JPH0477476A - 抗潰瘍剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【目的】 【産業上の利用分野】

本発明は、ベンゾイソチアゾロン誘導体を含有する優れ
た潰瘍の予防若しくは治療剤に関する。 関与する酵素であるｌ（’、Ｋ”−アデノシントリフォ
スファターゼＣ以下、Ｈ”　、　Ｋ　”−ＡＴＰａｓｅ
と略記する。）を阻害することによって、胃酸分泌を抑
制し、抗潰瘍剤として臨床で有効であることが知られて
いる。

【発明が解決しようとする課題】

本発明者等は、ベンゾイソチアゾロン誘導体の合成とそ
の薬理活性について永年に亘り鋭意研究を行なった結果
、本発明の化合物が、上記の既知のオメブラゾールに比
べ、１００倍以上の）Ｉ’、に’ＡＴＰａｓｅ酵素阻害
活性を有し、優れた潰瘍の予防若しくは治療剤となるこ
とを見出し、本発明を完成

【従来の技術】

２−　［ｆ３．５−ジメチル−４−メトキシ−２−ピリ
ジル）メチルスルフィニル１−５へメトキシ−＋ＩＨ）
−ベンズイミダゾール（オメブラゾール）［特開昭５４
−１４１７８３号公報記載の化合物〕か、胃酸分泌の最
終段階に

【構成】

本発明の新規な潰瘍の予防剤又は治療剤は、一般式 択される基で１以上置換されたアリール基、複素環基、
下記「置換基群Ｃ」より選択される基で１以上置換され
た複素環基又はシクロアルキル基を示す。）で表わされ
るベンゾイソチアゾロン誘導体或はその塩を含有する。 Ｃ式中、 Ｒ１，Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、同−又は異なって、水素
原子、低級アルキル基、アラルキル基、下記「置換基群
Ｂ」より選択される基で１以上置換されたアラルキル基
、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を示し、 Ａは、硫黄原子、スルホキシド基又はスルホン基を示し
、 Ｒ５は、水素原子、低級アルキル基、下記「置換基群Ａ
」より選択される基で１以上置換された低級アルキル基
、アルケニル基、下記「置換基群Ａ」より選択される基
で１以上置換されたアルケニル基、アリール基、下記「
置換基群Ｂ」より選「置換基群Ａ」 アリール基、水酸基、シアノ基、低級アルキルチオ基、
低級アルコキシカルボニル基及びアラルキルオキシカル
ボニル基。 「置換基群ＢＪ 低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ハ
ロゲノ低級アルキル基、低級アルキル基で置換されてい
てもよいアミノ基、シアノ基、カルボキシ基、カルバモ
イル基、低級アルコキシカルボニル基及びアラルキルオ
キシカルボニル基。 ［置換基群ＣＪ 低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、ハロゲン原子、オキソ基、アリル基、上記「置
換基群Ｂ」より選択される基で１以上置換されたアリー
ル基及びアラルキルオキシ基。 上記一般式（Ｉ）において、 Ｒ１、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４及びＲ５の定義における「低級
アルキル基」、Ｒ５の定義における「下記「置換基群Ａ
」より選択される基で１以上置換された低級アルキル基
」の「低級アルキル基」、「置換基群Ｂ」の定義におけ
る「低級アルキル基」並びに「置換基群Ｃ」の定義にお
ける「低級アルキル基」とは、例えば、メチル、エチル
、ｎプロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル
、Ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ローペンチル、インペンチ
ル、２−メチルブチル、ネオペンチル、ローヘキシル、
４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチル
ペンチル、３，３−ジメチルブチル、２．２−ジメチル
ブチル、１．１−ジメチルブチル、１．２−ジメチルブ
チル、１．３−ジメチルブチル、２．３−ジメチルブチ
ルのような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル
基を示し、好適には炭素数１乃至４個の直鎖又は分枝鎖
アルキル基である。 Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３及びＲ４の定義における「アラルキル
基」及び「下記「置換基群Ｂ」より選択される基で１以
上置換されたアラルキル基」の「アラルキル基」とは、
後記「アリール基」が、前記「低級アルキル基」に結合
した基をいい、例えば、ベンジル、α−ナフチルメチル
、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニ
ルメチル、ａ−ナフチルジフェニルメチル、９−アンス
リルメチル、ピペロニル、ｌ−フェネチル、２−フェネ
チル、ｌ−ナフチルエチル、２−ナフチルエチル。 Ｊ−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フ
ェニルプロピル、ｌ−ナフチルプロピル、２−ナフチル
プロピル、３−ナフチルプロピル、ｌ−フェニルブチル
、２−フェニルブチル、３−フェニルブチル、４フエニ
ルブチル、ｌ−ナフチルブチル、２−ナフチルブチル、
３−ナフチルブチル、４−ナフチルブチル、ｌ−フェニ
ルペンチル、２−フェニルペンチル、３−フェニルペン
チル、４−フェニルペンチル、５−フェニルペンチル、
１−ナフチルペンチル、２−ナフチルペンチル、３−ナ
フチルペンチル、４−ナフチルペンチル、５−ナフチル
ペンチル、ｌ−フェニルヘキシル、２−フェニルヘキシ
ル、３−フェニルヘキシル、４−フェニルヘキシル、５
−フェニルヘキシル、６−フェニルヘキシル、１−ナフ
チルヘキシル、２−ナフチルヘキシル、３−ナフチルヘ
キシル、４−ナフチルヘキシル、５−ナフチルヘキシル
、６−ナフチルヘキシルを挙げることができ、好適には
、アリール基が置換した炭素数１乃至３個の直鎖又は分
枝鎖アルキル基である。 尚、「下記「置換基群Ｂ」より選択される基で１以上置
換されたアラルキル基」としては、例えば、２−メチル
ベンジル、３−メチルベンジル、４−メチルベンジル、
２−メチルフェネチル、４−メチルフェネチル、２−エ
チルベンジル、３−プロピルフェネチル、４−エチルベ
ンジル、２−ブチルフェネチル、３−ペンチルベンジル
、４−ペンチルフェネチル、３５−ジメチルベンジル、
２．５−ジメチルフェネチル、２．６−ジメチルベンジ
ル、２，４−ジメチルフェネチル、３．５−ジブチルペ
ンシル、２．５−ジメチルフェネチル、２．６−ジプロ
ピルベンジル、２．４−ジプロピルフェネチル、２．３
．６−ドリメチルベンジル、２，３゜４−トリメチルフ
ェネチル、３．４．５〜トリメチルベンジル、２．４．
６−トリメチルベンジル、２．５．６−　トリメチルフ
ェネチル、２．３．６−トリブチルフェネチル。 ２．３．４−トリペンチルベンジル、３，４．５−トリ
ブチルフェネチル、２，５．６−）リブロピルベンジル
、２４６−ドリブロビルフエネチル、ｌ−メチル−２〜
ナフチルメチル、２−メチル−１−ナフチルエチル、３
−メチル−１−ナフチルメチル、ｌ−エチル−２−ナフ
チルエチル、２−プロピル−１−ナフチルメチル、３−
ブチル１−ナフチルエチル、３．８−ジメチル−１−ナ
フチルメチル、２．３−ジメチル−１−ナフチルエチル
、４．８−ジメチル−１−ナフチルメチル、５，６−ジ
メチル−１ナフチルエチル、３．８−ジエチル−１−ナ
フチルメチル、２．３−ジプロピル−１−ナフチルメチ
ル、４．８−ジベンチルー１−ナフチルエチル、５．６
−シブチル−１ナフチルメチル、２．３．６−ドリメチ
ルー１−ナフチルメチル、２，３．４−）−リフチル−
１−ナフチルエチル、３．４．５−トリメチル−１−ナ
フチルメチル、４，５．６−トリメチル−ｌ−ナフチル
メチル、２．４．８−トリメチルｌ−ナフチルメチル、
ビス（２−メチルフェニル）メチル、３−メチルフェニ
ルフェニルメチル、ビス（４−メチルフェニル）メチル
、４−メチルフェニルフェニルメチル、ビス（２−エチ
