JPH0485395A - 原料粉体の安定供給方法及びその装置と制御システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、粉体を高圧系の反応炉に安定に供給する装置
に係り、特に、粉体供給量を正確に制御できる原料供給
量制御装置に関する。

本発明中で反応炉には、ガス化炉、燃焼炉及びボイラ等
が含まれる。

〔従来の技術〕

石油代替エネルギーの中で石炭は埋蔵量が一番豊富であ
り、世界でも注目されている。

石炭は、固体で取り扱いが不便な上、灰分、硫黄及び窒
素等が含有しており、これを有効利用するために液化、
ガス化等によりクリーンなエネルギー源に変換し、利用
することが望まれる。

現在、石炭のクリーン燃焼化の有力な方法として、石炭
ガス化が注目されている。ガス化炉としては高いガス化
効率、運転性及び幅広い炭種に対する適応性等が要求さ
れている。これらを満足するために、微粉炭を気流中で
ガス化剤（酸素、水蒸気）と反応させる噴流層ガス化方
式が有望である。

その噴流層ガス化炉を用いたガス化装置の概略図を、第
３図（特願昭５８−２１８５３８号）に示す。

本装置は、石炭供給系、ガス化炉、集じん系及び脱硫系
から構成している。石炭供給系は、粉末固体燃料（石炭
、液化残差等）３を原料搬送ラインｌから常圧ホッパ２
に搬送した後、加圧ホッパ４へ充填し、その後外壁に重
量測定用のロードセル８を設置した供給ホッパ９へ供給
する。粉末固体燃料３は、フィーダ１ｏで定量排出し、
混入器（以下エジェクタと称す）１２内へ供給した後、
搬送ガス（窒素、不活性ガス等）２６を搬送用ガス調節
弁１１から供給し、原料輸送ライン１７内を流通させ、
ガス化炉２５へ供給する。途中、複数本の原料バーナ２
１へ均等分配できる分配器１８を介して、分岐管１９ａ
、ｂ、ｃ、ｄ内に流通して原料バーナ２１に至り、ガス
化炉反応領域８３８内へ供給する。

ガス北側供給系は酸素調節弁３４、水蒸気調節弁３３を
有し、それぞれの供給ライン３５゜３６から各原料バー
ナ２１を介して、ガス化炉反応領域部３８内へ供給して
いる。粉末固体燃料３とガス化剤２０は、原料バーナ２
１内部もしくは先端部出口で接触する。

ガス化炉２５は耐火レンガ３７で内張すした構造であり
、ガス化炉反応領域部３８内で粉末固体燃料３とガス化
剤２０と、を接触、反応させて、Ｃｏ、　Ｈ２に富んだ
ガスを生成する。

ガス化炉２５内は高温のだ必粉末固体燃料３中の灰分が
溶融してスラグ等が生成するため、ガス化炉下部にそれ
を回収するスラグ流通ライン４０、スラグホッパ４１等
を有している。ガス化炉底部及びスラグホッパ４１内に
はスラグ等を急冷、固化させるための冷却水４２を充填
している。

ガス化炉２５から生成したガスは、ガス化炉出口ライン
４３を介して集じん装置４４　（サイクロン、バグフィ
ルタ等）に供給され、未燃カーボンを含有したチャー、
ダスト等を除去した後、生成ガスは脱硫装置４５を経て
硫化水素を除去した後、クリーンなガスとして生成ガス
回収部へ供給される。

これらのガス化装置には、前述したように必ず原料を供
給する装置が設置されており、高圧化で反応を行なう燃
焼炉及びガス化炉では、常圧から高圧に向かって粉末固
体燃料３を安定に供給する技術及び供給量の安定制御が
必要不可欠である。

