of the eight pixel signal generation cells of the photodetectors 14 and 15 is determined by the shift register 18, which will be described later.
This corresponds to 8 shift positions for each stage of 19 stages.

これらの光検知器は夫々、対応する二値化回路
16,17を経てシフトレジスタ18,19へ接
続されている。シフトレジスタ18,19は光検
知器14,15が検知する位置差分に相当する領
域を収容しうる容量を有して構成されている。
These photodetectors are connected to shift registers 18 and 19 via corresponding binarization circuits 16 and 17, respectively. The shift registers 18 and 19 are configured to have a capacity capable of accommodating an area corresponding to the positional difference detected by the photodetectors 14 and 15.

第2図の18,19はシフトレジスタである。
シフトレジスタ18では左上の信号入力へ入力さ
れた二値画像信号は、クロツクパルス毎に順次右
へシフトされ、シフトレジスタ18の最上段最右
端からシフトアウトされる信号は、次段へシフト
インされる。他の段においても同様にして二値画
像信号は、順次にシフトされる。このとき画像は
順次右へ移動されるように見える。
18 and 19 in FIG. 2 are shift registers.
In the shift register 18, the binary image signal input to the upper left signal input is sequentially shifted to the right for each clock pulse, and the signal shifted out from the rightmost end of the top stage of the shift register 18 is shifted in to the next stage. . In the other stages, the binary image signals are sequentially shifted in the same way. At this time, the images appear to be sequentially moved to the right.

このシフトレジスタ18の関係は、シフトレジ
スタ19にも同様に当て嵌まる。但し、シフトレ
ジスタ18と、シフトレジスタ19とは、その大
きさが異なる。即ち、第2図のシフトレジスタ1
8は、5段を有するのに対し、シフトレジスタ1
9は、3段を有する。この段数の差異は次のよう
にして設定される。第2図において、プリント板
が、一定速度で移動せしめられるとき、当該検査
対象スルーホールについてのスルーホール検出位
置4Pから当該検査対象スルーホールについての
欠陥位置検出4Aまで移動する時間は、装置の構
成上から予め知ることができるので、この時間分
だけシフトレジスタ18を通過するシフト位置を
増やして置くためである。これにより、スルーホ
ール検出位置4Pで撮像したスルーホール検出画
像と、欠陥位置検出4Aで撮像したスルーホール
欠陥検出画像とが、それぞれシフトレジスタ1
8、及びシフトレジスタ19内でその位置を保ち
つつ、順次右へ移動させることができる。
This relationship for shift register 18 also applies to shift register 19 as well. However, the shift register 18 and the shift register 19 are different in size. That is, shift register 1 in FIG.
8 has five stages, whereas shift register 1
9 has three stages. This difference in the number of stages is set as follows. In FIG. 2, when the printed board is moved at a constant speed, the time it takes to move from the through hole detection position 4P for the through hole to be inspected to the defect position detection position 4A for the through hole to be inspected is determined by the configuration of the device. Since this can be known in advance from above, the shift positions passing through the shift register 18 are increased by this amount of time. As a result, the through-hole detection image taken at the through-hole detection position 4P and the through-hole defect detection image taken at the defect position detection 4A are respectively transferred to the shift register 1.
8, and can be sequentially moved to the right while maintaining its position in the shift register 19.

そして、これらシフトレジスタ18,19内の
プリント板1に関する位置的対応部分出力A,
B,CのうちのA,Bがアンドゲート20に、又
Cがアンドゲート21に接続され、これらアンド
ゲート20,21の出力がアンドゲート22を経
てコントローラ11へ接続されている。
Positionally corresponding partial outputs A, regarding the printed board 1 in these shift registers 18 and 19,
Of B and C, A and B are connected to an AND gate 20, and C is connected to an AND gate 21, and the outputs of these AND gates 20 and 21 are connected to the controller 11 via an AND gate 22.