ルフェニル）メチル、ビス（３−エチルフェニル）メチ
ル、ビス（４エチルフエニル）メチル、２−プロピルフ
ェニルフェニルメチル、３−プロピルフェニルフェニル
メチル、ビス（４−プロピルフェニル）メチル、ビス（
３，５−ジメチルフェニル）メチル、ビス（２，５−ジ
メチルフェニル）メチル、ビス（２，６−シメチルフエ
ニル）メチル、２．４−ジメヂルフェニルフェニルメチ
ル、ビス（３，５−ジプロピルフェニル）メチル、２５
−ジプロピルフェニルフェニルメチル、２．６−ジニチ
ルフエニルフエニルメチル、ビス（２，４−ジエチルフ
ェニル）メチル、ビス（２，３，６−トリメチルフエニ
ル）メチルのような低級アルキル基で置換されたアラル
キル基、２−メトキシベンジル、３−メトキシベンジル
、４−メトキシベンジル、３−メトキシフェネチル、２
−エトキシフェネチル、３−プロポキシベンジル、４−
エトキシフェネチル、２−ブトキシベンジル、３〜ペン
トキシフエネチル、４−ペントキシベンジル、３．５−
ジメトキシフェネチル、２．５ジメトキシベンジル、２
．６−ジメトキシフェネチル、２．４−ジメトキシベン
ジル、３，５〜ジブトキシフエネチル、２．５−ジベン
トキシベンジル、２．６−ジプロポキシフェネチル、２
．４−ジプロポキシベンジル、２．３．６−トリメトキ
シフエネチル、２，３．４−トリメトキシベンジル、３
．４．５−）ジメトキシフェネチル、２，５．６−１−
ジメトキシベンジル、２．４．６−１−ジメトキシフェ
ネチル、２，３．６−トリブトキシベンジル、２．３．
４−　）リペントキシフエネチル、　３．４．５〜トリ
ブトキシベンジル、２，５．６−ドリブロポキシフエネ
チル、２．４．６−ドリブロポキシベンジル、１−メト
キシ−２−ナフチルメチル、２−メトキシ−１−ナフチ
ルメチル、３−メトキシ−１−ナフチルエチル、１−エ
トキシ−２−ナフチルメチル、２−プロポキシ−１−ナ
フチルメチル、３−ブトキシ−１−ナフチルエチル、３
．８−ジメトキシ−１−ナフチルメチル、２，３−ジメ
トキシ−ｌ−ナフチルメチル、４．８−ジメトキシ−１
−ナフチルエチル、５．６−シメトキシー１−ナフチル
メチル、３，８−ジェトキシ−１−ナフチルメチル、２
．３−ジプロポキシ−１〜ナフチルエチル、４．８−ジ
ベントキシー１−ナフチルメチル、５．６−ジプトキシ
ー１−ナフチルメチル、２．３．６−　）リフトキシ−
１−ナフチルエチル、２，３．４−）リフトキシ−１−
ナフチルメチル、３、４．５−トリメトキシ−１−ナフ
チルメチル、４．５．６トリメトキシーｌ−ナフチルエ
チル、２，４．８−トリメトキシ−１−ナフチルメチル
、ビス（２−メトキシフェニル）メチル、３−メトキシ
フェニルフェニルメチル、ビス（４−メトキシフェニル
）メチル、４−メトキシフェニルフェニルメチル、ビス
ｃ２−エトキシフェニル）メチル、ビス（３−エトキシ
フェニル）メチル、ビス（４−エトキシフェニル）メチ
ル、２−プロポキシフェニルフェニルメチル、３〜プロ
ポキシフエニルフエニルメチル、ビス（４−プロポキシ
フェニル）メチル、ビス（３，５−ジメトキシフェニル
）メチル、ビス（２，５−ジメトキシフェニル）メチル
、ビス（２，６−ジメトキシフェニル）メチル、２．４
−ジメトキシフェニルフェニルメチル、ビス（３，５−
ジプロポキシフェニル）メチル、２．５−ジプロポキシ
フェニルフェニルメチル、２６ジェトキシフェニルフェ
ニルメチル、ビス（２，４−ジェトキシフェニル）メチ
ル、ビス（２，３，６１リメトキシフエニル）メチルの
ような低級アルコキシ基で置換されたアラルキル基；２
−フルオロベンジル、３−フルオロベンジル、４−フル
オロベンジル、２−クロロペンシル、３−クロロベンジ
ル、４−クロロベンジル、２−ブロモベンジル、３−ブ
ロモベンジル、４−ブロモベンジル、３．５−ジフルオ
ロベンジル、２，５−ジフルオロフェネチル、２．６−
ジフルオロベンジル、２．４−ジフルオロフェネチル、
３．５−ジブロモベンジル、２，５−ジブロモフェネチ
ル、２６−ジクロロペンシル、２，４−ジクロロフェネ
チル、２．３ロートリフルオロペンシル、２．３４−ト
リフルオロフェネチル、３．４．５−）リフルオロペン
シル、２．５．６トリフルオロフエネチル、　２．４．
ロートリフルオロベンジル、２，３．６−トリブロモフ
エネチル、２，３．４−トリブロモベンジル、３．４．
５４リブロモフエネチル、２．５．６−　）ジクロロペ
ンシル、２，４．６−トリクロロフエネチル、ｌ−フル
オロ−２−ナフチルメチル、２−フルオロ用−ナフチル
エチル、３−フルオロ−１ナフチルメチル、ｌ−クロロ
−２−ナフチルエチル、２−クロロ−１−ナフチルメチ
ル、３−ブロモ−１−ナフチルエチル、３，８−ジフル
オロ−１−ナフチルメチル、２３−ジフルオロ−１−ナ
フチルエチル、４．８−ジフルオロ−１−ナフチルメチ
ル、５６−ジフルオロ−１＝ナフチルエチル、３．８−
ジクロロ−１−ナフチルメチル、２．３−ジクロロ−１
−ナフチルエチル、４．８−ジブロモ−１−ナフチルメ
チル、５．６−ジプロモー１−ナフチルエチル、２，３
．ロートリフルオロ−１−ナフチルメチル、２，３．４
−トリフルオロ−１−ナフチルエチル、３，４．５−ト
リフルオロ−１−ナフチルメチル、４５．６−）リフル
オロ−１−ナフチルエチル、２，４．８−トリフルオロ
−１−ナフチルメチル、ビス（２−フルオロフェニル）
メチル、３−フルオロフェニルフェニルメチル、ビス（
４−フルオロフェニル）メチル、４−フルオロフェニル
フェニルメチル、ビス（２−クロロフェニル）メチル、
ビス（３−クロロフェニル）メチル、ビス（４−クロロ
フェニル）メチル、４−クロロフェニルフェニルメチル
、２−ブロモフェニルフェニルメチル、３−ブロモフェ
ニルフェニルメチル、ビス（４−ブロモフェニル）メチ
ル、ビス（３，５−ジフルオロフェニル）メチル、ビス
（２，５ジフルオロフエニル）メチル、ビス（２，６−
ジフルオロフェニル）メチル、２．４−ジフルオロフェ
ニルフェニルメチル、ビス（３，５−ジブロモフェニル
）メチル、２，５−ジブロモフェニルフェニルメチル、
２．６−ジクロロフエニルフエニルメチル、ビス（２４
−ジクロロフェニル）メチル、ビス（２，３，６−１−
リフルオロフェニル）メチルのようなハロゲン原子で置
換されたアラルキル基：２−トリフルオロメチルベンジ
ル、３−トリフルオロメチルフェネチル、４−トリフル
オロメチルベンジル、２−トリクロロメチルフェネチル
、３−ジクロロメチルベンジル、４トリクロロメチルフ
エネチル、２−トリブロモメチルベンジル、３−ジブロ
モメチルフェネチル、４−ジブロモメチルベンジル、３
．５−ビストリフルオロメチルフエネチル、２．５−ビ
ストリフルオロメチルベンジル、２．６−ピスドリフル
オロメチルフエネチル、２．４−ビストリフルオロメチ
ルペンシル、３５ビストリブロモメチルフエネチル、２
．５−ビスジブロモメチルベンジル、２．６−ビスジク
ロロメチルメチルフェネチル、２．４−ビスジクロロメ
チルベンジル、２．３．６−１−リストリフルオロメチ
ルフェネチル、２．３．４−トリストリフルオロメチル
ベンジル、３．４．５−トリストリフルオロメチルフェ
ネチル、２゜５．６−トリストリフルオロメチルベンジ
ル、２４６トリストリフルオロメチルフエネチル、２．
３．６−トリストリブロモメチルベンジル、２，３．４
４リスジブロモメチルフエネチル、３，４．５−ｈリス
トリブロモメチルペンシル、２，５．６４リスジクロ口
メヂルメチルフェネチル、２．４．６１−リスジクロロ
メチルベンジル、１−トリフルオロメチル−２−ナフチ
ルエチル、２−トリフルオロメチル−１−ナフチルメチ
ル、３−トリフルオロメチル−■−ナフチルエチル、１
−トリクロロメチル−２−ナフチルメチル、２−ジクロ
ロメチル−１−ナフチルエチル、３−トリブロモメチル
−１〜ナフチルメチル、３，８−ビストリフルオロメチ
ル−１−ナフチルエチル、２，３−ビストリフルオロメ
チル−１−ナフチルメチル、４．８−ビストリフルオロ
メチル−１−ナフチルエチル、５６−ビストソフルオロ
メチルー１−ナフチルメチル、３，８−ビストリクロロ
メチル−１−ナフチルエチル、２．３−ビスジクロロメ
チル−１−ナフチルメチル、４．８−ビスジブロモメチ
ル−１−ナフチルエチル、５．６−ピスドリブロモメチ
ルー１−ナフチルメチル、２，３．６−ドリストリフル
オロメチルー１−ナフチルエチル、２，３．４−トリス
トリフルオロメチル−１−ナフチルメチル、３，４゜５
−トリストリフルオロメチル−１−ナフチルエチル、４
，５．６−ドリストリフルオロメチルー１−ナフチルメ
チル、２，４．８−トリストリフルオロメチル−１ナフ
チルメチル、ビス（４−トリフルオロメチルフェニル）
メチル、４−トリフルオロメチルフェニルフェニルメチ
ル、ビス（２−トリクロロメチルフェニル）メチル、ビ
ス（３−トリクロロメチルフェニル）メチル、ビス（４
−トリクロロメチルフェニル）メチル、２−トリブロモ
メチルフェニルフェニルメチル、３−トリブロモメチル
フェニルフェニルメチル、ビス（４−トリブロモメチル
フェニル）メチル、ビス（３，５−ビストリフルオロメ
チルフェニル）メチル、ビス（２，５−ビストリフルオ
ロメチルフェニル）メチル、ビス（２，６−ビストリフ
ルオロメチルフェニル）メチル、２．４−ビストリフル
オロメチルフェニルフェニルメチル、ビス（３，５−ビ
ストリブロモメチルフェニル）メチル、２．５−ビスト
リブロモメチルフェニルフェニルメチル、２，６−ピス
トリクロロメチルフエニルフエニルメチル、ビス（２，
４−ビストリクロロメチルフェニル）メチル、ビス（２
，３，６−トリストリフルオロメチルフエニル）メチル
のようなハロゲノ低級アルキル基で置換されたアラルキ
ル基；２−アミノフェネチル、３−アミノベンジル、４
−アミノフェネチル、３．５−ジアミノベンジル、２．
５−ジアミノフェネチル、２．６ジアミノベンジル、２
．４−ジアミノフェネチル、２゜３６−トリアミノペン
シル、２，３．４−トリアミノフェネチル、３．４．５
−トリアミノベンジル、２，５．．６−ｈリアミノフェ
ニル、　２，４．６−トリアミノベンジル、１−アミノ
−２−ナフチルメチル、２−アミノ−１−ナフチルエチ
ル、３−アミノ−１−ナフチルメチル、３．８ジアミノ
−１−ナフチルメチル、２．３−ジアミノ−１ナフチル
エチル、４．８−ジアミノ−］−ナフチルメチル、５．
６−ジアミツーエーナフチルメチル、　２．３．６−ト
リアミノ−１−ナフチルエチル、２，３．４−トリアミ
ノｌ−ナフチルメチル、３，４．５−トリアミノ−１−
ナフチルメチル、４，５．６−トリアミノ−１−ナフチ
ルエチル、２，４．８−トリアミノ−１−ナフチルメチ
ル、ビス（２−アミノフェニル）メチル、３−アミノフ
ェニルフェニルメチル、ビス（４−アミノフェニル）メ
チル、４−アミノフェニルフェニルメチル、ビス（３５
−ジアミノフェニル）メチル、ビス（２，５−ジアミノ
フェニル）メチル、ビス（２，６−リアミノフェニル）
メチル、２．４−ジアミノフェニルフェニルメチル、ビ
ス（２，３，６−）リアミノフェニル）メチルのような
低級アルキル基で置換されていてもよいアミノ基で置換
されたアラルキル基；２−シアノフェネチル、３−シア
ノベンジル、４−シアノベンジル、４−シアノベンジル
ジフェニルメチル、４−シアノフェネチル、３．５−ジ
シアノベンジル、２．５−ジシアノフェネチル、２．６
−ジシアノベンジル、２，４−ジシアノフェネチル、２
．３．６−トリシアノベンジル、２．３゜４−トリシア
ノフェネチル、３．４．５−１−ジシアノベンジル、２
，５．６−トリシアノフエネチル、２．４．６−トリシ
アノベンジル、ｌ−シアノ−２−ナフチルメチル、３−
シアノ−１−ナフチルメチル、３．８−ジシアノ−１−
ナフチルメチル、２．３−ジシアノ−１−ナフチルエチ
ル、４，８−ジシアノ−１−ナフチルメチル、５．６−
ジシアノ−１−ナフチルメチル、２．３．６−１−ダシ
アノ−ｌナフチルエチル、２，３．４−トリシアノ−１
−ナフチルメチル、３，４．５−１−’／シアノー１−
ナフチルメチル、４．５．６４リシアノ−１−ナフチル
エチル、２．４．８−トリシアノ−１−ナフチルメチル
、ビス（２−シアノフェニル）メチル、３−シアノフェ
ニルフェニルメチル、ビス（４−シアノフェニル）メチ
ル、４−シアノフェニルフェニルメチル、ビス（３，５
−ジシアノフェニル）メチル、ビス（２，５〜ジシアノ
フエニル）メチル、ビス（２，６−ジアミフェニル）メ
チル、２．４−ジシアノフェニルフェニルメチル、ビス
（２３，６−トリシアノフエニル）メチルのようなシア
ノ基で置換されたアラルキル基；２−カルボキシフェネ
チル、３−カルボキシベンジル、４−カルボキシフェネ
チル、３．５−ジカルボキシベンジル、２．５−ジカル
ボキシフエネチル、２．６−ジカルボキシベンジル、２
．４−ジカルボキシフェネチル、ビス（２−カルボキシ
フェニル）メチル、３−カルボキシフェニルフェニルメ
チル、ビス（４−カルボキシフェニル）メチル、４−カ
ルボキシフェニルフェニルメチル、ビス（３，５＝ジカ
ルボキシフエニル）メチル、ビス（２，５−ジカルボキ
シフェニル）メチル、ビス（２゜６−ジカルボキシフェ
ニル）メチル、２．４−ジカルボキシフェニルフェニル
メチル、ビス（２，３，６−１−ジカルボキシフェニル
）メチルのようなカルボキシ基で置換されたアラルキル
基；２−カルバモイルベンジル、３−カルバモイルフェ
ネチル、４−カルバモイルベンジル、３．５−シカルバ
モイルフエネチル、２．５−ジカルバモイルペンシル、
２．６−ジカルバモイルフエネチル、２．４−シカルバ
モイルベンジル、ビス（２−カルバモイルフェニル）メ
チル、３−カルバモイルフェニルフェニルメチル、ビス
（４−カルバモイルフェニル）メチル、４−カルバモイ
ルフェニルフェニルメチル、ビス（３，５−ジカルバモ
イルフェニル）メチル、ビス（２，５−ジカルバモイル
フェニル）メチル、ビス（２，６−ジカルバモイルフエ
ニル）メチル、２．４−ジカルバモイルフェニルフェニ
ルメチル、ビス（２，３，６−トリカルバモイルフエニ
ル）メチルのようなカルバモイル基で置換されたアラル
キル基：２−メトキシカルボニルベンジル、３−メトキ
シカルボニルベンジル、４−メトキシカルボニルベンジ
ル、２−エトキシカルボニルベンジル、３−エトキシカ
ルボニルベンジル、４−エトキシカルボニルベンジル、
２−メトキシカルボニルフェネチル、３−メトキシカル
ボニルフェネチル、４−メトキシカルボニルフェネチル
、２−エトキシカルボニルフェネチル、３−エトキシカ
ルボニルフェネチル、４−エトキシカルボニルフェネチ
ルのような低級アルコキシカルボニル基で置換されたア
ラルキル基及び２−ベンジルオキシカルボニルベンジル
、３−ベンジルオキシカルボニルベンジル、４−ベンジ
ルオキシカルボニルベンジル、２−ベンジルオキシカル
ボニルフェネチル、３−ベンジルオキシカルボニルフェ
ネチル、４−ベンジルオキシカルボニルフェネチル で置換されたアラルキル基を挙げることができる。 Ｒ１．Ｒ２．Ｒ３及びＲ４の定義における「低級アルコ
キシ基」、「置換基群Ｂ」の定義における「低級アルコ
キシ基」並びに「置換基群Ｃ」の定義における「低級ア
ルコキシ基」とは、前記「低級アルキル基」が酸素原子
に結合した基をいい、例えば、メトキシ、エトキシ、ロ
ープロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブ
トキシ、Ｓ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ローペントキシ
、イソペントキシ、２−メチルブトキシ、ネオペントキ
シ、ローへキシルオキシ、４−メチルペントキシ、３メ
チルペントキシ、２−メチルペントキシ、３．３−ジメ
チルブトキシ、２．２−ジメチルブトキシ、　１．１−
ジメチルブトキシ、１．２−ジメチルブトキシ、１．３
−ジメチルブトキシ、２．３−ジメチルブトキシのよう
な炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基を示
し、好適には炭素数１乃至４個の直鎖又は分枝鎖アルコ
キシ基である。 Ｒ１．Ｒ２．Ｒ３及びＲ４の定義における「ハロゲン原
子」、「置換基群Ｂ」の定義における「ハロゲン原子」
並びに「置換基群Ｃ」の定義における「ハロゲン原子」
とは、弗素、塩素、臭素又は沃素を示す。 Ｒ５の定義における「アルケニル基」及び「下記「置換
基群Ａ」より選択される基で１以上置換されたアルケニ
ル基」の「アルケニル基Ｊとは、２−フロベニル、１−
メチル−２−フロベニル、２−メチル−２−プロペニル
、２−エチル−２−プロペニル、２ブテニル、ｌ−メチ
ル−２−ブテニル、２−メチル−２ブテニル、１−エチ
ル−２−ブテニル、３−ブテニル、ｌ−メチル−３−ブ
テニル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−３−
ブテニル、２−ペンテニル、ｌ−メチル２−ペンテニル
、２−メチル−２−ペンテニル、３−ペンテニル、ｌ−
メチル−３−ペンテニル、２−メチル−３ペンテニル、
４−ペンテニル、ｌ−メチル−４−ペンテニル、２−メ
チル−４−ペンテニル、２−へキセニル、３−ヘキセニ
ル、４−へキセニル、５−へキセニルのような炭素数３
乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルケニル基を挙げることが
でき、好適には、炭素数３乃至４個の直鎖又は分枝鎖ア
ルケニル基である。 Ｒ５の定義における「アリール基」及び「下記「置換基
群Ｂ」より選択される基で１以上置換されたアリール基
Ｊの「アリール基」、「置換基群Ａ」の定義における［
アリール基Ｊ並びに［置換基群Ｃｊの定義における「ア
リール基」及び「上記「置換基群ＢＪより選択される基
で１以上置換されたアリール基」の「アリ−ル基」とは
、例えば、フェニル、ナフチルのような炭素数６乃至１
４個の芳香族炭化水素基を挙げることができ、好適には
フェニル基である。 尚、「「置換基群Ｂ」より選択される基で１以上置換さ
れたアリール基」としては、例えば、２−メチルフェニ
ル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、２−エ
チルフェニル、３−プロピルフェニル、４−エチルフェ
ニル、２−ブチルフェニル、３−ペンチルフェニル、４
−ペンチルフェニル、３．５−ジメチルフェニル、２．
５−ジメチルフェニル、２．６−ジメチルフェニル、２
．４−ジメチルフェニル、３，５−ジブチルフェニル、
２．５−ジブチルフェニル、２６−ジプロピルメチルフ
ェニル、２，４−ジプロピルフェニル、２，３，６−１
−ジメチルフェニル、２，３．４−トリメチルフェニル
、３，４．５−）ジメチルフェニル、２５６トリメチル
フエニル、２．４．６−１−リメチルフェル、２．３．
６−トリブチルフエニル、２，３．４−トリペンチルフ
ェニル、３．４．５−　）−リブチルフェニル、２５６
−トリプロビルメチルフエニル、　２，４．６−トリブ
ロビルフエニル、ｌ−メチル−２−ナフチル、２−メチ
ルｊ−ナフチル、３−メチル−１−ナフチル、）−エチ
ル２−ナフチル、２−プロピル−１−ナフチル、３−ブ
チル〜ｌ−ナフヂル、３．８−ジメチル−１−ナフチル
、２３−ジメチル−１−ナフチル、４．８−ジメチル−
Ｉ−ナフチル、５．５−ジメチル−】−ナフチル、３，
８−ジエチル１−ナフチル、２，３−ジプロピル利−ナ
フチル、４゜８−ジベンチルー１−ナフチル、５．６−
シプチルー１−ナフチル、２．３．６−１−１ツメチル
−】−ナフチル、２３４トリメチル−１−ナフチル、３
．４．５−トリメチル−１−ナフチル、４．５．６−１
−ジメチル−ｌ−ナフチル、２．４゜８−トリメチル−
１−ナフチルのような低級アルキル基で置換されたアリ
ール基；２−メトキシフェニル、３−メトキシフェニル
、４−メトキシフェニル、２−エトキシフェニル、３−
プロポキシフェニル、４エトキシフエニル、２−ブトキ
シフェニル、３−ペントキシフェニル、４−ペントキシ
フェニル、３．５−ジメトキシフェニル、２．５−ジメ
トキシフェニル、２゜６−ジメトキシフェニル、２，４
−ジメトキシフェニル、３．５−ジブトキシフェニル、
２．５−ジブトキシフェニル、２．６−ジプロポキシフ
ェニル、２６−ジイツブロポキシフエニル、２．４−ジ
プロポキシフェニル、２．３．６−トリメトキシフェニ
ル、２，３．４−１−ジメトキシフェニル、３，４．５
−トリメトキシフェニル、２．５．６−トリメトキシフ
ェニル、２゜４．６−１−ジメトキシフェニル、２．３
．６−トリブトキシフェニル、　２，３゜４−トリペン
トキシフェニル、３，４．５−トリブトキシフェニル、
２．５．６−トリブロポキシフエニル、２４６−トリブ
ロボキシフエニル、１−メトキシ−２−ナフチル、２−
メトキシ−１−ナフチル、３−メトキシ−１ナフチル、
１−エトキシ−２−ナフチル、２−プロポキシ−１〜ナ
フチル、３−ブトキシ−１−ナフチル、３，８ジメトキ
シ−１−ナフチル、２．３−ジメトキシ＝■−ナフチル
、４．８−ジメトキシ−１−ナフチル、５６−シメトキ
シー１−ナフチル、３，８−ジェトキシ−１−ナフチル
、２．３−ジプロポキシ−１−ナフチル、４．８−ジベ
ントキシー１−ナフチル、５．６−ジプトキシー１−ナ
フチル、２．３．６−１−リントキシ−１−ナフチル、
２，３．４１リメトキシ−１−ナフチル、３．４．５１
リメトキシｌ−ナフチル、４，５．６−ドリメトキシー
１−ナフチル、２．４．８−　ｈリメトキシーｌ−ナフ
チルのような低級アルコキシ基で置換されたアリール基
：２−フルオロフェニル、３−フルオロフェニル、４−
フルオロフェニル、２−クロロフェニル、３−クロロフ
ェニル、４クロロフエニル、２−ブロモフェニル、３−
ブロモフェニル、４−ブロモフェニル、３５−ジフルオ
ロフェニル、２．５−ジフルオロフェニル、２，６−ジ
フルオロフェニル、２，４−ジフルオロフェニル、３，
５−ジブロモフェニル、２．５−ジブロモフェニル、２
．６−ジクロロフェニル、２．４〜ジクロロフエニル、
２，３．６１リフルオロフエニル、２．３．４−トリフ
ルオロフェニル、３．４．５−トリフルオロフェニル、
２．５．６−）リフルオロフェニル、２４．６１−リフ
ルオロフェニル、２、３．６−トリブロモフェニル、２
．３．４−トリブロモフェニル、３．４．５−１−リブ
ロモフェニル、２，５．６−トリクロロフエニル、２，
４．６−１−ジクロロフェニル、１フルオロ−２−ナフ
チル、２−フルオロ−１−ナフチル、３−フルオロ−１
−ナフチル、ｌ−クロロ−２−ナフチル、２−クロロ−
１−ナフチル、３−ブロモー１−ナフチル、３，８−ジ
フルオロ−１−ナフチル、２．３−ジフルオロ−１−ナ
フチル、４．８−ジフルオロ−１−ナフチル、５．６−
ジフルオロ−Ｉ−ナフチル、３．８−ジクロロｌ−ナフ
チル、２．３−ジクロロ−１−ナフチル、４，８ジブロ
モ−１−ナフチル、５．６−ジブロモ利−ナフチル、２
，３．ロートリフルオロ−１−ナフチル、２．３．４−
トリフルオロ−１−ナフチル、３．４．５−トリフルオ
ロ−１ナフチル、４．５．６−ｈリフルオロ〜ｌ−ナフ
チル、２．４．８−トリフルオロ−１−ナフチルのよう
なハロゲン原子で置換されたア’ノール基：２−トリフ
ルオロメチルフェニル、３−トリフルオロメチルフェニ
ル、４−トリフルオロメチルフェニル、２−トリクロロ
メチルフェニル、３−ジクロロメチルフェニル、４−ト
リクロロメチルフェニル、２−トリブロモメチルフェニ
ル、３−ジブロモメチルフェニル、４−ジブロモメチル
フェニル、３．５−ビストリフルオロメチルフェニル、
２．５−ビストリフルオロメチルフェニル、２．６−ビ
ストリフルオロメチルフェニル、２，４ビストリフルオ
ロメチルフエニル、３．５−ビストリブロモメチルフェ
ニル、２．５〜ビスジブロモメチルフエニル、２，６−
ビスジクロロメチルメチルフェニル、２．４−ビスジク
ロロメチルフェニル、２，３．６−）リストリフルオロ
メチルフェニル、２，３．４−１＝ｊノストリフルオロ
メチルフエニル、３．４．５−１−リストリフルオロメ
チルフェニル、２．５．６−トリストリフルオロメチル
フエニル、２４６−１−リストリフルオロメチルフェニ
ル、２，３．６−トリストリブロモメチルフェニル、２
３４−トリスジブロモメチルフェニル、３，４．５−ト
リストリブロモメチルフェニル、２５６−トリスジクロ
ロメチルメチルフエニル、２．４６−トリスジクロロメ
チルフエニル、ｌ−トリフルオロメチル−２−ナフチル
、２−トリフルオロメチル１−ナフチル、３−トリフル
オロメチル−１−ナフチル、ｉ−トリクロロメチル−２
−ナフチル、２−ジクロロメチル−１−ナフチル、３−
トリブロモメチル−１ナフチル、３，８−ビストリフル
オロメチル−１−ナフチル、２，３−ビストリフルオロ
メチル−１−ナフチル、４．８−ビストリフルオロメチ
ル−１−ナフチル、５．６−ピスドリフルオロメチルー
