JPH0476973A - レーザ発振器 - Google Patents
レーザ発振器Info
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- JPH0476973A JPH0476973A JP19028990A JP19028990A JPH0476973A JP H0476973 A JPH0476973 A JP H0476973A JP 19028990 A JP19028990 A JP 19028990A JP 19028990 A JP19028990 A JP 19028990A JP H0476973 A JPH0476973 A JP H0476973A
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- mirror
- wedge
- laser oscillator
- laser
- optical axis
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 48
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザ発振器に関し、特にレーザ発振器におけ
る共振系を構成するフロントミラー、リアミラーのうち
の少なくとも一つの断面形状が曲率を有するミラーとし
て構成されるレーザ発振器に関する。
る共振系を構成するフロントミラー、リアミラーのうち
の少なくとも一つの断面形状が曲率を有するミラーとし
て構成されるレーザ発振器に関する。
従来のこの種のレーザ発振器を第4図に示す。
第4図において、2はレーザ媒質としてのYAGロッド
、4はYAGロッド2から出射される光を全反射するり
アミラーとしてのポロプリズム、5は断面が曲率を有す
るフロントミラーとしての出力ミラーであり、レーザ発
振波長に対してYAGロッド2からこの出力ミラー5に
向って出射される光の一部をレーザ発振器外に出力し、
残りをレーザ発振器内にフィードバックし出力ミラー5
とポロプリズム4は共振系を形成する。またウェッジ6
は光軸100を中心として回転し、レーザ発振器の光軸
100上におけるアライメントを微調整するものである
。
、4はYAGロッド2から出射される光を全反射するり
アミラーとしてのポロプリズム、5は断面が曲率を有す
るフロントミラーとしての出力ミラーであり、レーザ発
振波長に対してYAGロッド2からこの出力ミラー5に
向って出射される光の一部をレーザ発振器外に出力し、
残りをレーザ発振器内にフィードバックし出力ミラー5
とポロプリズム4は共振系を形成する。またウェッジ6
は光軸100を中心として回転し、レーザ発振器の光軸
100上におけるアライメントを微調整するものである
。
このような構成で成る従来のレーザ発振器は、第4図に
示すように、レーザ発振器のレーザ共振系を構成するフ
ロントミラーとリアミラーの少なくとも一方、第4図の
場合はフロントミラーとしての出力ミラー5が凹面鏡の
如く曲率断面を有するものが利用されていた。
示すように、レーザ発振器のレーザ共振系を構成するフ
ロントミラーとリアミラーの少なくとも一方、第4図の
場合はフロントミラーとしての出力ミラー5が凹面鏡の
如く曲率断面を有するものが利用されていた。
このようなレーザ発振器で所定のエネルギーの出光を確
保するには、各構成部品のクイナミックな光軸一致、い
わゆるアライメント調整が必要である。
保するには、各構成部品のクイナミックな光軸一致、い
わゆるアライメント調整が必要である。
上述した従来のレーザ発振器の調整は、粗調整と微調整
の2段階で行なわれている。
の2段階で行なわれている。
粗調整のレイアウトを第5図(a)、 (b)に示す。
粗調整は、第5図(a)に示すように、出力ミラー5を
曲率を持たない平面ミラー7に交換し、中心軸を光軸に
一致させて配設したオートコリメータ9によって平面ミ
ラー7に対するポロプリズム4の傾きを、測定しながら
正対するように、ポロプリズム4の傾きをマウントを介
して調整することによって行なわれる。
曲率を持たない平面ミラー7に交換し、中心軸を光軸に
一致させて配設したオートコリメータ9によって平面ミ
ラー7に対するポロプリズム4の傾きを、測定しながら
正対するように、ポロプリズム4の傾きをマウントを介
して調整することによって行なわれる。
オートコリメータ9は、集束光を所望のバクーンの光像
を形成するスリットに通して試験光として送出するもの
で、たとえばスリットによって十字形の光像を形成した
場合、この試験光は、第5図(b)に示ス如く、フロン
トミラーたる平面ミラー7による反射によって得られる
反射線は実線で示す如く、またリアミラーたるポロプリ
ズム4の反射線は破線で示す如くオートコリメータ9視
