JPH048508B2 - - Google Patents
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- JPH048508B2 JPH048508B2 JP60085424A JP8542485A JPH048508B2 JP H048508 B2 JPH048508 B2 JP H048508B2 JP 60085424 A JP60085424 A JP 60085424A JP 8542485 A JP8542485 A JP 8542485A JP H048508 B2 JPH048508 B2 JP H048508B2
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Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は気相化学反応炉、特にワークに気相化
学蒸着を行なうために使用する反応炉に関するも
のである。
学蒸着を行なうために使用する反応炉に関するも
のである。
(従来技術)
第2図は従来の気相化学反応炉を示し、1は従
来のベル式加熱炉、2はこの加熱炉1の上下動ガ
イド機構、3は前記加熱炉1がかぶさる反応容
器、4はこの反応容器3のベースフランジ、5は
反応容器3内に配置したワーク、6はワークホル
ダー、7は配管を介して前記反応容器3内にその
下方から原料ガス(反応ガス)を送るためガスボ
ンベ、8は同じくその下方から排気するための排
気ポンプをしめし、この種従来の反応炉において
はその操作に際しては第2図においてベースフラ
ンジ4を剥き出したまま加熱炉1及び反応容器
3、ワーク5、ワークホルダー6がまだ設置され
ていない状態とし、ベースフランジ4上にワーク
ホルダー6を設置し、その上にワーク5を設置す
る。(予めワークホルダーにワークを設置してお
いてそれをベースフランジ上に設置しても良い。)
次いで反応容器3をワークホルダー6の上からか
ぶせ、ベースフランジ4上に設置する。この時ベ
ースフランジ4と反応容器3とはOリング等でシ
ールし、反応容器内部を密閉状態とする。次に反
応容器3内から空気を排気し、真空状態とした後
ガスボンベ7から原料ガスを反応容器3内に導入
しながら排気ポンプ8にて排気する。
来のベル式加熱炉、2はこの加熱炉1の上下動ガ
イド機構、3は前記加熱炉1がかぶさる反応容
器、4はこの反応容器3のベースフランジ、5は
反応容器3内に配置したワーク、6はワークホル
ダー、7は配管を介して前記反応容器3内にその
下方から原料ガス(反応ガス)を送るためガスボ
ンベ、8は同じくその下方から排気するための排
気ポンプをしめし、この種従来の反応炉において
はその操作に際しては第2図においてベースフラ
ンジ4を剥き出したまま加熱炉1及び反応容器
3、ワーク5、ワークホルダー6がまだ設置され
ていない状態とし、ベースフランジ4上にワーク
ホルダー6を設置し、その上にワーク5を設置す
る。(予めワークホルダーにワークを設置してお
いてそれをベースフランジ上に設置しても良い。)
次いで反応容器3をワークホルダー6の上からか
ぶせ、ベースフランジ4上に設置する。この時ベ
ースフランジ4と反応容器3とはOリング等でシ
ールし、反応容器内部を密閉状態とする。次に反
応容器3内から空気を排気し、真空状態とした後
ガスボンベ7から原料ガスを反応容器3内に導入
しながら排気ポンプ8にて排気する。
一方ワーク5を加熱する為に、加熱炉1をガイ
ド機構2によつて反応容器3と一定の間隔を保た
せながら下に降ろし、設置する。
ド機構2によつて反応容器3と一定の間隔を保た
せながら下に降ろし、設置する。
所定の時間が経過し、気相化学反応プロセスが
終わつた後降温に入る。
終わつた後降温に入る。
降温はまず加熱炉1を反応容器3の上方に引き
上げる事で開始する。反応容器3の上方に引き上
げた加熱炉1は、一旦横方向に移動させた後、続
く作業に支障が無く、しかも危険の無い位置に降
ろし次の気相化学反応に備える。
上げる事で開始する。反応容器3の上方に引き上
げた加熱炉1は、一旦横方向に移動させた後、続
く作業に支障が無く、しかも危険の無い位置に降
ろし次の気相化学反応に備える。
反応容器3内の温度が十分下がつたところで反
応容器3内の残留ガスを無害なガスと置換し、大
気圧としたところで反応容器3を上に引き上げ、
これも一旦横に移動させて続く作業に支障が無
く、しかも危険の無い所に置いておく。
応容器3内の残留ガスを無害なガスと置換し、大
気圧としたところで反応容器3を上に引き上げ、
これも一旦横に移動させて続く作業に支障が無