１−ナフチル、３．８ビストリクロロメチル−１−ナフ
チル、２３−ビスジクロロメチル−１−ナフチル、４．
８−ビスジブロモメチル−１−ナフチル、５．６−ピス
トリブロモメチルｌ−ナフチル、２，３．６−ｈリスト
リフルオロメチルｌ−ナフチル、２．３．４−トリスト
リフルオロメチルｌ−ナフチル、３．４．５−トリスト
リフルオロメチル１−ナフチル、４．５．６−ドリスト
リフルオロメチル１−ナフチル、２，４．８−トリスト
リフルオロメチル１−ナフチルのようなハロゲノ低級ア
ルキル基で置換されたアリール基；２−アミノフェニル
、３−アミノフェニル、４−アミノフェニル、２−メチ
ルアミノフェニル、３−メチルアミノフェニル、４−メ
チルアミノフェニル、２−ジメチルアミノフェニル、３
−ジメチルアミノフェニル、４−ジメチルアミノフェニ
ル、３．５−ジアミノフェニル、２．５−ジアミノフェ
ニル、２．６−ジアミノフェニル、２．４−ジアミノフ
ェニル、２，３．６−トリアミノフェニル、２．３．４
−トリアミノフェニル、３．４．５−トリアミノフェニ
ル、２．５．６トリアミノフエニル、２４．６−トリア
ミノフェニル、ｌ−アミノ−２−ナフチル、２−アミノ
−１−ナフチル、３−アミノ−１−ナフチル、３．８−
ジアミノ−１−ナフチル、２．３〜ジアミノ−１−ナフ
チル、４．８−ジアミノ−１−ナフチル、５．６−ジア
ミツー１−ナフチル、２３．６−トリアミノ−１−ナフ
チル、２３４−トリアミノＩ−ナフチル、３，４５−ト
リアミノ−】−ナフチル、４、５．６−トリアミノ−１
−ナフチル、２，４．８−トリアミノ−１−ナフチルの
ような低級アルキル基で置換されていてもよいアミノ基
で置換されたアリール基：２−シアノフェニル、３−シ
アノフェニル、４−シアノフェニル、３．５−ジシアノ
フェニル、２５−ジシアノフェニル、２．６−ジシアノ
フェニル、２．４−ジシアノフェニル、２，３．６−１
−リシアノフェニル、２．３゜４−トリシアノフェニル
、３，４．５１リシアノフエニル、２，５．６−トリシ
アノフエニル、２．４．６−トリシアノフエニル、１−
シアノ−２−ナフチル、２−シアノ−１〜ナフチル、３
−シアノ−１−ナフチル、３．８−ジシアノ−１−ナフ
チル、２．３−ジシアノ−１−ナフチル、４８−ジシア
ノ−１−ナフチル、５．６−ジシアノ−１−ナフチル、
２，３．６−トリシアノ−ｌ−ナフチル、２，３．４−
トリシアノ−１−ナフチル、３，４．５−トリシアノ−
１−ナフチル、４，５．６−ドリシアノー１−ナフチル
、２，４．８トリシアノ−１−ナフチルのようなシアン
基で置換されたアリール基；２−カルボキシフェニル、
３−カルボキシフェニル、４−カルボキシフェニル、３
．５ジカルボキシフエニル、２．５−ジカルボキシフェ
ニル、２．６−ジカルボキシフェニル、２．４−ジカル
ボキシフェニルのようなカルボキシ基で置換されたアリ
ール基：２−カルバモイルフェニル、３−カルバモイル
フェニル、４−カルバモイルフェニル、３５−シカルバ
モイルフェニル、２．５−シカルバモイルフェニル、２
．６−ジカルバモイルフエニル、２，４−ジカルバモイ
ルフェニルのようなカルバモイル基で置換されたアリー
ル基；２−メトキシカルボニルフェニル、３−メトキシ
カルボニルフェニル、４−メトキシカルボニルフェニル
、２−エトキシカルボニルフェニル、３−エトキシカル
ボニルフェニル、４−エトキシカルボニルフェニル、２
−メトキシカルボニルナフチル、３−メトキシカルボニ
ルナフチル、４−メトキシカルボニルナフチル、２−エ
トキシカルボニルナフチル、３−エトキシカルボニルナ
フチル、４−エトキシカルボニルナフチルのような低級
アルコキシカルボニル基で置換されたアリール基及び２
−ベンジルオキシカルボニルフェニル、３−ベンジルオ
キシカルボニルフェニル、４−ベンジルオキシカルボニ
ルフェニル、２−ベンジルオキシカルボニルナフチル、
３−ベンジルオキシカルボニルナフチル、４−ベンジル
オキシカルボニルナフチルのようなアラルキルオキシカ
ルボニル基で置換されたアリル基を挙げることができる
。 Ｒ５の定義における「複素環基」及び［下記［置換基群
ＣＪより選択される基で１以上置換された複素環基」の
「複素環基」とは、硫黄原子、酸素原子又は／及び窒素
原子を１乃至３個含む、縮環していてもよい５乃至１４
員複素環基を示し、例えばフリル、チエニル、ピロリル
、アゼピニル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピラ
ゾリル、イミダゾリル、オキサシリル、イソキサゾリル
、チアゾリル、イソチアゾリル、１，２．３−オキサジ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリ
ル、ピラニル、ピリジル、キノリル、イソキノリル、ベ
ンゾオキサシリル、ベンゾチアゾリル、ピリダジニル、
ピリミジニル、ピラジニル及びこれらの基に対応する、
部分若しくは完全還元型の基を拳げることかでき、好適
には、窒素原子を少なくとも１個含み、酸素原子又は硫
黄原子を含んでいてもよく、また、縮環していてもよい
５乃至１４員複素環基を示し、例えば、ピロリル、アゼ
ピニル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピラゾリル
、イミダゾリル、オキサシリル、インキサゾリル、チア
ゾリル、イソチアゾリル、１．２３−オキサジアゾリル
、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピリ
ジル、ベンゾオキサシリル、ベンゾチアゾリル、ピリダ
ジニル、ピリミジニル、ピラジニル及びこれらの基に対
応する、部分若しくは完全還元型の基を挙げることがで
き、さらに好適には、ピリジル、チアゾリル、インチア
ゾリル、チアゾリジニル、［４，５］−シクロペンチッ
チアゾリル、［４，５］−シクロヘキシノチアゾリル及
び［４，５］−シクロヘキシノオキサゾリルである。 Ｒ５の定義における「シクロアルキル基」とは、シクロ
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロへブチル、８−アダマンチルのような、縮
耶していてもよい３乃至１４員飽和環状炭化水素基を示
し、好適には５乃至１４員飽和環状炭化水素基である。 「置換基群Ａ」の定義における［低級アルキルチオ基」
とは、前記「低級アルキル基」が硫黄原子に結合した基
をいい、例えば、メチルチオ、エチルチオ、ロープロピ
ルチオ、イソプロピルチオ、ｎ−ブチルチオ、イソブチ
ルチオ、Ｓ−ブチルチオ、ｔ−ブチルチオ、ｎ−ペンチ
ルチオ、イソペンチルチオ、２−メチルブチルチオ、ネ
オペンチルチオ、ｎ−へキシルチオ、４−メチルペンチ
ルチオ、３−メチルペンチルチオ、２−メチルペンチル
チオ、３．３−ジメチルブチルチオ、２．２−ジメチル
ブチルチオ、１．１ジメチルブチルチオ、１．２−ジメ
チルブチルチ、才、１．３−ジメチルブチルチオ、２．
３−ジメチルブチルチオのような炭素数１乃至６個の直
鎖又は分枝鎖アルキルチオ基を示し、好適には炭素数１
乃至４個の直鎖又は分枝鎖アルキルチオ基である。 「置換基群Ａ」及び「置換基群Ｂ」の定義における「低
級アルコキシカルボニル基」とは、前記「低級アルコキ
シ基Ｊがカルボニルに結合した基をいう。 「置換基群Ａ」及び［置換基群ＢＪの定義における［ア
ラルキルオキシカルボニル基」とは、後記［アラルキル
オキシ基Ｊがカルボニルに結合した基をいう。 「置換基群Ｂ」の定義における［低級アルキル基で置換
されていてもよいアミノ基」とは、例えば、アミノ基、
メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチ
ルアミノ、ロープロピルアミノ、イソプロピルアミノ、
ｎ−ブチルアミノ、イソブチルアミノ、Ｓ−ブチルアミ
ノ、ｔ−ブチルアミノ、ｎ−ペンチルアミノ、イソペン
チルアミノ、２メチルブチルアミノ、ネオペンチルアミ
ノ、ローへキシルアミノ、４−メチルペンチルアミノ、
３−メチルペンチルアミノ、２−メチルペンチルアミノ
、３３−ジメチルブチｊトアミン、２？−ジメチルブチ
ルアミノ、１．１−ジメチルブチルアミノ、１．２−ジ
メチルブチルアミノ、１．３−ジメチルブチルアミノ、