野11に表示される。この実線と破線による2つの反射
線を合致させるように平面ミラー7に対するポロプリズ
ム4の傾きを調整することが粗調整である。
を形成するスリットに通して試験光として送出するもの
で、たとえばスリットによって十字形の光像を形成した
場合、この試験光は、第5図(b)に示ス如く、フロン
トミラーたる平面ミラー7による反射によって得られる
反射線は実線で示す如く、またリアミラーたるポロプリ
ズム4の反射線は破線で示す如くオートコリメータ9視
野11に表示される。この実線と破線による2つの反射
線を合致させるように平面ミラー7に対するポロプリズ
ム4の傾きを調整することが粗調整である。
粗調整に引続いて行なう微調整は、平面ミラー7を曲率
を有する出力ミラー5と換装し、実際にレーザ発振を行
なわせ、ウェッジ6を光軸口りに少しづつ回転させなが
らその都度レーザ圧力を測定し、レーザ8力が最高とな
るアライメント状態にウェア960回転位置を設定する
ことによって行なわれる。
を有する出力ミラー5と換装し、実際にレーザ発振を行
なわせ、ウェッジ6を光軸口りに少しづつ回転させなが
らその都度レーザ圧力を測定し、レーザ8力が最高とな
るアライメント状態にウェア960回転位置を設定する
ことによって行なわれる。
上述したように、従来のレーザ発振器の調整では、粗調
整と微調整の段階で、平面ミラー7と出力ミラー5の交
換を行なう必要がある。そのため、粗調整の段階で、オ
ートコリメータ9によって、平面ミラー7に対するポロ
プリズム4の傾きを測定しながら調整し正確に正対させ
たとしても、出力ミラー5と平面ミラー7の加工及び組
立て精度の範囲内で7ライメントがズしてしまう。その
ズレの原因は、主に (1) マウントの加工精度 (2)マウントへの光学部品の接着工事精度(3)光学
部品の加工精度 である。よって、微調整では、ウェッジ6を回転するこ
とによって、このアライメントズレを再調整することに
なる。したがって、ウェッジ6ば、上述した3つの原因
のアライメントズレを調整できるだけの修正角、いわゆ
るウェッジ角が必要となる。微調整は、ウェッジ6を回
転することによって行なわれるので、ウェッジ角が大き
くなると、その分、ウェッジ6の回転に対するアライメ
ント分解能が低下するので、アライメント調整精度が低
下するという欠点がある。
整と微調整の段階で、平面ミラー7と出力ミラー5の交
換を行なう必要がある。そのため、粗調整の段階で、オ
ートコリメータ9によって、平面ミラー7に対するポロ
プリズム4の傾きを測定しながら調整し正確に正対させ
たとしても、出力ミラー5と平面ミラー7の加工及び組
立て精度の範囲内で7ライメントがズしてしまう。その
ズレの原因は、主に (1) マウントの加工精度 (2)マウントへの光学部品の接着工事精度(3)光学
部品の加工精度 である。よって、微調整では、ウェッジ6を回転するこ
とによって、このアライメントズレを再調整することに
なる。したがって、ウェッジ6ば、上述した3つの原因
のアライメントズレを調整できるだけの修正角、いわゆ
るウェッジ角が必要となる。微調整は、ウェッジ6を回
転することによって行なわれるので、ウェッジ角が大き
くなると、その分、ウェッジ6の回転に対するアライメ
ント分解能が低下するので、アライメント調整精度が低
下するという欠点がある。
上述した欠点を第4図を参照してさらに詳細に説明する
。第4図の従来例は、リアミラーとしてポロプリズム4
を使用しているので、ウェッジ6を回転させた場合、ア
ライメントに効いてくる成分は、ポロプリズム4の稜線
にすなわち点Pでの紙面に垂直方向の稜に平行な角度成
分だけとなる。
。第4図の従来例は、リアミラーとしてポロプリズム4
を使用しているので、ウェッジ6を回転させた場合、ア
ライメントに効いてくる成分は、ポロプリズム4の稜線
にすなわち点Pでの紙面に垂直方向の稜に平行な角度成
分だけとなる。
つまり、(1)式のようになる。ポロプリズム4の稜線
に関して回転する方向の光軸の傾きに対しては反射光が
光軸に平行に反射するので7ライメントに対する影響は
ない。
に関して回転する方向の光軸の傾きに対しては反射光が
光軸に平行に反射するので7ライメントに対する影響は
ない。
α=β*5IN(θ) ・・・・・・(
1)ここで、α:ウェッジ6のポロプリズム4の稜線に
平行な角度成分 β:ウェッ:、;6による光軸の振れ角θ:ニラエツジ
回転角(光軸の振れ角 かポロプリズム4の稜線に直交す る軸上にあるときを0とする。) 従って、ウェッジ6のウェッジ角が大きくなれば、ウェ
ッジの回転角に対してウェッジ6による光軸の振れ角が
大きくなり、それだけ、ある回転角度量に対するポロプ
リズム4の稜線に平行な角度成分が大きくなる。一方、
ウェッジ6の回転調整精度は、一定であるので、微調整