く、しかも危険の無い所に置いておく。
次いでベースフランジ4上に残つているワーク
5及びワークホルダー6をベースフランジ4上よ
り取り去り、一連の作業を終わる。
5及びワークホルダー6をベースフランジ4上よ
り取り去り、一連の作業を終わる。
又、ワーク5を約1100゜〜2000℃に間接加熱し
て気相化学反応を行なわせる為の加熱炉1の発熱
体及び反応容器3の材質は当然その温度に耐えう
る必要が有り、自ずからカーボン、もしくはモリ
ブデン、タンタル、タングステン等の高融点金属
に限定されるが、これらはいずれも高温中に於い
ては非常に酸化されやすく、従つてこれらは真空
状態で使用するか、もしくはHe、Ar等の不活性
ガス、もしくはH2のような還元性ガスの雰囲気
(以下保護ガスという)中で使用する必要がある。
て気相化学反応を行なわせる為の加熱炉1の発熱
体及び反応容器3の材質は当然その温度に耐えう
る必要が有り、自ずからカーボン、もしくはモリ
ブデン、タンタル、タングステン等の高融点金属
に限定されるが、これらはいずれも高温中に於い
ては非常に酸化されやすく、従つてこれらは真空
状態で使用するか、もしくはHe、Ar等の不活性
ガス、もしくはH2のような還元性ガスの雰囲気
(以下保護ガスという)中で使用する必要がある。
ところで、反応容器3の材質としては上述のも
のに限定される為、そのいずれも、完全な密封構
造にするのは非常に困難か多大な費用を要する。
のに限定される為、そのいずれも、完全な密封構
造にするのは非常に困難か多大な費用を要する。
上記のように従来の装置はその操作が極めて面
倒なばかりでなく構造上種々の制約を受ける欠点
があつた。
倒なばかりでなく構造上種々の制約を受ける欠点
があつた。
このような欠点を除くため例えば特開昭58−
14945号公報の第2図に示すようにワークを支持
するベースフランジと、このベースフランジ上の
ワークに被さるよう前記ベースフランジにその開
放下端を載置した筒状反応容器と、この反応容器
に被せてその開放下端を前記ベースフランジに気
密に接合した筒状密封容器と、この筒状密封容器
と前記反応容器間の空間に配置した発熱体とより
成る気相化学反応炉が提案されているが、このよ
うなものでは反応炉内の反応ガスが発熱体を設け
た空間内に漏れた場合、この反応ガスによつて発
熱体が劣化する欠点があつた。
14945号公報の第2図に示すようにワークを支持
するベースフランジと、このベースフランジ上の
ワークに被さるよう前記ベースフランジにその開
放下端を載置した筒状反応容器と、この反応容器
に被せてその開放下端を前記ベースフランジに気
密に接合した筒状密封容器と、この筒状密封容器
と前記反応容器間の空間に配置した発熱体とより
成る気相化学反応炉が提案されているが、このよ
うなものでは反応炉内の反応ガスが発熱体を設け
た空間内に漏れた場合、この反応ガスによつて発
熱体が劣化する欠点があつた。
(発明の目的)
本発明の目的は上記のような欠点を除去した気
相化学反応炉を得るにある。
相化学反応炉を得るにある。
(発明の構成)
本発明の気相化学反応炉は、ワークを支持する
ベースフランジと、このベースフランジ上のワー
クに被さるように前記ベースフランジにその開放
下端を気密に接合することなく載置した筒状反応
容器と、この反応容器に被せてその開放下端を前
記ベースフランジに気密に接合した筒状密封容器
と、この筒状密封容器と前記反応容器間の空間に
配置した発熱体と、前記反応容器内に原料ガスを
流入せしめ且つ排出せしめる機構と、前記発熱体
の位置する空間内に前記原料ガスと反応しない保
護ガスを導入しこの空間内の圧力を前記反応容器
内の圧力より若干高い値に保つ機構とより成るこ
とを特徴とする。
ベースフランジと、このベースフランジ上のワー
クに被さるように前記ベースフランジにその開放
下端を気密に接合することなく載置した筒状反応
容器と、この反応容器に被せてその開放下端を前
記ベースフランジに気密に接合した筒状密封容器
と、この筒状密封容器と前記反応容器間の空間に
配置した発熱体と、前記反応容器内に原料ガスを
流入せしめ且つ排出せしめる機構と、前記発熱体
の位置する空間内に前記原料ガスと反応しない保
護ガスを導入しこの空間内の圧力を前記反応容器
内の圧力より若干高い値に保つ機構とより成るこ
とを特徴とする。
(発明の実施例)
本発明においては第1図に示すように筒状反応
容器3の開放下端をベースフランジ4上に単に設
置し、つりがね状密封容器9を前記反応容器3に
かぶせてその開放下端をシール材10を介してベ
ースフランジ4に気密に接合し、その内面に断熱
材11を内張りすると共に、この断熱材11の内
面と反応容器3の外周面間に発熱体12を配置