２．３ジメチルブチルアミノのような、１又は２個の炭
素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキルで置換された
アミノ基を示し、好適にはｌ又は２個の炭素数１乃至４
個の直鎖又は分枝鎖アルキルで置換されたアミノ基であ
る。 「置換基群Ｃ」の定義における［ハロゲノ低級アルキル
基」とは、例えば、トリフルオロメチル、トリクロロメ
チル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメ
チル、フルオロメチル、クロロメチル、２，２．２−）
ジクロロエチル、２．２．２トリフルオロエチル、２−
ブロモエチル、２−クロロエチル、２−フルオロメチル
、２．２−ジブロモエチルのようなハロゲン原子で置換
された前記「低級アルキル基」を示す。 シウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属の
塩等の金属塩：弗化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、
沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸塩、硝酸塩、過
塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩：メタンスルホ
ン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスル
ホン酸塩のような低級アルキルスルホン酸塩、ベンゼン
スルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩のようなアリ
ールスルホン酸塩、フマール酸塩、コハク酸塩、クエン
酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩等の有機酸塩及
びグルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸
塩を挙げることができる。 「置換基群ＣＪの定義における［アラルキルオキシ基」
とは、前記［アラルキル基Ｊが酸素原子に結合した基を
いう。 本発明の化合物ｆＩｌ　は、分子内に不斉炭素を有し、
各々が　Ｒ＆位、Ｓ配位である立体異性体が存在するが
、その各々、或いはそれらの混合物の本発明の化合物ｆ
Ｉｌは、塩にすることができるが、そのような塩として
は、好適にはナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカ
リ金属の塩、カル本発明の抗潰瘍剤に含有される化合物
（Ｉ）において、好適な化合物としては、 Ｔｌ）　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４が、同−又は異なっ
て、水素原子、低級アルキル基、＠級アルコキシ基又は
ハロゲン原子である化合物１２）Ｒ１が、低級アルキル
基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子である化合物 ＋３１Ｒ２及びＲ３が、同−又は異なって、水素原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子で
ある化合物 （４’ＩＲ４が、水素原子、低級アルキル基又はハロゲ
ン原子である化合物 （５）Ａが、硫黄原子又はスルホキシド基である化合物 （６）Ａが、硫黄原子である化合物 ＋７ｊＲ５が、下記「置換基群Ａ」より選択される基で
】以上置換された低級アルキル基、下記［置換基群ＢＪ
より選択される基で１以上置換されたアリール基、複素
環基又は下記［置換基群Ｃ］より選択される基で１以上
置換された複素環基である化合物 「置換基群Ａ」 アリール基、水酸基、シアノ基、低級アルキルチオ基、
低級アルコキシカルボニル基及びアラルキルオキシカル
ボニル基。 「置換基群Ｂ１ 低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ハ
ロゲン低級アルキル基、低級アルキル基で置換されてい
てもよいアミノ基、シアノ基、カルボキシ基、カルバモ
イル基、低級アルコキシカルボニル基及びアラルキルオ
キシカルボニル基。 「置換基群Ｃ」 低級アルキル基、ハロゲ、ノ低級アルキル基、低級アル
コキシ基、ハロゲン原子、オキソ基、アリール基、上記
「置換基群Ｂ」より選択される基で１以上置換されたア
リール基及びアラルキルオキシ基。 （８１Ｒ５が、下記［置換基群Ａ’Ｊより選択される基
で１以上置換された低級アルキル基、下記「置換基群Ｂ
’Ｊより選択される基で１以上置換されたアリール基、
複素環基又は下記「置換基群Ｃ’Ｊより選択される基で
１以上置換された複素環基である化合物 ［置換基群Ａ’　Ｊ アリール基、低級アルコキシカルボニル基及びアラルキ
ルオキシカルボニル基。 ［置換基群Ｂ゛ 低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アルキル基で置換
されていてもよいアミノ基、低級アルコキシカルボニル
基及びアラルキルオキシカルボニル基。 Ｆ置換基群Ｃ゛ 低級アルコキシ基、ハロゲン原子、アリール基及び上記
［置換基群Ｂ１より選択される基で１以上置換されたア
リール基。 本発明の抗潰瘍剤に含有される化合物は、公知の化合物
であるか、又は、以下に２載するような常法に従って製
造される。 （Ｉｔ、’） 上記式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＡは前記
と同意義を示し、Ｘは、塩素、臭素、沃素のようなハロ
ゲン原子又はメタンスルホニルオキシ、エタンスルホニ
ルオキシのような低級アルカンスルホニルオキシ基、ト
リフルオロメタンスルホニルオキシ、ペンタフルオロエ
タンスルホニルオキシのようなハロゲノ低級アルカンス
ルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−ト
ルエンスルホニルオキシのようなアリールスルホニルオ
キシ基等のスルホニルオキシ昂の脱離基を示す。 第１工程は、アントラニル化合物（ＩＩＩのアミン基を
、亜硝酸ナトリウムのような亜硝酸金属塩によりジアゾ
化した後、硫化ナトリウムのような硫化金属化合物と反
応させ、メルカプト基に変換し、化合物（ＩＨＩを製造
する工程である。 反応は、オーガニック・シンセシス、合冊第２巻、５８
０頁に記載の方法：カッッ等の方法（ジャーナル・オブ
・オーガニック・ケミストリ１８巻、１３８０頁、１９
５３年）又はデイビス等の方法（アドバンス・ヘテロサ
イクリック・ケミストリー１１４巻、４３頁、１９７２
年）に従って行われる。 第２工程は、化合物ｆＩＩＩ）のカルボキシ基を、常法
に従って、活性化されたカルボキシ基＋−ＣＯＸ＋に変
換し、化合物（ＩＶＩを製造する工程であり、例えば、
Ｘがハロゲン原子の場合には、常法に従って、チオニル
クロリド、チオニルプロミド、チオニルアイオグイドの
ようなチオニルハライド類、スルフリルクロリド、スル
フリルプロミド、スルフリルアイオダイドのようなスル
フリルハライド類、三塩化填、三臭化燐、三沃化燐のよ
うな三ハロゲン化ｔＡ頚、五塩化燐、五臭化燐、五沃化
燐のような五ハロゲン化＃４頌又はオキシ塩化燐、オキ
シ臭化燐、オキシ沃化燐のようなオキシハロゲン化燐類
を用いてハロゲン化を行うことができ、好適には、チオ
ニルハライド類及びオキシハロゲン化填印を使用する。 Ｘが、スルホニルオキシの場合は、常法に従って、メタ
ンスルホニルクロリド、エタンスルホニルクロリド、メ
タンスルホニルプロミド、エタンスルホニルプロミド、
ｐ−トルエンスルホニルクロリド、ベンゼンスルホニル
クロリドのようなスルホニルハライド類を用いて行う。 第３工程は、化合物ｆｌＶｌ　ト一般式Ｒ５−Ｎｌ２　
　（式中、Ｒ５は前記と同意義を示す。）を有する化合
物を、溶媒中、塩基の存在下に反応させ、更に、所望に
より、硫黄原子を酸化させ、本発明の抗潰瘍剤に含有さ
れる化合物ｍ　を製造する工程である。 本工程で、使用される溶媒としては、反応を阻害せず、
出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はな