でのアライメント精度が低下することになるのである。
1)ここで、α:ウェッジ6のポロプリズム4の稜線に
平行な角度成分 β:ウェッ:、;6による光軸の振れ角θ:ニラエツジ
回転角(光軸の振れ角 かポロプリズム4の稜線に直交す る軸上にあるときを0とする。) 従って、ウェッジ6のウェッジ角が大きくなれば、ウェ
ッジの回転角に対してウェッジ6による光軸の振れ角が
大きくなり、それだけ、ある回転角度量に対するポロプ
リズム4の稜線に平行な角度成分が大きくなる。一方、
ウェッジ6の回転調整精度は、一定であるので、微調整
でのアライメント精度が低下することになるのである。
本発明の装置は、レーザ媒質と、光軸微調整用のウェッ
ジと、共振系を形成するフロントミラーおよびリアミラ
ーのうちの少なくとも一方を所定の曲率の断面形状を有
するものとした前記フロントミラーおよびリアミラーと
を備えて成るレーザ発振器において、前記所定の曲率の
断面形状を有するフロントミラーもしくは前記リアミラ
ーの光学面のレーザ発振に寄与しない周縁部分の一部を
光学面の中心に垂直な法線に垂直かつ前記レーザ・発振
器の外部から目視し得る平板部分とし、前記レーザ発振
器の外部から送光する試験光に対する前記平板部分の反
射と前記リアミラーの反射による光像の一致にもとづい
て光軸の粗調整を行なうものとした構成を有する。
ジと、共振系を形成するフロントミラーおよびリアミラ
ーのうちの少なくとも一方を所定の曲率の断面形状を有
するものとした前記フロントミラーおよびリアミラーと
を備えて成るレーザ発振器において、前記所定の曲率の
断面形状を有するフロントミラーもしくは前記リアミラ
ーの光学面のレーザ発振に寄与しない周縁部分の一部を
光学面の中心に垂直な法線に垂直かつ前記レーザ・発振
器の外部から目視し得る平板部分とし、前記レーザ発振
器の外部から送光する試験光に対する前記平板部分の反
射と前記リアミラーの反射による光像の一致にもとづい
て光軸の粗調整を行なうものとした構成を有する。
また本発明の装置は、前記光軸微調整用のウェッジは、
前記粗調整後光軸回りに回転し、レーザ出光が最大とな
る状態を確保するものとした構成を有する。
前記粗調整後光軸回りに回転し、レーザ出光が最大とな
る状態を確保するものとした構成を有する。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の構成図である。第1図に示
す実施例は、フロントミラーが曲率を有する場合を例と
し、フロントミラーとしての出力ミラー1と、レーザ媒
質のYAGロッド2と、光軸微調整用のウェッジ3およ
びリアミラーとしてのポロプリズム4を備えて成る。こ
れら実施例の構成要素中、YAGロッド2.ウェッジ3
およびポロプリズム4は第4図に示す従来のものと同一
であるので、これら個個についての詳細な説明は省略す
る。
す実施例は、フロントミラーが曲率を有する場合を例と
し、フロントミラーとしての出力ミラー1と、レーザ媒
質のYAGロッド2と、光軸微調整用のウェッジ3およ
びリアミラーとしてのポロプリズム4を備えて成る。こ
れら実施例の構成要素中、YAGロッド2.ウェッジ3
およびポロプリズム4は第4図に示す従来のものと同一
であるので、これら個個についての詳細な説明は省略す
る。
12を除いた周縁部をこれら光学面の中心に立てた法線
L1と直角な平板部分13として形成する。
L1と直角な平板部分13として形成する。
第2図(a)はその断面図であり、第2図(b)は正面
図また〆第2図(c)は裏面図である。本実施例にあっ
ては、製造上の便を図って、調整目的が確保される条件
のもとて正面構造は第2図(b)に示す如く平板部分1
3を設定している。
図また〆第2図(c)は裏面図である。本実施例にあっ
ては、製造上の便を図って、調整目的が確保される条件
のもとて正面構造は第2図(b)に示す如く平板部分1
3を設定している。
この出力ミラーlは、光学面Allには無反射コーティ
ングを施し、また光学面B12には、所定の反射率を有
するコーティングを施し、レーザ光の一部をレーザ発振
器外に出光し、残りをレーザ発振器内に反射する。
ングを施し、また光学面B12には、所定の反射率を有
するコーティングを施し、レーザ光の一部をレーザ発振
器外に出光し、残りをレーザ発振器内に反射する。
また、比カミラー1は、ミラー中心の光学面B12に対
する法線L1と、平板部分13に対する法線L2が極力
平行となるように加工が施されている。極力平行になる
ように加工されてもなお残る法線LlとL2のなす角を
γとする。YAGロッド2はレーザ素子である。ウェッ
ジ3は、レーザ発振器のアライメントを微調整するため
のもので、光軸をγ以上傾けることができるウェッジ角
を有する。ポロプリズム4は、レーザ光を全反射する。