従来、低圧下から高圧下への粉体の供給方法には、前述
したようにロックホッパ方式を採用した例が多い。

代表的な例を第４図（特開昭５８−１６４６９２号公報
）に示す。図のように、常圧ホッパ２、中間加圧ホッパ
４、供給加圧ホッパ９と各部を連結する粒子いつ流管４
９、延びちじみ可能な収縮管１４、フィーダ１０及びホ
ッパ加圧用ガス導入系の電磁弁２９．７及び重量測定用
のロードセル８、レベル検知器４６から成り、常圧ホッ
パ２、中間加圧ホッパ４、供給加圧ホッパ９の順に接続
されている。粉砕した粒子はまず、常圧ホッパ２に入り
ホッパ２の下に設置したバルブ３２により、常圧にして
いる中間加圧ホッパ４内に充填する。粒子で充満された
中間加圧ホッパ４は上、下に設置したバルブ３２．バル
ブ３１を閉じ、電磁弁２９から窒素または不活性ガスを
導入して加圧する。一方、供給加圧ホッパ９は通常、原
料粒子３を処理するガス化炉の圧力よりやや高圧下で常
時運転し、圧力差によりガス化炉に粒子を気流輸送して
いる。供給加圧ホッパ９のレベルが所定値以下になった
ら中間加圧ホッパ４下の粉体排出バルブ３１を開にし、
供給加圧ホッパ９への輸送を開始する。常時、供給加圧
ホッパ９内には粉体をためておく。中間加圧ホッパ４が
空になったら、ガス抜き出し弁４７を開にし、４内の圧
力を常圧にした後、弁３２を開放して常圧ホッパ２から
粒子を供給する。これがロックホッパ方式の乾式固体供
給方法である。

この技術において、原料供給量の負荷変化時及び何等か
の原因によるガス化炉圧力の変動時においても、原料を
安定に供給すること、原料供給量を一定に制御すること
は至難であった。

また、安定に原料をガス化炉側に供給できないと、ガス
化炉負荷変化をもたらし、ガス化炉安定運転に悪影響を
与える原因にもなる。

よって、これらの課題を回避し、安定に供給でき、かつ
原料供給量制御を効果的にできれば、ガス化炉安定運転
かつ運転操作性の向上を図る上で不可欠になる。

従来、これらを安定に搬送する手段として、下記に上げ
る方法が代表的である。

（１）　　ロックホッパ内の圧力をガス化炉内の圧力よ
りも高くして、ガス化炉内へ原料を供給し、原料供給管
内の圧力損失を測定し、この測定値に従って加圧用イナ
ートガス量を制御する方法（特開昭５８−１６４６９２
号公報）。

（２）　　ロックホッパ内の圧力とガス化炉内の圧力の
差圧制御を行い、ロードセルの重量変化を元にイナート
ガス流量を制御する方法（文献、燃料協会跡、第６８巻
、第１０号、高炉への微粉炭吹き込み）。

（３）　　加圧タンクにロードセルを設置し、この重量
変化から実供給量を求め、加圧タンク下部に設けたフィ
ーダへ排出量と回転数の関係から設定された関数に基づ
いて与えられる回転数信号の積算値と比較、補正する供
給量制御とホッパの圧力と供給量との関係から補正され
る供給量制御の両方で行なう方法（特開昭６１−２３１
３２３号公報）等がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

ロックホッパ方式によるガス化炉へ安定に供給する方法
として、前記の（１）の方式では、原料供給管の圧力損
失レベルから原料供給量を検知し、その値によってロッ
クホッパ圧力をガス化炉圧力に対して調節する方法であ
り、供給管の圧力損失レベルは、原料が流通しているか
否かの判断には最適である。

しかし、何等かの原因でガス化炉内において圧力変動が
発生したり、原料が変わったり、原料の粒径及び比重が
変化した場合には、供給管内の圧力損失レベルが変化す
るため正確な原料供給量の把握が困難である。また、圧
力制御によって原料供給量を変化させるが、この時ホッ
パ圧力を増減させる操作をし供給量を調節するが、０．
０５　ａｔｇ変化した場合でも多大に流量が変化するた
め、粗調整には良いが微細な調節が困難である。

（２）の方式では、ホッパに設置したロードセルの重量
変化から原料供給量を把握し、この値を基にホッパと高
炉との圧力差を自動制御する方法であり、上記同様の困
難さがある。

また、炉側との圧力差制御では、原料投入時においては
よいが、定常時で原料供給管内において何等かの原因で
分配器及びバーナ先端で閉塞した場合、フィーダ出口の
抵抗が増し、排出量が低下する。その時の原料供給管内
における判断手段が配管差圧しかないため、もとの供給
量に復帰させる対応が遅くなる欠点がある。

（３）の方式では、供給加圧ホッパの圧力検出端の検出
圧力を、原料の供給量の関数として定められた値に制御
するようにしているが、炉（キルン及びボイラ等）側の
圧力が何等かの原因で変動した場合には、それに対する
手段がないため、タンク側のみ圧力を一定制御しても、
出口側抵抗が供給量制御に大きく影響するため原料供給
量が変動する。