いが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石
油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素類：メチレンク
ロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化
炭化水素類ニジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ
ーテル類を挙げることができる。 使用される塩基としては、通常の反応において塩基とし
て使用されるものであれば特に限定はないが、好適には
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭
酸塩：炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩：水素化リチウム、水素化ナト
リウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物
：水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バｒ）ラ
ムのようなアルカリ金属水酸化物等の無機塩基類：ナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシドのようなアル
カリ金属アルコキシド顎、メチルメルカプタンナトリウ
ム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプタ
ンアルカリ金属類ニトリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、シイソブロビルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、ピリジン、４−　（Ｎ、　Ｎ−ジメチルアミノ）ピ
リジン、Ｎ、Ｎジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジエチルア
ニリン、１．５ジアザビシクロＩ４．３．０］　ノナ−
５−エン、１．４−ジアザビシクロ［２，２，２］オク
タン（ＯＡＢＧＯＩ　、　１．８−ジアザビシクロ［５
，４，［ｌ］　ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）のような
有機塩基類又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピ
ルアミドのような有機金属塩基類を挙げることができる
。 反応温度は０℃乃至５０℃で行なわれるが、好適には、
５℃乃至３０℃である。 反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒の種類によって異なるが１通常１時間乃至１日間で
ある。 所望の工程である酸化反応に使用される溶媒としては、
反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであ
れば特に限定はないが、好適には、ベンゼン、トルエン
、キシレンのような芳香族炭化水素類：メチレンクロリ
ド、クロロホルムのようなハロゲン化炭往水素顔：エー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タンのようなエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類ニジメチルスルホキシドのようなスルホ
キシド頚：水：アセトン、メチルエチルケトンのような
ケトン類又はアセトニトリルのようなニトリル類を挙げ
ることができる。 また、使用される試薬は、比較的緩和な酸化剤であれば
、特に限定はないが、好適には、二酸化マンガンのよう
な酸化マンガンが、クロム酸のようなりロム酸部、四酸
化ルテニウムのような酸化ルテニウム頚等の無機酸化剤
：メタクロロ過安君香酸、過酢酸のような有機過酸、酸
化バナジウムアセチルアセトネートのような触媒の存在
下における過酸化ｔ−ブタノールのような過酸化物又は
、いわゆるＤＭＳＯ酸化に使用される試薬（ジメチルス
ルホキシドとジシクロへキシルカルボジイミド、オキザ
リルクロリド、無水酢酸若しくは五酸化燐との錯体又は
ピリジン−無水硫酸の錯体）である。 反応温度は０℃乃至］００”Ｃで行なわれ、反応時間は
、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類
によって異なるが１通常３０分乃至２４時間である。 上記各反応終了後、反応の目的化合物は、常法に従って
反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜
中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去
した後、水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤
を留去することによって得られる。 得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶
、再沈殿又はクロマトグラフィー等にょ［効果］ ｉｎ　ｖｉｔｒｏにおけるＨ”、Ｋ”−ＡＴＰａｓｅ　
　”作ブタの新鮮な胃底腺よりサッコマーニ （Ｓａｃｃｏｍａｎ　ｉ　）らの方法［Ｊ、Ｂｉｏｌ、
Ｃｈｅｍ、、　２５１巻。 ７６９０頁（１９７６年）］に従い、調製したミクロシ
ム画分をＨ”、に’−ＡＴＰａｓｅ酵素標本として使用
した。 被験化合物をジメチルスルホキシドに溶解した液ｌＯμ
氾に、タンパク質量に換算して２０〜４０ｕｇの酵素標
本を含む４０ｍ１Ｊ　トリス−酢酸緩衝液（２ｎ＋Ｍ塩
化マグネシウム、２０；！塩化カリウム、ｐ’ｔｉ７．
４）　１１．９　ｍｌを加え、３７℃で３００分間反応
せた。酵素反応は２０ｍＭ　ＡＴＰ−２Ｎａ溶ＭＯ，１
ｍｌを加えることにより開始し、３７℃で８分間反応さ
せた。Ｉ（１０ｍｇの活性炭を含む１０％トリクロロ酢
酸混液１　　ｍｌを加え反応を停止させた。反応液を遠
心分Ｗｊｆｔ、　（３０００ｒｐｍ、　１５分）後、そ
の上澄液中の無機燐酸濃度を、フィスケ・サバロウの方
法［Ｊ、Ｂｉｏｌ、Ｃｈｅｍ、、　６６巻、３７５頁１
１９２５年）］で比色定量した。また２０ｍＭｊｇ化カ
リウム非存在下での反応液中の無機ｔ１４１１ｉ量も同
様にして求め、２０ｍＭ塩化カリウム存在下の量から差
し弓くことによりＩｌ”、　Ｋ”−ＡＴＰａｓｅ活性を
求めた。 コントロール活性値と被験化合物菌濃度に於ける活性値
から阻害率％を求め、Ｈ”　、Ｋ　”−ＡＴＰａｓｅに
対する阻害率又は５０％阻害濃度（ＩＣ５゜）を求めた
。 その結果は表１にまとめた。 尚、表中、 Ａｄａは、アダマンチル基、 ｉＢｕは、イソブチル基、 ｔＢｕは、ｔ−ブチル基、 Ｂｚは、ベンジル基、 ＣＰＴは、シクロペンタ［ｂ］　チアゾール基、ＥＣは
、エトキシカルボニル基、 ＩＴＩＩＩは、イソチアゾール基、 ＭＣは、メトキシカルボニル基、 ＮＡは、β−ナフチル基。 ｐｈは、フェニル基、 ｉＰｒは、イソプロピル基、 Ｐｙｒは、ピリジル基、 ＴＨＢＯは、６−メチル−４，５，６，７−チトラヒド
ロペンゾオキサゾール基、 ＴＨＢＴは。 基、 ＴＨＦは、 ＴＨＩは、 ＴＨＩＤは、 ４．５，６．７ テトラヒドロベンゾチアゾール テトラヒドロフラン基、 チアゾール基、 チアゾリジニル基、 上記のように本願発明化合物（ｌｌは、優れたＨ’／Ｋ
”　ＡＴＰａｓｅ阻害作用を有し、ヒトの胃腸病等、例
えば胃又は十二指腸潰瘍、又はゾーリンガエリソン症候
群等の予防又は治療に有用である。 本発明化合物ｆＩ）の投与形態としては、例えば、錠剤
、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤などに
よる経口投与、又は注射若しくは坐剤などによる非経口
投与を挙げることができる。 その使用量は症状、年令などにより異なるが、１日０．
１−１００ｍｇ／ｋｇ体重で、１回または数回に分けて
投与することができる。 次に製造例及び今考例を挙げて本発明の抗潰瘍剤に含有
される化合物の製造について、また、製剤例を挙げて本