する法線L1と、平板部分13に対する法線L2が極力
平行となるように加工が施されている。極力平行になる
ように加工されてもなお残る法線LlとL2のなす角を
γとする。YAGロッド2はレーザ素子である。ウェッ
ジ3は、レーザ発振器のアライメントを微調整するため
のもので、光軸をγ以上傾けることができるウェッジ角
を有する。ポロプリズム4は、レーザ光を全反射する。
ポロプリズム4は、その稜線に関して回転する方向の光
軸の傾きに対しては、その反射光が光軸に平行に反射す
るので、アライメントに対する影響はない。
軸の傾きに対しては、その反射光が光軸に平行に反射す
るので、アライメントに対する影響はない。
つぎに、本実施例のレーザ発振器の調整方法を示す。粗
調整のレイアウトを第3図(a)、 (b)に示す。本
実施例のレーザ発振器8aにおいては、従来例のように
出力ミラーを平面ミラーに交換するこトナく、オートコ
リメータ9によって、出力ミラーlの平板部分の反射線
にポロプリズム4の反射線が一致するように、ポロプリ
ズムの傾きを調整することによって粗調整を行なう。こ
の場合、第3図(b)実線で示す出力ミラー1の平板部
分13の反射線は、第5図(b)に実線で示す平面ミラ
ー7の反射線よりは反射面積が狭いだけ輝度は低下する
が、調整に必要かつ十分の認識輝度が確保されている。
調整のレイアウトを第3図(a)、 (b)に示す。本
実施例のレーザ発振器8aにおいては、従来例のように
出力ミラーを平面ミラーに交換するこトナく、オートコ
リメータ9によって、出力ミラーlの平板部分の反射線
にポロプリズム4の反射線が一致するように、ポロプリ
ズムの傾きを調整することによって粗調整を行なう。こ
の場合、第3図(b)実線で示す出力ミラー1の平板部
分13の反射線は、第5図(b)に実線で示す平面ミラ
ー7の反射線よりは反射面積が狭いだけ輝度は低下する
が、調整に必要かつ十分の認識輝度が確保されている。
次に、微調整は、従来例のレーザ発振器と同様に、実際
にンーザ発振をしながら、ウェッジ3を回転し、その都
度レーザ出力を測定する。そして、レーザ出力が最高と
なる回転位置に、ウェッジ3を設定する。
にンーザ発振をしながら、ウェッジ3を回転し、その都
度レーザ出力を測定する。そして、レーザ出力が最高と
なる回転位置に、ウェッジ3を設定する。
したがって、微調整において出力ミラー1の平板部分1
3の反射線とポロプリズム4の反射線が完全に一致して
いれば、ウェッジ3によって調整しなければならない光
軸の角度は、法線L1とL2のなす角度γだはであり、
従来の場合の、マウントの工作精度、マウントへの光学
部品の接着工事精度及び光学部品の3つの和より著しく
小さくてすむ。
3の反射線とポロプリズム4の反射線が完全に一致して
いれば、ウェッジ3によって調整しなければならない光
軸の角度は、法線L1とL2のなす角度γだはであり、
従来の場合の、マウントの工作精度、マウントへの光学
部品の接着工事精度及び光学部品の3つの和より著しく
小さくてすむ。
これにより、ウェッジ3による光軸の振れ角を小さくす
ることができ、よって、ウェッジ3の回転に対するアラ
イメントの調整分解能が高くなり、レーザ発振器のアラ
イメント調整精度を向上することができる。
ることができ、よって、ウェッジ3の回転に対するアラ
イメントの調整分解能が高くなり、レーザ発振器のアラ
イメント調整精度を向上することができる。
以上説明したように本発明のレーザ発振器は、レーザ発
振器の共振系を構成するフロントミラー リアミラーの
うち、断面積が曲率を有するミラーに、ミラーの中心に
おける法線に対して垂直な平板部分を設け、この平板部
分を利用して、アライメントの粗調整を行なうことによ
り、アライメントの粗調整精度をミラーの加工精度まで
押えて微調整用のウェッジのウェッジ角を小さくするこ
とができ、したがって、ウェッジの回転に対するアライ
メント分解能を向上させレーザ発振器のアライメント精
度を著しく向上できる効果がある。
振器の共振系を構成するフロントミラー リアミラーの
うち、断面積が曲率を有するミラーに、ミラーの中心に
おける法線に対して垂直な平板部分を設け、この平板部
分を利用して、アライメントの粗調整を行なうことによ
り、アライメントの粗調整精度をミラーの加工精度まで
押えて微調整用のウェッジのウェッジ角を小さくするこ
とができ、したがって、ウェッジの回転に対するアライ
メント分解能を向上させレーザ発振器のアライメント精
度を著しく向上できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実旅例の構成図、第2図は、第1
図の出力ミラーlを詳細に示す断面図(a)、正面図(
b)および背面図(c)、第3図(a)は第1図のレー
ザ発振器8aの粗調整時の構成図、第3図(b)は第3