したがって、この方式では、出口側の圧力変動に対処す
る機構を考慮していないため、その現象に対する応答性
及び供給量が安定に搬送できない欠点がある。

そこで、本発明では、上記の従来技術の欠点を解消し、
粉体供給量を正確に制御し、反応炉に安定に供給できる
方法及び装置を提供し、あわせてその制御システムを提
供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明では、つの常圧ホッ
パと二つの加圧ホッパ、原料排出用のフィーダ及び混入
器より構成されるロックホッパ方式で、反応炉へ原料を
供給する原料粉体供給力′法において、原料供給量の制
御を、供給加圧ホッパの圧力で粗調整し、フィーダの回
転数で微調整して行なうことを特徴とする原料粉体の安
定供給方法としたものである。また、本発明では、一つ
の常圧ホッパと二つの加圧ホッパ、原料排出用のフィー
ダ及び混入器より構成されるロックホッパ方式による反
応炉への原料粉体供給装置において、原料供給量を制御
する手段として、供給加圧ホッパの圧力調整手段と、フ
ィーダの回転数調整手段の両手段を有することを特徴と
する原料粉体の安定供給装置としたものである。

そして、前記の安定供給装置は、原料供給量演算装置を
有するデータ処理装置と、原料供給量を操作するホッパ
圧力調節弁及びフィーダ回転数を制御する制御装置との
原料供給量制御機構によって、原料供給量を制御するも
のである。

すなわち、本発明では、原料供給装置に設置しているロ
ードセルからの重量変化信号を元に供給量を求め、この
値と設定値とを此較して大幅にずれている場合には粗調
整として供給加圧ホッパの圧力を、また微調整用として
フィーダの回転数を変化させることにより、安定に輸送
するとともに供給量を正確に制御できる。

原料投入時には、供給加圧ホッパ圧力とガス化炉側圧力
との圧力差（圧力差■）を元に、供給加圧ホッパ圧力及
びフィーダ回転数を設定して供給し、定常になれば圧力
差Ｉから供給加圧ホッパ圧力とフィーダ出口圧力との圧
力差（圧力差■）を一定に保持し以下の操作を行う。供
給量を変化させる時には、供給量制御装置に供給量の設
定値を人力し、その設定値に対して、先ず微調整用のフ
ィーダの回転数を調節する信号が送信され回転数が変化
し、数回変化しても設定値に近すかない場合には、粗調
整用の供給加圧ホッパの圧力を変化させる信号をホッパ
圧力調節弁に送信し、供給ホッパ圧力を増減させる操作
を行うことにより原料供給量の制御が達成される。

〔作　用〕

本発明では、一つの常圧ホッパと二つの中間及び供給加
圧ホッパから構成されるロックホッパ方式で、供給加圧
ホッパの外壁に粉体の重量測定用のロードセル、圧力調
節弁、原料排出用のフィーダ及び混入器（エジェクタ等
）を有し、反応炉へ安定に原料を供給する原料粉体供給
装置において、原料供給量の把握は供給加圧ホッパに設
置したロードセルによって行い、その重量変化を元に原
料供給量制御機構を有した制御装置に送信し、それぞれ
の操作因子に信号を与えて制御するものである。

供給加圧ホッパ圧力と、フィーダ出口圧力（原料供給ラ
イン差圧十反応炉圧力）との圧力差（以下、圧力差■と
称す）及び供給加圧ホッパ圧力とガス化炉圧力との圧力
差（以下、圧力差■と称す）の両方の圧力差を一定に保
持する圧力差調節計５．１６及びそれを切替える圧力差
切替装置５０を有する。

先ず原料投入時には圧力差Ｉを元に定められたホッパ圧
力に設定するとともにフィーダの回転数は、最低回転数
に設定した後、原料を供給する。原料を供給すると原料
供給ライン内の抵抗が増し、フィーダ出口の圧力が増大
してくる。

そのた砧、供給加圧ホッパ９圧力よりもフィーダ出口圧
力の方が高くなり、原料の排出が困難になることが考え
られるので、圧力制御の操作部を切替装置５０を用いて
圧力差Ｉから圧力差Ｈに切り替え、圧力差■を炉側圧力
が変動しても一定に保持するようにホッパ圧力調節弁６
を作動させ、炉側圧力及びフィーダ出口圧力の変動に対
応してホッパ圧力を変化させることにより安定に輸送さ
せるとともに供給量を一定に制御する。

供給量を変化させる時には、供給量制御装置に供給量の
設定値を入力した後、その設定値に対して、先ず供給加
圧ホッパの圧力を一定にして、微調整用のフィーダの回
転数を変化させる信号が送信され回転数が０．５回転変
化し、その変化に対する供給量はロードセルからの重量
信号を元に把握し、数回０．５回転づつ変化しても設定
値に近づかない場合には、次に粗調整用の供給加圧ホッ
パ圧力を変化させる信号を供給加圧ホッパ圧力調節弁に
送信し、供給加圧ホッパ圧力を０．０５　ａｔｇづつ変
化させる操作を行なう。

したがって、設定値よりもずれている場合には、先ず微
調整用のフィーダの回転数制御を実施し、それでも設定
値に近すかない場合には、粗調整用の供給加圧ホッパ圧
力の制御を実施するものである。また、設定供給量を低
下させる時も同様に、微調整用のフィーダの回転数を先
に操作することにより行い、近すかない場合には供給加
圧ホッパ圧力を操作する。したがって、設定値からずれ
ている場合には、かならずフィーダの回転数制御を先に
行なうことにより、微細な制御が可能となる。

よって、炉側の圧力変動時でも安定に原料を輸送できる
と同時に原料供給量の制御が容易かつ正確に行なえるよ
うにしたものである。

〔実施例〕 以下、本発明を図面により具体的に説明するが、本発明
はこれに限定されない。

実施例１ この実施例は、一つの常圧ホッパ、中間加圧ホッパ及び
供給加圧ホッパの二つより構成されるロックホッパ方式
の粉体供給装置を用いて、燃焼炉側の圧力変動や原料供
給量の変化時において、粉体を安定に輸送するとともに
、原料の供給量を正確に制御するた約に適用したもので
ある。

本発明の詳細を第１図に従って説明する。

粉砕、分級された粉末固体燃料３を、常圧ホッパ２に充
填する。中間加圧ホッパ４が空になると、常圧ホッパ２
内の原料３をバルブ３２を開にし、ホッパ４内に供給、
充填する。その後、バルブ３２を閉にした後、電磁弁２
９を開き加圧用のガスを供給し、供給加圧ホッパ９の圧
力以上に加圧する。供給加圧ホッパ９は、上部粉末固体
燃料３を充填するた給のいつ流管４９、圧力調節用バル
ブ６、加圧用ガス電磁弁、重量測定用のロードセル８、
粉体排出フィーダ１０等を持っている。また、フィーダ
１０の下部には、窒素又は不活性ガス等２６が、調節さ
れた流量調節弁１１を通して粉末固体燃料３を搬送する
ために吹込まれる粉体供給室（混合器またはエジェクタ
）１２が設けられている。その粉体供給室１２には、原
料３を供給加圧ホッパ圧力９出口から、炉側原料バーナ
２１人口間へ供給するラインのフィーダ出口圧力を検知
する圧力検出器１３を持っている。

原料供給量制御系は、原料演算装置等を備えたデータ処
理装置１５、原料供給量制御装置２８及びエジェクタ圧
力を供給ホッパ圧力の圧力差とガス化炉圧力と供給ホッ
パ圧力の圧力差を制御する圧力差調節計５．１６が構成
された原料供給量制御機構３０を有している。

従来、原料搬送管の差圧レベルだけで供給量を把握した
場合には、第５図に示したように原料の性状が変化した
時及び炉側圧力が変化した時等は、供給管内抵抗及び配
管差圧等が変化するため、差圧レベルが変化し正確な供
給量の把握が困難であった。これを回避するため、供給
加圧ホッパに原料自体の重量を測定するロードセルを設
置し、時間に対する重量変化から供給量を算出する方法
を採用することにより、正確な供給量が把握できる。

また、炉側圧力が何等かの原因で変化した場合には、第
６図及び第７図に示したように供給量が炉圧の変化とと
もに変動する。第７図のように炉側圧力を故意に変化さ
せた時の搬送ガス量と原料供給量との関係を示したが、
この図のように炉圧が変化すると搬送ガス量一定では供
給量が変化することがわかり、所定の供給量を得るため
には、搬送ガス量を変化させる必要があり、搬送ガス量
調節では微細な供給量制御が困難であることが予測され
たため、供給加圧ホッパとガス化炉圧力を調節する圧力
差調節計５を設置し、両方の圧力差を一定に維持させる
ことによりその影響を回避したものである。