シフトレジスタ18のA,Bは、二値画像信号
取り出しシフト位置で、これらの取り出しシフト
位置は、シフトレジスタ18内の二値画像信号が
左から右へ移動する領域内の任意の位置でよい。
その取り出しシフト位置Aはスルーホールの孔に
対応しており、スルーホール位置表示信号がある
とき、2進信号“1”となる一方、取り出しシフ
ト位置Bはスルホールの周辺部に対応しており、
スルーホール位置表示信号が2進信号“1”のと
き、周辺信号Bは2進信号“0”となる。シフト
レジスタ19のCは、二値画像信号形式の欠陥表
示信号の取り出しシフト位置で、この欠陥表示信
号取り出しシフト位置Cは、シフトレジスタ18
の取り出しシフト位置Aとシフト動作上において
対応して設定される。その欠陥表示信号取り出し
シフト位置Cは、スルーホール内の対応位置に欠
陥があるとき、欠陥検出信号Cは2進信号“1”
となり、欠陥がないとき、欠陥検出信号Cは2進
信号“0”となる。従つて、検査対象スルーホー
ル内に欠陥があると、当該検査対象スルーホール
についてのスルーホール位置検出信号は2進信号
“1”、周辺部周辺信号Bは2進信号“0”、そし
て欠陥検出信号Cは2進信号“1”となるから、
アンドゲート22のアンド出力は、2進信号
“1”となり、当該検査対象スルーホールに欠陥
があることが判る。
A and B of the shift register 18 are binary image signal take-out shift positions, and these take-out shift positions may be arbitrary positions within the area where the binary image signal in the shift register 18 moves from left to right.
The take-out shift position A corresponds to the hole of the through-hole, and when there is a through-hole position display signal, the binary signal becomes "1", while the take-out shift position B corresponds to the periphery of the through hole.
When the through-hole position display signal is a binary signal "1", the peripheral signal B becomes a binary signal "0". C of the shift register 19 is a shift position for taking out a defect display signal in the binary image signal format;
It is set to correspond to the take-out shift position A in the shift operation. The defect display signal extraction shift position C is such that when there is a defect at the corresponding position in the through hole, the defect detection signal C is a binary signal "1".
Therefore, when there is no defect, the defect detection signal C becomes a binary signal "0". Therefore, if there is a defect in the through-hole to be inspected, the through-hole position detection signal for the through-hole to be inspected is a binary signal "1", the peripheral peripheral signal B is a binary signal "0", and the defect detection signal is Since signal C becomes a binary signal “1”,
The AND output of the AND gate 22 becomes a binary signal "1", indicating that there is a defect in the through hole to be inspected.

この第1の実施例の動作を説明すると、プリン
ト板1の下側に斜め照明光6を照射しつつ、ステ
ージ10をコントローラ11の制御の下に、予め
決められた方向、例えば図に関して右横方向に移
動される。その際、例えばスルーホール4Pの位
置がそこからの直接光をレンズ12、ハーフミラ
ー13、光検知器14から成る検出系によつて検
知されてアナログのスルーホール位置表示信号が
得られ、その信号が二値化回路16で二値化され
上述移動と同期してシフトレジスタ18へ送り込
まれていく。
To explain the operation of this first embodiment, while illuminating the lower side of the printed board 1 with oblique illumination light 6, the stage 10 is moved in a predetermined direction under the control of the controller 11, e.g. direction. At that time, for example, the position of the through hole 4P is detected by a detection system consisting of a lens 12, a half mirror 13, and a photodetector 14, and the direct light from there is detected, and an analog through hole position indicating signal is obtained. is binarized by the binarization circuit 16 and sent to the shift register 18 in synchronization with the above-mentioned movement.

そして、ステージ10の移動が進んで上述スル
ーホール4Aがレンズ12と光検知器15から成
る検出系によつて検出されるようになると、その
スルーホール4Aの導電層に生じることがある欠
陥の有無を表わす欠陥表示信号が発生される。こ
の信号は二値化回路17で二値化され、上述移動
と同期してシフトレジスタ19へ送り込まれてい
く。
When the movement of the stage 10 progresses and the above-mentioned through hole 4A comes to be detected by the detection system consisting of the lens 12 and the photodetector 15, the presence or absence of defects that may occur in the conductive layer of the through hole 4A is detected. A defect indication signal is generated representing the defect. This signal is binarized by the binarization circuit 17 and sent to the shift register 19 in synchronization with the above-mentioned movement.