し、この発熱体12の位置する空間内にこの空間
の上部から前記原料ガスと反応しない保護ガス1
3を導入せしめ、前記発熱体12の位置する空間
内の圧力を前記反応容器3内の圧力より若干高く
保ち、反応容器3内の原料ガスが発熱材12の位
置する空間側に漏洩するのを防止せしめるように
する。
容器3の開放下端をベースフランジ4上に単に設
置し、つりがね状密封容器9を前記反応容器3に
かぶせてその開放下端をシール材10を介してベ
ースフランジ4に気密に接合し、その内面に断熱
材11を内張りすると共に、この断熱材11の内
面と反応容器3の外周面間に発熱体12を配置
し、この発熱体12の位置する空間内にこの空間
の上部から前記原料ガスと反応しない保護ガス1
3を導入せしめ、前記発熱体12の位置する空間
内の圧力を前記反応容器3内の圧力より若干高く
保ち、反応容器3内の原料ガスが発熱材12の位
置する空間側に漏洩するのを防止せしめるように
する。
本発明気相化学反応炉は上記のような構成であ
るからその操作に際しては反応容器3内にワーク
5を配置した後、密封容器9内において、断熱材
11によつて回りを取り囲まれた発熱体12に公
知の方法で通電を行い、これを昇温させ、間接的
に反応容器3及びその内部に設置したワーク5を
加熱しながら原料ガス入口より原料ガスを導入
し、ワーク5の表面に気相化学反応を行なわせ
る。この時、保護ガス入口より保護ガスを導入
し、その圧力を反応容器3の内部より若干高めと
し、原料ガスが反応容器3内部から外部に漏洩し
て発熱体12を劣化させないようにする。この場
合保護ガスの方が反応容器3内に若干漏洩して行
くが、この漏洩した保護ガスは単に原料ガスの濃
度及び反応容器3内の流速に僅か影響を与えるの
みで実用上なんら障りがない。
るからその操作に際しては反応容器3内にワーク
5を配置した後、密封容器9内において、断熱材
11によつて回りを取り囲まれた発熱体12に公
知の方法で通電を行い、これを昇温させ、間接的
に反応容器3及びその内部に設置したワーク5を
加熱しながら原料ガス入口より原料ガスを導入
し、ワーク5の表面に気相化学反応を行なわせ
る。この時、保護ガス入口より保護ガスを導入
し、その圧力を反応容器3の内部より若干高めと
し、原料ガスが反応容器3内部から外部に漏洩し
て発熱体12を劣化させないようにする。この場
合保護ガスの方が反応容器3内に若干漏洩して行
くが、この漏洩した保護ガスは単に原料ガスの濃
度及び反応容器3内の流速に僅か影響を与えるの
みで実用上なんら障りがない。
(発明の効果)
本発明気相化学反応炉は上記のような構成であ
るからその操作に際しては加熱炉1のみを上下す
る等の作業が全く不要でその構成が極めて簡単で
あり、反応容器3をベースフランジ4に気密に接
続するためのシール機構を有しないので構造を簡
単にし、廉価にでき、且つシール部冷却の必要も
無いので高温での処理ができ、多量のしかも多種
類のワークを同時に約1100℃以上の高温下で気相
化学反応を行なわせる事が可能であり又、当該約
1100℃以上のみならず、それ以下の温度範囲に於
いても使用出来ると共に、有害な原料ガスが反応
容器外に漏洩することが防がれ、又発熱体が原料
ガスに接して劣化することを完全に阻止出来る大
きな利益がある。
るからその操作に際しては加熱炉1のみを上下す
る等の作業が全く不要でその構成が極めて簡単で
あり、反応容器3をベースフランジ4に気密に接
続するためのシール機構を有しないので構造を簡
単にし、廉価にでき、且つシール部冷却の必要も
無いので高温での処理ができ、多量のしかも多種
類のワークを同時に約1100℃以上の高温下で気相
化学反応を行なわせる事が可能であり又、当該約
1100℃以上のみならず、それ以下の温度範囲に於
いても使用出来ると共に、有害な原料ガスが反応
容器外に漏洩することが防がれ、又発熱体が原料
ガスに接して劣化することを完全に阻止出来る大
きな利益がある。
第1図は本発明反応炉の説明用断面図、第2図
は従来の反応炉の説明用断面図である。 1…ベル式加熱炉、2…上下動ガイド機構、3
…反応容器、4…ベースフランジ、5…ワーク、
6…ワークホルダー、7…ガスボンベ、8…排気
ポンプ、9…つりがね状密封容器、10…シール
材、11…断熱材、12…発熱体、13…保護ガ
ス。
は従来の反応炉の説明用断面図である。 1…ベル式加熱炉、2…上下動ガイド機構、3
…反応容器、4…ベースフランジ、5…ワーク、
6…ワークホルダー、7…ガスボンベ、8…排気
ポンプ、9…つりがね状密封容器、10…シール
材、11…断熱材、12…発熱体、13…保護ガ
ス。
Claims (1)