供給量を制御する因子には、二つある。それはフィーダ
の回転数と供給加圧ホッパ圧力である。この二つのどち
らかが変化すると原料排出量が変化する。第８図のよう
に、回転数と原料排出量とはだいたい比例関係があり、
回転数が速くなるほど多くなる。またホッパ圧力を図の
ように高くするほど排出量が増加することがわかる。

この第８図の関係を原料供給量制御装置に人力しておき
、第９図に示した操作を行なう。次に順をおって説明す
る。先ず、原料供給時では、ガス化炉圧力が３　ｋｇ　
／　ｃｍ２Ｇで、原料供給量を４０ｋｇ／ｈで供給開始
したい場合には、原料供給量制御装置２８に入力してい
る第８図を元に、フィーダの回転数は最低回転数に設定
し、ホッパ圧力を炉側圧力よりも１ｋｇ／ｃｍ２Ｇ程高
給に設定した後、フィーダを作動させ、原料をガス化炉
内へ供給した。原料供給と同時にエジェクタ圧力（フィ
ーダ圧力）ＥＰが上昇し、配管差圧が一次的に増大し、
ある差圧レベルで安定した後、所定の回転数に設定する
と、ある圧力で安定する。安定したところで、原料供給
量制御装置２８内の圧力検知を供給加圧ホッパ圧力とガ
ス化炉圧力の圧力差■指示から供給加圧ホッパ圧力とエ
ジェクタ圧力の圧力差Ｈに切り替え圧力差■が一定に保
持されるようにホッパ圧力を調節することにより供給量
を安定に制御する。

供給量の設定値に対してデータ処理装置１５により供給
量が算出され第９図のように差がある場合には、先ず、
フィーダ回転数を変化させる信号が制御装置２８から送
信され、０．５回転づつ速くなる作動を段階的に行なう
。それに見合ってロードセルからの重量変化信号を元に
、１時間当たりの重量をデータ処理装置１５で算出し、
この値を元にフィーダ回転数を調節する。

回転数変化だけでは設定値に近付かない場合には、次に
ホッパ圧力を０．０５　ａｔｇづつ増加させる信号をホ
ッパ圧力調節弁６に送信する。そうすると圧力調節弁６
は閉まり加圧用窒素電磁弁７が開になりガスが供給され
、０．５　ａｔｇ増加するまで加圧される（但し、この
圧力範囲内で所定値に達した場合には、その圧力に維持
する）Ｃホッパ圧力設定後、ロードセルからの重量信号
の変化から供給量設定値範囲±２．５　ｋｇ／　ｈ内に
入れば、その条件を維持する信号を供給量制御装置２８
に与え、定常運転を実施する。逆に、供給量を低下する
た約には、供給加圧ホッパ圧力を一定にし、フィーダ回
転数を下げる信号をフィーダに送信し、回転数を数回下
げる操作を行ない、それでも低下しない場合にはホッパ
圧力をさげる操作を実施する。

第２図は本発明と同等の効果を有する原料供給量制御シ
ステムである。原料投入時及び定常時にかかわらず圧力
差■を主体に運転を行なう方法であるが、供給量制御方
法は第１図と同等である。

また、加圧ホッパ９と混入器１２との間に均圧管５１、
均圧バルブ５２を有している場合には、圧力差■は同圧
となるが、制御方法は同等である。

したがって、必ずフィーダの回転数を先に起動させるこ
とにより、供給量を調節する。

また、ガス化炉内へ原料を投入する時における原料供給
量の大小つまり供給加圧ホッパ圧力、フィーダ回転数の
設定のやりかたによって、搬送ライン等で閉塞すること
がある。先ず最初から供給量１００ｋｇ／ｈの設定値に
して供給した時の状況を第１０図に示す。供給ホッパ圧
力と炉側の圧力差を１　ｋｇ／　ｃｍ２Ｇ、フィーダの
回転数を１５ｒｐｍに設定し供給すると図のように、原
料が多大に供給されるたｔ差圧が急激に上昇し、急激に
降下するが供給ライン途中に分配器を介している場合に
は、分配器自体の処理量以上に供給されるため、その分
配出口数本が閉塞し、配管差圧が１１０’ＯｍｍＡｑと
なった。その後数分間は一定で搬送するが、それ以後分
配器出口分岐管の閉塞していない管が閉塞し始め配管差
圧が急激に上昇し、搬送不能となった。