このシフトレジスタ19へ送り込まれた欠陥表
示信号はその送り込み完了時又は予め決められた
時間経過後にシフトレジスタ19の予め決められ
た出力に現われるが、その時刻に、それに先立つ
てシフトレジスタ18へ送り込まれたスルーホー
ル位置表示信号も又シフトレジスタ18の予め決
められた出力に現われる。即ち、プリント板を一
定速度で移動させたときに、光検知器14、二値
化回路16を経て得られる検査対象スルーホール
に対するスルーホール位置表示信号と、光検知器
15、二値化回路17を経て得られる検査対象ス
ルーホールに対する欠陥検出信号とは、前述のよ
うな時間差をもつて出力されて来る。これらの両
信号が、前述のようにして構成されているシフト
レジスタ18、及びシフトレジスタ19へ入力さ
れたとき、これら両シフトレジスタ18,19か
ら検査対象スルーホールについてのスルーホール
表示位置信号と、欠陥表示信号とを同時に取り出
すことができる。これら出力関係は第2図に図式
的に示されている(第2図のA,B,C参照)。
The defect display signal sent to the shift register 19 appears at a predetermined output of the shift register 19 when the sending is completed or after a predetermined time has elapsed, but at that time, it is sent to the shift register 18 in advance. A through hole position indication signal also appears at a predetermined output of shift register 18. That is, when the printed board is moved at a constant speed, a through-hole position display signal for the through-hole to be inspected is obtained via the photodetector 14 and the binarization circuit 16, and the photodetector 15 and the binarization circuit 17. The defect detection signal for the through-hole to be inspected obtained through this process is output with a time difference as described above. When both of these signals are input to the shift register 18 and shift register 19 configured as described above, a through hole display position signal for the through hole to be inspected is output from these shift registers 18 and 19, It is possible to take out the defect indication signal at the same time. These output relationships are shown diagrammatically in FIG. 2 (see A, B, and C in FIG. 2).

これらの出力A,B,Cのうち、A,Bはアン
ドゲート20へスルーホール位置表示信号を供給
する一方、Cが欠陥表示信号をアンドゲート21
へ供給するから、アンドゲート22からそのスル
ーホールの導電層に欠陥があつたか否かの欠陥検
出信号が発生され、この信号は次の処理制御のた
めコントローラ11へ供給される。
Among these outputs A, B, and C, A and B supply a through hole position indication signal to the AND gate 20, while C supplies a defect indication signal to the AND gate 21.
A defect detection signal indicating whether or not there is a defect in the conductive layer of the through hole is generated from the AND gate 22, and this signal is supplied to the controller 11 for controlling the next process.

このような欠陥検査はマスク5に対し何んらの
操作をとる必要性なく、後続するスルーホールに
対し連続的に遂行しうる。かくの如く、上述第1
の発明はこの実施例の中でその一態様として活か
されている。
Such defect inspection can be performed continuously on subsequent through-holes without the need to perform any operations on the mask 5. As above, the first
This invention is utilized as one aspect in this embodiment.

又、この実施例においては、マスクの位置合わ
せは自動的になされ、上述連続的検査の高速化を
助長している。
Further, in this embodiment, mask alignment is automatically performed, helping to speed up the above-mentioned continuous inspection.

第3図は本発明の第2の発明の第2の実施例
(又、第1の発明の実施例ともなる。)で、この実
施例はマスク5のプリント板1からの離隔(第3
図の3−1参照)時にスルーホール位置表示信号
を得、マスク5のプリント板1への近接(第3図
の3−2参照)時に欠陥表示信号を得るようにし
たものである。即ち、マスク5による遮光を解除
された照明光6はスルーホール4を通つてレンズ
23で集光され、TVカメラ24にて受光されれ
て電気信号に変換される。その信号は二値化回路
25で二値化され、パターンメモリ26にスルー
ホール位置表示信号として格納される。然る後
に、マスク5はプリント板1へ近接されてスルー
ホール4内へ至る光としては、直接光はなくな
り、スルーホール4の導電層に生じることがある
欠陥からの光のみとなる。従つて、この光がある
ときのみ、レンズ23、TVカメラ24、二値化
回路25を経てアンドゲート27の一方の入力へ
欠陥表示信号が供給されると共に、パターンメモ
リ26から読出されたスルーホール位置表示信号
がアンドゲート27の他方の入力へ供給される。
このようにして、欠陥検出信号はアンドゲート2
7から出力される。
FIG. 3 shows a second embodiment of the second invention of the present invention (also an embodiment of the first invention), and this embodiment shows the separation of the mask 5 from the printed board 1 (the third embodiment).
A through hole position indicating signal is obtained when the mask 5 approaches the printed board 1 (see 3-2 in FIG. 3), and a defect indicating signal is obtained when the mask 5 approaches the printed board 1 (see 3-2 in FIG. 3). That is, the illumination light 6 that has been unblocked by the mask 5 passes through the through hole 4, is focused by the lens 23, is received by the TV camera 24, and is converted into an electrical signal. The signal is binarized by the binarization circuit 25 and stored in the pattern memory 26 as a through-hole position display signal. After that, the mask 5 is brought close to the printed board 1, and the light that reaches the through holes 4 is no longer direct, but only light from defects that may occur in the conductive layer of the through holes 4. Therefore, only when this light is present, a defect display signal is supplied to one input of the AND gate 27 via the lens 23, the TV camera 24, and the binarization circuit 25, and the through hole read from the pattern memory 26 is supplied. A position indication signal is provided to the other input of AND gate 27.
In this way, the defect detection signal is
Output from 7.