図(a)のオートコリメータ9による視野を示す図、第
4図は従来のレーザ発振器の構成図、第5図(a)は従
来のレーザ発振器の粗調整時の構成図、第5図(b)は
第5図(a)のオートコリメータ9の視野を示す図であ
る。 ■・・・・・・出力ミラー 2・・・・・・YAGロッ
ド、3・・・・・ウェッジ、4・・・・・・ポロプリズ
ム、5・・印・出力ミラー、6・・・・・・ウェッジ、
7・・・・・・平面ミラー8.8a・・・・・・レーザ
発振器、9・・・・・オートコリメータ、11・・・・
・・光学面A% 12・・・・・・光学面B、13・・
・・・・平板部分、100・・・・・・光軸。 代理人 弁理士 内 原 晋
図の出力ミラーlを詳細に示す断面図(a)、正面図(
b)および背面図(c)、第3図(a)は第1図のレー
ザ発振器8aの粗調整時の構成図、第3図(b)は第3
図(a)のオートコリメータ9による視野を示す図、第
4図は従来のレーザ発振器の構成図、第5図(a)は従
来のレーザ発振器の粗調整時の構成図、第5図(b)は
第5図(a)のオートコリメータ9の視野を示す図であ
る。 ■・・・・・・出力ミラー 2・・・・・・YAGロッ
ド、3・・・・・ウェッジ、4・・・・・・ポロプリズ
ム、5・・印・出力ミラー、6・・・・・・ウェッジ、
7・・・・・・平面ミラー8.8a・・・・・・レーザ
発振器、9・・・・・オートコリメータ、11・・・・
・・光学面A% 12・・・・・・光学面B、13・・
・・・・平板部分、100・・・・・・光軸。 代理人 弁理士 内 原 晋
Claims (2)
- 1.レーザ媒質と、光軸微調整用のウェッジと、共振系
を形成するフロントミラーおよびリアミラーのうちの少
なくとも一方を所定の曲率の断面形状を有するものとし
た前記フロントミラーおよびリアミラーとを備えて成る
レーザ発振器において、前記所定の曲率の断面形状を有
するフロントミラーもしくは前記リアミラーの光学面の
レーザ発振に寄与しない周縁部分の一部を光学面の中心
に垂直な法線に垂直かつ前記レーザ発振器の外部から目
視し得る平板部分とし、前記レーザ発振器の外部から送
光する試験光に対する前記平板部分の反射と前記リアミ
ラーの反射による光像の一致にもとづいて光軸の粗調整
を行なうものとしたことを特徴とするレーザ発振器。 - 2.前記光軸微調整用のウェッジは、前記粗調整後光軸
回りに回転し、レーザ出光が最大となる状態を確保する
ものであることを特徴とする請求項1記載のレーザ発振
器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19028990A JPH0476973A (ja) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | レーザ発振器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19028990A JPH0476973A (ja) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | レーザ発振器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0476973A true JPH0476973A (ja) | 1992-03-11 |
Family
ID=16255696
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19028990A Pending JPH0476973A (ja) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | レーザ発振器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0476973A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11083701B2 (en) | 2015-07-24 | 2021-08-10 | Shiro Yoshizaki | Dermatomycosis treatment agent |
-
1990
- 1990-07-18 JP JP19028990A patent/JPH0476973A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11083701B2 (en) | 2015-07-24 | 2021-08-10 | Shiro Yoshizaki | Dermatomycosis treatment agent |
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