次に、第１１図には原料供給量の設定値が１００ｋｇ／
ｈに対して少量（約５０ｋｇ／ｈ）から段階的に設定値
に近づけた場合の状況を示す。

供給ホッパ圧力と炉側との圧力差１　ｋｇ　／　ｃｍ２
Ｇ、フィーダ回転数最低値に設定して供給した。この図
のように少量から供給すると第１０図と同様に急激に配
管差圧が上昇し、降下するが原料が少ないため分配器出
口孔への負担が小さくなり、供給された原料が全部分配
器から排出されるため配管差圧が２００から３００　ｍ
ｍＡｑと低いところで安定した。

したがって、原料投入時にはかならずフィーダ回転数を
最低に設定し、段階的に増加していくことが運転時原料
投入時における安定供給に不可欠である。

以上、噴流層燃焼反応装置に適用した例を示したが、本
発明はガス化に限定されずボイラ、燃焼炉等固体燃料を
供給する他の設備に適用できることは言うまでもない。

〔発明の効果〕

本発明によれば、以上説明した構成にすれば、原料の排
出量が変化するようなことはなく、原料投入時には供給
ホッパ圧力とガス化炉圧力の圧力差Ｉを元に設定し、定
常時にはフィーダ出口圧力とホッパ圧力の圧力差■　（
供給ホッパと混入器とに均圧管を設置している場合では
圧力差無し）を一定に維持することによりロードセルか
らの重量信号を元に、粗調節用として供給ホッパ圧力、
微調節用としてフィーダ回転数を変化させることにより
、ロックホッパからガス化炉へ原料を安定に供給するこ
とができると同時に原料供給量を正確に把握することが
でき、その供給量制御を可能になると言う作用効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は、本発明の原料粉体供給装置の全体
構成図、第３図は、従来のガス化装置の概略構成図、第
４図は、従来のロックホッパ方式の粉体供給装置の構成
図、第５図は、ホッパ圧力と炉側圧力の圧力差制御によ
る原料供給時における配管差圧、原料供給量等の経時変
化を示すグラフ、第６図は、第５図の圧力差制御無しで
の各因子の経時変化を示すグラフ、第７図は、原料供給
量に及ぼす炉圧力の影響を示すグラフ、第８図は、原料
排出量に及ぼすホッパ圧力の影響を示すグラフ、第９図
は、第１図を適用した時の作動状況を示すグラフ、第１
０図及び第１１図は、原料投入時における配管差圧の経
時変化を示すグラフである。 １・・・原料撮送ライン、　　２・・・常圧ホッパ、３
・・・粉末固体燃料（石炭、液化残差等）、４・・・中
間加圧ホッパ、　５・・・圧力差調節弁６・・・圧力調
節用バルブ、 ７・・・加圧用ガス電磁弁、 ８・・・ロードセル、 ９・・・供給加圧ホッパ（又は供給ホッパ）０・・・粉
体排出フィーダ、 １・・・搬送用ガス調節弁、 ２・・・粉体供給室（又は混合室、エジェクタ）３・・
・圧力検出器、　　　１４・・・収縮管、５・・・デー
タ処理装置、１６・・・圧力差調節計、７・・・原料供
給ライン、１８・・・分配器、！１ｌ＝ａ、　　ｂ、　
　ｃ、　　ｄ　　分岐管１．　２．　３．　４０・・・
ガス化剤（酸素、水蒸気）ライン、１・・・原料バーナ
、　　２２・・・ガス調節弁、３・・・ガス化炉圧力検
出器、 ４・・・圧力検出信号、　　２５・・・ガス化炉、６・
・・搬送用ガス（不活性ガス又は窒素）、７・・・圧力
制御用信号、 ８・・・原料供給量制御装置、 ９・・・中間加圧ホッパ加圧用ガス電磁弁、０・・・原
料供給量制御機構、 １・・・バルー１；／２、　　　３２・・・バルブ１．
３・・・水蒸気流量調節弁、 ４・・・酸素流量調節弁、 ５・・・酸素供給ライン、 ６・・・水蒸気供給ライン、３７・・・耐火レンガ、８
・・・ガス化炉反応領域、 ９・・・スラグタップ孔、 ０・・・スラグ流量ライン、 ｌ・・・スラグホッパ、 ２・・・冷却水、４３・・・ガス化炉出口ライン、４・
・・集じん装置、　　　４５・・・脱硫装置、６・・・