以上説明のところから明らかなように、その効
果も第1の実施例のそれに匹敵しうるものであ
る。
As is clear from the above description, the effect can be comparable to that of the first embodiment.

第4図は本発明の第2の発明の第3の実施例
(又、第1の発明の実施例ともなる。)で、この実
施例はマスク5に液晶28を用いてその移動の必
要性を排除していることを除いて、第2の実施例
と変わるところはない。その構成要素にも第3図
実施例の参照番号を流用してその説明を省略す
る。
FIG. 4 shows a third embodiment of the second invention of the present invention (also an embodiment of the first invention). There is no difference from the second embodiment except that . The reference numerals of the embodiment in FIG. 3 are also used for its constituent elements, and their explanations are omitted.

又、その効果も検査の高速性が高められること
を除いて第2実施例と同等である。
Further, the effect is the same as that of the second embodiment except that the speed of inspection is improved.

第5図はマスク5を円筒回転マスク29に変え
た点において相違する第4の実施例要部(第1の
発明の実施例要部ともなる。)を示し、第6図は
マスク5を円板回転マスク30に変えた点におい
て相違する第5の実施例要部(第1の発明の実施
例要部ともなる。)を示す。その作用効果も基本
的には変わるところはない。
FIG. 5 shows the main part of a fourth embodiment (also the main part of the embodiment of the first invention) which is different in that the mask 5 is replaced with a cylindrical rotating mask 29, and FIG. The main part of a fifth embodiment (also the main part of the embodiment of the first invention) is shown, which is different in that a rotating plate mask 30 is used. There is basically no change in its action and effect.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上述べたところから明らかなように、本発明
によれば、 検査に高速性が付与され、 欠陥検出とその欠陥位置との固定が自動的に
なされ得、欠陥検査の高速化を推進し得て その検査の連続的施行を実現し得る等の効果
が得られる。
As is clear from the above description, according to the present invention, high-speed inspection can be performed, defect detection and fixing of the defect position can be automatically performed, and the speed of defect inspection can be promoted. Effects such as continuous implementation of the test can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1の発明実施例を示す図、
第2図、第3図、第4図、第5図及び第6図は
夫々、本発明の第2の発明の、第1の実施例、第
2の実施例、第3の実施例、第4の実施例要部、
及び第5の実施例要部を示す図である。 第1図乃至第6図において、1はプリント板、
2は透光性基板、3は導電層、4はスルーホー
ル、5,28,29,30はマスク、10はステ
ージ、11はコントローラ、7,12,23はレ
ンズ、8,14,15は光検知器、16,17,
25は二値化回路、18,19はシフトレジス
タ、20,21,22,27はアンドゲートであ
る。
FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention;
2, 3, 4, 5, and 6 respectively show the first embodiment, second embodiment, third embodiment, and third embodiment of the second invention of the present invention. Main part of the example of 4,
and FIG. 7 is a diagram showing the main parts of the fifth embodiment. In FIGS. 1 to 6, 1 is a printed board;
2 is a transparent substrate, 3 is a conductive layer, 4 is a through hole, 5, 28, 29, 30 is a mask, 10 is a stage, 11 is a controller, 7, 12, 23 is a lens, 8, 14, 15 is a light Detector, 16, 17,
25 is a binarization circuit, 18 and 19 are shift registers, and 20, 21, 22, and 27 are AND gates.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 透光性基板に、導電層を内壁面に形成してい
るスルーホールを形成した電気部材の該導電層の
欠陥を検出するに際して、 前記電気部材をその一側から照明し、 前記電気部材との間の相対的移動を許容させつ
つ、前記照明光を遮光する遮光可能な手段を前記
照明側に配置させ、 前記遮光可能な手段による検出対象スルーホー
ルの非遮光状態と、遮光状態とに対応して、それ
ぞれスルーホール位置表示信号及び欠陥表示信号
を前記照明側とは反対側に配置された検出系から
発生させ、 これら両信号に応答して前記検出対象スルーホ
ールの欠陥の有無を検出することを特徴とするス
ルーホール検出法。 2 前記検出系は、前記電気部材の少なくとも検
出対象スルーホールの位置において、前記電気部
材と前記遮光可能な手段との相対的なほぼ平行な
移動に応答して前記スルーホール位置表示信号及
び欠陥表示信号を発生することを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載のスルーホール検査法。 3 前記検出系は前記電気部材と前記遮光可能な
手段との離隔と接近に応答して前記スルーホール
位置表示信号及び欠陥表示信号を発生することを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のスルーホ
ール検査法。 4 前記遮光可能な手段は液晶手段であることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のスルーホ
ール検査法。 5 透光性基板に、導電層を内壁面一面に形成し
ているスルーホールを形成し、且つ前記透光性基
板を含む面内で所定の方向へ移動を生ぜしめられ
る電気部材の該導電層の欠陥を検出するスルーホ
ール検査装置であつて、 前記電気部材を照明する光源と、 前記電気部材の前記移動を許容させつつ、前記
光源からの光が前記検査対象スルーホールに直接
入るのを遮ぎるマスク手段と、 該マスク手段が検査対象スルーホールへの前記
光源からの光を遮光を生じさせない状態において
検査対象スルーホールの位置表示信号を出力する
スルーホール位置検出手段と、 前記マスク手段が検査対象スルーホール内への
前記光源からの光の遮光を生じさせる状態におい
て前記電気部材の透光性基板内へ注入された前記
光源からの光のスルーホール内の存在を検出し、
スルーホール欠陥表示信号を出力する欠陥検出手
段と、 前記スルーホール位置検出手段からの位置表示
信号と、前記欠陥検出手段からの欠陥表示信号と
から欠陥導電層の存在を判断する手段とを有する
ことを特徴とするスルーホール検査装置。