発明について、更に具体的に説明する。 製造例１ 参考例２にて合成した、酸クロリド３００　ｍｇを無水
塩化メチレン２０　ｍｌに溶解し、水冷下塩素ガスの塩
化メチレン溶液（ｌ、５倍モル等量）を加え、約２０分
間撹拌した。溶媒留去後、２．６−ジイツブロピルアニ
リン０１３ｎ＋１（２モル等量）、トリエチルアミンｏ
、４ｓ　ｍ１１４モル等量）の無水塩化メチレン＋２０
ｍ１）溶液を水冷上滴下した。１時間撹拌後、水洗し、
硫酸マグネシウムにて乾燥した。残渣をラビットクロマ
トグラフィーにて精製（シリカゲルＴＬＣ、Ｒｆ＝０．
２＋塩化メチレンにて展開））シて、３５０　ｍｇの目
的化合物を得た。 融点＝１６２℃。 ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム）δ　ｐｐｍ　：１
．０５ｆ１２Ｈ，ｄ、Ｊ・７　Ｈｚｌ　；　２．２２（
３）１．ｓ）　；　２．６３（２Ｈ１ｑｑＪ＝７　Ｈｚ
ｌ；　７．０−８．０（６Ｈ，ｍｌ。 マススペクトル１ｍ／ｅｌ　：　３２５赤外吸収スペク
トル （ＫＢｒ）　　　ｖ　ｍａｘ　　Ｃ＋ｍ−１：１６７５
、１３６０、１３００ 製造例３ 製造例２ 参考例２によって得た、酸クロリド体２ｇを無水塩化メ
チレン３０　ｍｌに溶解し、トリエチルアミンＬ８　ｍ
Ｎ２．４モル等量）を加えた。水冷下４−フルオロアニ
リン１．１２　ｇ（１２モル等Ｍ）を加え、全体を１時
間攪拌した。水洗後、硫酸マグネシウムにて乾燥し、生
成物をクロマトグラフィーにて精製し［Ｒｆ・０，５．
　　シクロヘキサン：酢酸エチル＝２＝１で展開）　、
　７００　ｍｇの目的化合物を得た。 融点：　１１３℃ ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム）δ　ｐｐｍ　：６
．４−８．２（８Ｂ、ｍｌ。 マススペクトルｔｍ／ｅ）：　２４５ 赤外吸収スペクトル　（ヌジョール）νｍａｘ　ｃｍ−
］１６５Ｇ、　１４６０．１３８０　１３２０参考例２
によって得た、酸クロリド体２００ｍｇを無水塩化メチ
レン１５　ｍｌに溶解した。この溶液に、水冷下、塩素
ガスの塩化メチレン溶液（１，５モル等量）を加え、約
２０分間撹拌した。温媒を留去後、２−クロロ−４−ア
ミノピリジン１５２　ｗ＋ｇ（２モル等量）及びトリエ
チルアミン０−３３　ｍｌ（４，４モル等量）の無水塩
化メチレン２Ｑ　ｒ：ｌ溶液に、上述の粗スルフェニル
クロリド体の塩化メチレン溶液を水冷上滴下した。全体
を１時間撹拌後、水洗し、硫酸マグネシウムにて乾燥し
た。（δ媒を留去すると、結晶が析出するので、エーテ
ルで洗浄し、目的化合物１２０　ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム）δ　ｐｐｍ２．４
ｆ３Ｈ，ｓｌ；　７．４４（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５　Ｈｚｌ
；　７．５ｆｌＨ，ｓ）；　７．７８．２（３Ｈ１ｍｌ
；　８．４５ｆｌＨ，ｄ、Ｊ＝５　Ｈｚｌ。 マススペクトル　ｆｍ／ｅｌ　：　２７６赤外吸収スペ
クトル　１ＫＢｒｌ　　ｖ　ｗ＋ａｘ　ｃｍ−１：マス
スペクトル１ｍ／ｅ）：　２６１ １７１０、　１５７Ｂ、　　１４６８．　１２８１．　
１０８１、赤外吸収スペクトル　（ヌジョール）　νｍ
ａｘ　ｃｍ−１：１７０口、　　１４６０．　１３８０
．　１３１０．１２２５．　１０８０１．３−ジオン 参考例１．２及び製造例２の方法に準じて合成した、２
−（４−フルオロフェニル）−ベンゾイソチアゾリン−
３−オン（融点１１３℃）　３６０　ｗｘＢを１５　ｎ
ｉｌの塩化メチレンに溶解し、水冷下、２５３　ｍｇｉ
ｌ当量）のｍ−クロロ過安息香酸を加え、全体を室温に
て１５時間撹拌した。溶媒を留去し、酢酸エチルを加え
、希重曹水、ついで水で洗浄後、硫酸マグネシウムにて
乾燥した。溶媒を留去後、生成物をシリカゲル分取孔Ｃ
にて精製しくＲｆ＝０．３．　　シクロヘキサンニ酢酸
エチル＝２：ｌにて展開）、目的化合物３００　ｍｇを
得た。 融点二１２９℃。 ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム）δ　ｐｐｍ　：６
、３−８．３　ｆ８Ｈ，ｍ１ ５００　ｏｗｌの三頚フラスコに５．７ｇの硫化ナトリ
ウム・９水塩、７３０　ＩＩＩｇの硫黄（Ｓ８）、７　
ｍｌの水を順次加え、加熱溶解した。冷後、水冷下に、
水酸化ナトリウム８７０　ｍｇの２．５　ｍｌ水溶液を
加え、そのまま撹拌した。一方、３−メチルアントラニ
ル酸３７５ｇに１００　ｍｌの水と４．５　ｍｌ濃塩酸
を加え、溶解し、水冷下、亜硝酸ナトリウム１．５　ｇ
の６　ｍｌ水溶液を加え、室温まで反応温度を上げて作
ったジアゾ体を上記溶液に加え、１時間撹拌した。濃塩
酸を加え、酸性として、結晶を濾過した。得られた結晶
を１０％炭酸ナトリウム水に溶解し、不純物を取り除き
、濃塩酸にて酸性とし、目的化合物３ｇを結晶として得
た。 竪２目ｉλ 上記の如くして得た。カルボンＭ２．８ｇをトルエン４
０　ｍｌに溶解し、−更に、ジメチルホルムアミド５滴
とチオニルクロリド１．２２　ｖｒｌ（２倍モル）を加
え、１時間還流した。溶媒を留去すると結晶が得られ、
ｎ−ヘキサンで洗浄して、目的化合物を。 定量的に得た。 製造例１　（ハードカプセル剤） 標準二分式ハードゼラチンカプセルの各々に、ｌＯ〜１
００　ｍｇの粉末状活性成分、　１５０　ｗｉｇのラク
トース、５０　ｍｇのセルロース及び６１ＩＩｇのステ
アリン酸マグネシウムを充填することにより、単位カプ
セルを製造した。 製造例２（経測） 常法に従って、１０−１００　ｍｇの活性成分、０．２
ｍｇのコロイド性二酸化珪素、５　ｍｇのステアリン酸
マグネシウム、２７５　＋ｎｇの微結晶性セルロース、
】１ｍｇのデンプン及び９８４　ｍｇのラクトースを用
いて製造した。 製造例３（よ里方） ０．１５〜１．５重量％の活性成分を、ｌＯ容量ｉのプ
ロピレングリコール中で撹拌し、次いで、注射用水で一
定容量にした後、滅菌して製造した。 製造例４（乳漫１） ５＝１中に、１０〜１００１ｆ＋ｇの微粉１ヒ活性成分
、１００ｍｇのナトリウムカルボキシメチルセルロース
、５ｍｇの安息香酸ナトリウム及びｌｏｇのソルビトル
溶液　（日本薬局方）を含有するように製造した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、 Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、同一又は異なって、水素
   原子、低級アルキル基、アラルキル基、下記「置換基群
   Ｂ」より選択される基で１以上置換されたアラルキル基
   、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を示し、 Ａは、硫黄原子、スルホキシド基又はスルホン基を示し
   、 Ｒ５は、水素原子、低級アルキル基、下記「置換基群Ａ
   」より選択される基で１以上置換された低級アルキル基
   、アルケニル基、下記「置換基群Ａ」より選択される基
   で１以上置換されたアルケニル基、アリール基、下記「
   置換基群Ｂ」より選択される基で１以上置換されたアリ
   ール基、複素環基、下記「置換基群Ｃ」より選択される
   基で１以上置換された複素環基又はシクロアルキル基を
   示す。）で表わされるベンゾイソチアゾロン誘導体或は
   その塩を含有する潰瘍の予防若しくは治療剤。 「置換基群Ａ」 アリール基、水酸基、シアノ基、低級アルキルチオ基、
   低級アルコキシカルボニル基及びアラルキルオキシカル
   ボニル基。 「置換基群Ｂ」 低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ハ
   ロゲノ低級アルキル基、低級アルキル基で置換されてい
   てもよいアミノ基、シアノ基、カルボキシ基、カルバモ
   イル基、低級アルコキシカルボニル基及びアラルキルオ
   キシカルボニル基。 「置換基群Ｃ」 低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコ
   キシ基、ハロゲン原子、オキソ基、アリール基、上記「
   置換基群Ｂ」より選択される基で１以上置換されたアリ
   ール基及びアラルキルオキシ基。