レベル計、 ７・・・ホッパ内ガス抜き出し弁、 ８・・・ガス抜き出しライン、 ９・・・いつ流管、　５０・・・圧力差切替装置、１・
・・均圧管、　　　５２・・・均圧バルブ図面の浄書（
内容に変更なと） 第１図 埠２図 第５図 あ 第５図 ｏＦｔｆ’ｏａじとヂョＪＪｊ暗巨＋トリ手自→Ｕジ時
！シイ擁−〇源ｐＦ僅紛ｔｌ先とト公ルＬ・・３渡策６
因 経過時開ω） 第ｑ 図 刀′ス化炉万カニ５．Ｏａ；ｔｙ一定 是更　ｊβ　時間　（）Ｌつ 厘Ｂ：′ト 葆７図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一つの常圧ホッパと二つの加圧ホッパ、原料排出用
   のフィーダ及び混入器より構成されるロックホッパ方式
   で、反応炉へ原料を供給する原料粉体供給方法において
   、原料供給量の制御を、供給加圧ホッパの圧力で粗調整
   し、フィーダの回転数で微調整して行なうことを特徴と
   する原料粉体の安定供給方法。 ２、前記反応炉は、ガス化炉、燃焼炉又はボイラである
   請求項１記載の原料粉体の安定供給方法。 ３、一つの常圧ホッパと二つの加圧ホッパ、原料排出用
   のフィーダ及び混入器より構成されるロックホッパ方式
   による反応炉への原料粉体供給装置において、原料供給
   量を制御する手段として、供給加圧ホッパの圧力調整手
   段と、フィーダの回転数調整手段の両手段を有すること
   を特徴とする原料粉体の安定供給装置。 ４、請求項３記載において、フィーダの回転数調整手段
   が、フィーダの回転数を変化させる変換器であることを
   特徴とする原料粉体の安定供給装置。 ５、請求項３記載において、フィーダの出口部に圧力を
   検知する圧力検出器を有することを特徴とする原料粉体
   の安定供給装置。 ６、請求項３記載において、原料供給量を制御する手段
   として、原料供給量演算装置を有するデータ処理装置と
   、原料供給量を操作する圧力調節弁及びフィーダ回転数
   を制御する制御装置との原料供給量制御機構を有するこ
   とを特徴とする原料供給量制御システム。 ７、請求項６記載において、データ処理装置により時間
   当たりの原料供給量を求め、この値を元に供給加圧ホッ
   パの圧力及びフィーダの回転数を変化させることを特徴
   とする原料供給量制御システム。 ８、請求項６記載において、原料供給量制御装置に、フ
   ィーダ回転数と原料排出量及び供給加圧ホッパの圧力と
   原料排出量の相関関係を入力していることを特徴とする
   原料供給量制御システム。 ９、請求項６記載において、原料供給時には、原料供給
   量設定値に対応した、ホッパ圧力及びフィーダ回転数を
   設定することを特徴とする原料供給量制御システム。 １０、請求項９記載において、フィーダ回転数は最低回
   転数から作動させることを特徴とする原料供給量制御シ
   ステム。 １１、請求項９記載において、ホッパ圧力は、反応炉と
   の圧力差を元に設定することを特徴とする原料供給量制
   御システム。 １２、請求項６記載において、定常運転時には、ホッパ
   の圧力とフィーダ出口の圧力の圧力差を一定に保持する
   ように制御することを特徴とする原料供給量制御システ
   ム。 １３、請求項６記載において、ホッパ圧力とフィーダ出
   口圧力、及びホッパ圧力と反応炉側の圧力の圧力差調節
   弁を切替る切替装置を有することを特徴とする原料供給
   量制御システム。 １４、請求項６記載において、原料供給量制御装置が、
   供給加圧ホッパ圧力を調節する調整弁及びフィーダの回
   転数を調節する変換器を作動させる手段を有することを
   特徴とする原料供給量制御システム。 １５、請求項３記載の原料粉体の安定供給装置と、反応
   炉及び精製系からなることを特徴とする固体燃料処理装
   置。