[Scope of Claims] 1. When detecting a defect in a conductive layer of an electrical member in which a through-hole is formed in a light-transmitting substrate and a conductive layer is formed on the inner wall surface, the electrical member is illuminated from one side thereof. and disposing a light-shielding means for blocking the illumination light on the illumination side while allowing relative movement between the electrical member and the through-hole to be detected by the light-shielding means. , a through-hole position indication signal and a defect indication signal are generated from a detection system disposed on the opposite side to the illumination side, respectively, in response to the light-shielded state, and in response to these two signals, the detection of the through-hole to be detected is performed. A through-hole detection method characterized by detecting the presence or absence of defects. 2. The detection system generates the through-hole position indication signal and the defect indication in response to a relative substantially parallel movement between the electric member and the light-shielding means at least at the position of the detection target through-hole in the electric member. A through-hole inspection method according to claim 1, characterized in that a signal is generated. 3. The detection system according to claim 1, wherein the detection system generates the through-hole position indication signal and the defect indication signal in response to separation and proximity of the electric member and the light-shielding means. Through-hole inspection method. 4. The through-hole inspection method according to claim 1, wherein the means capable of blocking light is a liquid crystal means. 5. A through hole in which a conductive layer is formed on the entire inner wall surface is formed in a light-transmitting substrate, and the conductive layer of an electric member is capable of causing movement in a predetermined direction within a plane that includes the light-transmitting substrate. A through-hole inspection device for detecting defects in a through-hole, comprising: a light source that illuminates the electrical member; and a light source that blocks light from the light source from directly entering the through-hole to be inspected while allowing the movement of the electrical member. through-hole position detection means for outputting a position display signal of the through-hole to be inspected in a state in which the masking means does not block light from the light source to the through-hole to be inspected; detecting the presence of light from the light source injected into the transparent substrate of the electrical member in the through hole in a state that causes the light from the light source to be blocked from entering the target through hole;
Defect detection means for outputting a through-hole defect indication signal; and means for determining the presence of a defective conductive layer from the position indication signal from the through-hole position detection means and the defect indication signal from the defect detection means. A through-hole inspection device featuring:
JP22867282A 1982-11-30 1982-12-28 Method of inspecting through hole Granted JPS59125693A (en)

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JP22867282A JPS59125693A (en) 1982-12-28 1982-12-28 Method of inspecting through hole
US06/554,543 US4560273A (en) 1982-11-30 1983-11-23 Method and apparatus for inspecting plated through holes in printed circuit boards
DE8383307291T DE3377527D1 (en) 1982-11-30 1983-11-30 Method and apparatus for inspecting plated through holes in printed circuit boards
EP83307291A EP0111404B1 (en) 1982-11-30 1983-11-30 Method and apparatus for inspecting plated through holes in printed circuit boards

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JPS62299747A (en) * 1986-06-19 1987-12-26 Fujitsu Ltd Inspecting instrument for through-hole
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