- 1 ワークを支持するベースフランジと、このベ
ースフランジ上のワークに被さるよう前記ベース
フランジにその開放下端を気密に接合することな
く載置した筒状反応容器と、この反応容器に被せ
てその開放下端を前記ベースフランジに気密に接
合した筒状密封容器と、この筒状密封容器と前記
反応容器間の空間に配置した発熱体と、前記反応
容器内に原料ガスを流入せしめ且つ排出せしめる
機構と、前記発熱体の位置する空間内に前記原料
ガスと反応しない保護ガスを導入しこの空間内の
圧力を前記反応容器内の圧力より若干高い値に保
つ機構とより成ることを特徴とする気相化学反応
炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8542485A JPS61246370A (ja) | 1985-04-23 | 1985-04-23 | 気相化学反応炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8542485A JPS61246370A (ja) | 1985-04-23 | 1985-04-23 | 気相化学反応炉 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61246370A JPS61246370A (ja) | 1986-11-01 |
JPH048508B2 true JPH048508B2 (ja) | 1992-02-17 |
Family
ID=13858441
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8542485A Granted JPS61246370A (ja) | 1985-04-23 | 1985-04-23 | 気相化学反応炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61246370A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5018363A (ja) * | 1973-05-14 | 1975-02-26 | ||
JPS5090285A (ja) * | 1973-11-29 | 1975-07-19 | ||
JPS5523457A (en) * | 1978-08-08 | 1980-02-19 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | Air cleaning device in tritium handling facility |
JPS5750423A (en) * | 1980-09-12 | 1982-03-24 | Nec Corp | Vapor phase growth device |
JPS5814945A (ja) * | 1981-07-22 | 1983-01-28 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 気相成長装置 |
-
1985
- 1985-04-23 JP JP8542485A patent/JPS61246370A/ja active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5018363A (ja) * | 1973-05-14 | 1975-02-26 | ||
JPS5090285A (ja) * | 1973-11-29 | 1975-07-19 | ||
JPS5523457A (en) * | 1978-08-08 | 1980-02-19 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | Air cleaning device in tritium handling facility |
JPS5750423A (en) * | 1980-09-12 | 1982-03-24 | Nec Corp | Vapor phase growth device |
JPS5814945A (ja) * | 1981-07-22 | 1983-01-28 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 気相成長装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61246370A (ja) | 1986-11-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |