JPH0474906A - 画像位置ずれ検出方法 - Google Patents
画像位置ずれ検出方法Info
- Publication number
- JPH0474906A JPH0474906A JP2186853A JP18685390A JPH0474906A JP H0474906 A JPH0474906 A JP H0474906A JP 2186853 A JP2186853 A JP 2186853A JP 18685390 A JP18685390 A JP 18685390A JP H0474906 A JPH0474906 A JP H0474906A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- axis
- cumulative
- projection pattern
- residual
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 title abstract 5
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims abstract description 65
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 12
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 7
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 6
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 3
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 238000005314 correlation function Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Image Processing (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、大規模半導体集積回路（ＬＳＩ）パターン、
文字パターン、印刷パターン等における画像間位置合せ
工程中の位置ずれ検出法に関するものである。
文字パターン、印刷パターン等における画像間位置合せ
工程中の位置ずれ検出法に関するものである。
従来、大規模半導体集積回路（ＬＳＩ）パターン、文字
パターン、印刷パターン等における画像間位置の位置ず
れを検出する方法として、局所相関法がある。この方法
は、基準画像から得られる局所画像をテンプレートとし
、テンプレートを画像上で動かしながら相関値を算出し
、相関が最も高い位置をマツチング状態として位置ずれ
検出するものである。相関関数の与え方により計算量を
減らす試みもされている。残差逐次検定法も、この意味
で相関法の１部もしくはモディファイしたものとみなす
ことができる。
パターン、印刷パターン等における画像間位置の位置ず
れを検出する方法として、局所相関法がある。この方法
は、基準画像から得られる局所画像をテンプレートとし
、テンプレートを画像上で動かしながら相関値を算出し
、相関が最も高い位置をマツチング状態として位置ずれ
検出するものである。相関関数の与え方により計算量を
減らす試みもされている。残差逐次検定法も、この意味
で相関法の１部もしくはモディファイしたものとみなす
ことができる。
相関法のもつ計算量を飛躍的に少なくした方法として、
画像の２軸方向の累積パターンすなわち累積投影パター
ンを比較する方法がある。この方法を粗調整用手段とし
、微調整と組合せた画像位置合せ方法については、特顕
平２−１８８９９号（画像位置合せ方法）に既に開示さ
れている。
画像の２軸方向の累積パターンすなわち累積投影パター
ンを比較する方法がある。この方法を粗調整用手段とし
、微調整と組合せた画像位置合せ方法については、特顕
平２−１８８９９号（画像位置合せ方法）に既に開示さ
れている。
しかしながら、この累積投影パターン比較法では、繰り
返しパターン画像に対して周期すれを起こしてしまう可
能性がある。
返しパターン画像に対して周期すれを起こしてしまう可
能性がある。
第４図にその実例を示す。この実例は、ＬＳＩパターン
と設計データとを照合する時の位置ずれ補正において周
期ずれを多発した例である。１はＬＳＩの設計パターン
（基準パターン）、２はＬＳＩウェーハの観測パターン
である。但し、観測パターン（対象パターン）２は位置
ずれ補正したパターンで示している。３は設計パターン
１についてＸ軸方向の累積投影パターンであり、４はＹ
軸方向の累積投影パターンである。５は観測パターン２
についてＸ軸方向の累積投影パターンであり、６はＹ軸
方向の累積投影パターンである。
と設計データとを照合する時の位置ずれ補正において周
期ずれを多発した例である。１はＬＳＩの設計パターン
（基準パターン）、２はＬＳＩウェーハの観測パターン
である。但し、観測パターン（対象パターン）２は位置
ずれ補正したパターンで示している。３は設計パターン
１についてＸ軸方向の累積投影パターンであり、４はＹ
軸方向の累積投影パターンである。５は観測パターン２
についてＸ軸方向の累積投影パターンであり、６はＹ軸
方向の累積投影パターンである。
さて、Ｘ軸方向の累積投影パターン３と５． Ｙ軸方向
の累積投影パターン４と６は一致しているが、パターン
そのものを比較すると明らかに周期ずれしていることが
わかる。すなわち、Ｙ軸方向の累積投影パターン４と６
は周期を区別するだけの情報を持っていないことにより
周期ずれが発生したのである。そこで、パターンそのも
のを重ねて相関をとれば周期ずれを識別できるが、毎回
それを実行すれば計算量が多く、前記の累積投影パター
ン法の特徴が半減してしまう。
の累積投影パターン４と６は一致しているが、パターン
そのものを比較すると明らかに周期ずれしていることが
わかる。すなわち、Ｙ軸方向の累積投影パターン４と６
は周期を区別するだけの情報を持っていないことにより
周期ずれが発生したのである。そこで、パターンそのも
のを重ねて相関をとれば周期ずれを識別できるが、毎回
それを実行すれば計算量が多く、前記の累積投影パター
ン法の特徴が半減してしまう。
従って、繰り返しパターンが多い画像の位置ずれ検出に
前記の投影法を使用することができない。
前記の投影法を使用することができない。
このため、１次元のパターン照合で２次元の画像位置ず
れを検出する方法の開発が望まれていた。
れを検出する方法の開発が望まれていた。
本発明の目的は、１次元投影の比較において、周期性の
あるパターンに対しても正しくずれ量を求めることがで
きる画像位置ずれ検出方法を提供することにある。
あるパターンに対しても正しくずれ量を求めることがで
きる画像位置ずれ検出方法を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
前述した目的を達成するために、本発明は、類似した対
象画像及び基準画像間の水平及び垂直方向の画像位置ず
れ検出方法であって、夫々の前記画像の同一方向にＸ軸
及びこのＸ軸に直交するＹ軸を定め、４つの座標軸毎に
同一座標軸上の画素値を１次元累積投影パターンとして
算出し、各画像の相対応する１次元累積投影パターンに
ついて、一方の累積投影パターンを移動させながら残差
が極小値となる位置を探し、Ｘ軸、Ｙ軸の方向とは異な
る斜め方向累積投影パターンを対象画像と基準画像につ
いて算出し、前記極小値となる位置から計算される斜め
方向累積投影パターンのずれ量だけ、斜め方向累積投影
パターンの位置を補正した後、残差を計算し、該残差が
予め指定した値以下であれば、前記極小値となる位置を
正しい値とし、さもなくば不正値と判定することを最も
主要な特徴とする。
象画像及び基準画像間の水平及び垂直方向の画像位置ず
れ検出方法であって、夫々の前記画像の同一方向にＸ軸
及びこのＸ軸に直交するＹ軸を定め、４つの座標軸毎に
同一座標軸上の画素値を１次元累積投影パターンとして
算出し、各画像の相対応する１次元累積投影パターンに
ついて、一方の累積投影パターンを移動させながら残差
が極小値となる位置を探し、Ｘ軸、Ｙ軸の方向とは異な
る斜め方向累積投影パターンを対象画像と基準画像につ
いて算出し、前記極小値となる位置から計算される斜め
方向累積投影パターンのずれ量だけ、斜め方向累積投影
パターンの位置を補正した後、残差を計算し、該残差が
予め指定した値以下であれば、前記極小値となる位置を
正しい値とし、さもなくば不正値と判定することを最も
主要な特徴とする。
また、類似した対象画像及び基準画像間の水平及び垂直
方向の画像位置ずれ検出方法であって、夫々の前記画像
の同一方向にＸ軸及びこのＸ軸に直交するＹ軸、及びＸ
軸、Ｙ軸のいずれとも方向を異にする斜め方向軸Ｚ軸を
定め、６つの座標軸毎に同一座標軸上の画素値を１次元
累積パターンとして算出し、各画像の相対応するＸ軸、
Ｙ軸方向１次元累積投影パターンについて、一方のＭＭ
投影パターンを移動させながら残差が極小値となる位置
を指定範囲内で全て求めて位置ずれ量候補とし、夫々の
候補に対して前記２画像間の２軸方向累積投影パターン
のずれ量を算出して該Ｚ軸方向累積投影パターンを補正
し、残差を求め、残差が最小となる位置ずれ量候補を正
しい位置ずれ量と判定することを特徴とする。
方向の画像位置ずれ検出方法であって、夫々の前記画像
の同一方向にＸ軸及びこのＸ軸に直交するＹ軸、及びＸ
軸、Ｙ軸のいずれとも方向を異にする斜め方向軸Ｚ軸を
定め、６つの座標軸毎に同一座標軸上の画素値を１次元
累積パターンとして算出し、各画像の相対応するＸ軸、
Ｙ軸方向１次元累積投影パターンについて、一方のＭＭ
投影パターンを移動させながら残差が極小値となる位置
を指定範囲内で全て求めて位置ずれ量候補とし、夫々の
候補に対して前記２画像間の２軸方向累積投影パターン
のずれ量を算出して該Ｚ軸方向累積投影パターンを補正
し、残差を求め、残差が最小となる位置ずれ量候補を正
しい位置ずれ量と判定することを特徴とする。
前述した手段によれば、Ｘ軸方向とＹ軸方向の累積投影
パターンと、斜め方向の累積投影パターンを２枚の比較
する画像について算出し、Ｘ軸方向とＹ軸方向の累積投
影パターンを夫々について１次元マツチングすることに
より、Ｘ軸方向とＹ軸方向の位置ずれ量の候補を求め、
競合する候補が複数存在する時には夫々の候補について
斜め方向の累積投影パターンの一致度を算出し、それを
評価値として位置ずれ量の候補の正誤を判定するので、
従来のように、繰り返しパターンの多い画像の位置ずれ
量検出誤りを避けることができる。
パターンと、斜め方向の累積投影パターンを２枚の比較
する画像について算出し、Ｘ軸方向とＹ軸方向の累積投
影パターンを夫々について１次元マツチングすることに
より、Ｘ軸方向とＹ軸方向の位置ずれ量の候補を求め、
競合する候補が複数存在する時には夫々の候補について
斜め方向の累積投影パターンの一致度を算出し、それを
評価値として位置ずれ量の候補の正誤を判定するので、
従来のように、繰り返しパターンの多い画像の位置ずれ
量検出誤りを避けることができる。
つまり、１次元投影の比較において、周期ずれの発生を
防止することができる 〔発明の実施例〕 以下、本発明の一実施例を図面を用いて具体的に説明す
る。
防止することができる 〔発明の実施例〕 以下、本発明の一実施例を図面を用いて具体的に説明す
る。
本発明の画像位置ずれ検出方法は、コンピュータ、各種
画像処理装置等の装置によって実施するが、ここではコ
ンピュータを使用する実施例で説明する。
画像処理装置等の装置によって実施するが、ここではコ
ンピュータを使用する実施例で説明する。
なお、実施例を説明するための企図において、同一機能
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。
第１図は、本発明の画像位置ずれ検出方法の原理を説明
するための図である。
するための図である。
第１図において、３は設計パターン（基準画像）１（第
４Ａ図）についてＸ軸方向の累積投影パターンであり、
４はＹ軸方向の累積投影パターンである。５は観測パタ
ーン（対象画像）２（第４Ｂ図）についてＸ軸方向の累
積投影パターンであり、６はＹ軸方向の累積投影パター
ンである。７は設計データについて４５°斜め方向の累
積投影パターンであり、８はＬＳＩの観測パターンの４
５゜斜め方向の累積投影パターンである。
４Ａ図）についてＸ軸方向の累積投影パターンであり、
４はＹ軸方向の累積投影パターンである。５は観測パタ
ーン（対象画像）２（第４Ｂ図）についてＸ軸方向の累
積投影パターンであり、６はＹ軸方向の累積投影パター
ンである。７は設計データについて４５°斜め方向の累
積投影パターンであり、８はＬＳＩの観測パターンの４
５゜斜め方向の累積投影パターンである。
Ｘ軸方向のパターン周期をＴｘ、基本ずれ量をｄＸ、Ｙ
軸方向のパターン周期をＴｙ、基本ずれ量をｄｙとすれ
ば、Ｘ軸方向とＹ軸方向のずれは、夫々、Δｘ＝ｄｘ＋
ｍＴｘ、Δｙ＝ｄ ３’±ｎＴｙと表現される。さて、
これらのずれによる斜め方向の累積投影パターン７．８
のずれΔ２は次式で表される。
軸方向のパターン周期をＴｙ、基本ずれ量をｄｙとすれ
ば、Ｘ軸方向とＹ軸方向のずれは、夫々、Δｘ＝ｄｘ＋
ｍＴｘ、Δｙ＝ｄ ３’±ｎＴｙと表現される。さて、
これらのずれによる斜め方向の累積投影パターン７．８
のずれΔ２は次式で表される。
Δｚ ＝ｆ〕ｘ ＋ Ａ ｙ７・ｃｏｓ（ｔａｎ−１
Δｙ／ΔＸ−θ）但し、θ＝π／４、 そこで、Ｘ軸方向とＹ軸方向のずれの候補についてΔ２
を算出し、投影パターン８をΔ２だけずらして投影パタ
ーン７と比較し、残差を算出する。
Δｙ／ΔＸ−θ）但し、θ＝π／４、 そこで、Ｘ軸方向とＹ軸方向のずれの候補についてΔ２
を算出し、投影パターン８をΔ２だけずらして投影パタ
ーン７と比較し、残差を算出する。
但し、残差は、例えば、差の絶対値の２乗和を使う。ま
た、ずれ量ΔＸ、Δｙに周期ずれがなければ残差は小さ
い。周期ずれの有無による残差の差は、パターン構造に
依存するが、一般には大きいので判定が容易である。
た、ずれ量ΔＸ、Δｙに周期ずれがなければ残差は小さ
い。周期ずれの有無による残差の差は、パターン構造に
依存するが、一般には大きいので判定が容易である。
［実施例１］
第２図は、本発明の画像位置ずれ検出方法の実施例１の
フローチャートである。
フローチャートである。
本実施例１の画像位置ずれ検出方法は、第２図に示すよ
うに、ｆＲ測両画像対象画像）を入力しくステップ１０
１）、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、斜め４５°方向の累積投影
パターンを求め（ステップ１０２）、一方、基準パター
ン（基準画像）を入力しくステップ１０３）、そのＸ軸
方向、Ｙ軸方向、斜め４５°方向の累積投影パターンを
求める（ステップ１０４）。次に、観測パターンと基準
パターンのＸ軸方向、Ｙ軸方向の累積投影パターンにつ
いて相対位置を変化させ（ステップ１０５）、残差を算
出しくステップ１０６）、極小値が残差が予め指定した
値より小さければ（ステップ１０７）、Ｘ軸方向とＹ軸
方向のずれ量から斜め方向のずれ量を算出しくステップ
１０８）、ずれ補正後斜め方向累積投影パターンの残差
を求め（ステップ１０９）、その残差が指定値より小さ
いか否かの判定を行う（ステップ１１ｏ）。その判定で
残差が指定値より小さければ、ずれ量を決定しくステッ
プ１１１）、残差が指定値より大きければ、ステップ１
０５に戻る。
うに、ｆＲ測両画像対象画像）を入力しくステップ１０
１）、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、斜め４５°方向の累積投影
パターンを求め（ステップ１０２）、一方、基準パター
ン（基準画像）を入力しくステップ１０３）、そのＸ軸
方向、Ｙ軸方向、斜め４５°方向の累積投影パターンを
求める（ステップ１０４）。次に、観測パターンと基準
パターンのＸ軸方向、Ｙ軸方向の累積投影パターンにつ
いて相対位置を変化させ（ステップ１０５）、残差を算
出しくステップ１０６）、極小値が残差が予め指定した
値より小さければ（ステップ１０７）、Ｘ軸方向とＹ軸
方向のずれ量から斜め方向のずれ量を算出しくステップ
１０８）、ずれ補正後斜め方向累積投影パターンの残差
を求め（ステップ１０９）、その残差が指定値より小さ
いか否かの判定を行う（ステップ１１ｏ）。その判定で
残差が指定値より小さければ、ずれ量を決定しくステッ
プ１１１）、残差が指定値より大きければ、ステップ１
０５に戻る。
［実施例２コ
第３図は、本発明の画像位置ずれ検出方法の実施例２の
フローチャートである。
フローチャートである。
本実施例２の画像位置ずれ検出方法は、第３図に示すよ
うに、観測画像（対象画像）を入力しくステップ２０１
）、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、斜め方向の累積投影パターン
を求め（ステップ２０２）、基準パターン（基準画像）
についても同様に入力（ステップ２０３）及び累積投影
パターン計算（ステップ２０４）を行う。
うに、観測画像（対象画像）を入力しくステップ２０１
）、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、斜め方向の累積投影パターン
を求め（ステップ２０２）、基準パターン（基準画像）
についても同様に入力（ステップ２０３）及び累積投影
パターン計算（ステップ２０４）を行う。
次に、観測画像をＸ、Ｙ方向にずらしていき（ステップ
２０５）、Ｘ軸方向、Ｙ軸方法の累積投影パターンを基
準パターンのそれと比較して残差を算出しくステップ２
０６）、その残差が極小値であるか否かを判定しくステ
ップ２０７）、残差が極小値であれば、ずれ量候補テー
ブルに登録する（２０８）。こうしてずれ量候補を予め
求めておく。最大ずれ許容量をΔｌ１ａＸとすれば、Ｘ
軸及びＹ軸方向について、Δｗａｘ／ Ｔ ｘ 、Δｗ
ａｘ／Ｔｙ、Δ２ｔａａｘ／ （Ｔ ｘ Ｔ ｙ ）の
個数の候補が求まるはずである。
２０５）、Ｘ軸方向、Ｙ軸方法の累積投影パターンを基
準パターンのそれと比較して残差を算出しくステップ２
０６）、その残差が極小値であるか否かを判定しくステ
ップ２０７）、残差が極小値であれば、ずれ量候補テー
ブルに登録する（２０８）。こうしてずれ量候補を予め
求めておく。最大ずれ許容量をΔｌ１ａＸとすれば、Ｘ
軸及びＹ軸方向について、Δｗａｘ／ Ｔ ｘ 、Δｗ
ａｘ／Ｔｙ、Δ２ｔａａｘ／ （Ｔ ｘ Ｔ ｙ ）の
個数の候補が求まるはずである。
次に、観測画像のＸ、Ｙ軸方向の移動が終了か否かを判
定しくステップ２０９）、移動が終了でなければ、ステ
ップ２０５に戻る。移動が終了であれば、次のステップ
２１０に進む。
定しくステップ２０９）、移動が終了でなければ、ステ
ップ２０５に戻る。移動が終了であれば、次のステップ
２１０に進む。
ステップ２１０では、各候補について斜め方向ずれ量を
算出し、その量だけずらした斜方向累積投影パターンの
比較を行って、残差を求める（ステップ２１１，２１２
）。全ての候補の残差が求まった時、残差が最小となる
ずれ量を検索しくステップ２１３）、それを正しいずれ
量として決定する（ステップ２１４）。
算出し、その量だけずらした斜方向累積投影パターンの
比較を行って、残差を求める（ステップ２１１，２１２
）。全ての候補の残差が求まった時、残差が最小となる
ずれ量を検索しくステップ２１３）、それを正しいずれ
量として決定する（ステップ２１４）。
斜め方向の投影計算は、Ｘ、Ｙ軸方向投影計算の際に行
ったが、斜め方向投影の比較が必要となった時にその都
度求めても構わない。
ったが、斜め方向投影の比較が必要となった時にその都
度求めても構わない。
以上の説明かられかるように、本実施例１，２によれば
、直交するＸ軸とＹ軸方向の累積投影パターンを比較し
た結果を斜め投影方向の累積投影パターンの比較で正誤
判定する方法なので１周期性のあるパターンに対しても
正しくずれ量を求めることができる。
、直交するＸ軸とＹ軸方向の累積投影パターンを比較し
た結果を斜め投影方向の累積投影パターンの比較で正誤
判定する方法なので１周期性のあるパターンに対しても
正しくずれ量を求めることができる。
また、比較する画像は、２値化画像に限らず、濃淡画像
であっても構わない。但し、比較対象画像と基準画像の
濃度レベルに大きな差がある場合には、残差の評価が容
易ではないので適用が困難となる。
であっても構わない。但し、比較対象画像と基準画像の
濃度レベルに大きな差がある場合には、残差の評価が容
易ではないので適用が困難となる。
また、斜め投影の軸の角度θは、第１図ではπ／４とし
たが、原理上では、０、π／２を除き。
たが、原理上では、０、π／２を除き。
任意である。但し、一般にはπ／４程度となる方が良い
結果を得ることができる。
結果を得ることができる。
以上、本発明を実施例にもとづき具体的に説明したが、
本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であること
は言うまでもない。
本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であること
は言うまでもない。
以上、説明したように、本発明によれば、直交するＸ軸
とＹ軸方向の累積投影パターンを比較した結果を斜め投
影方向の累積投影パターンの比較で正誤判定することに
より、１次元投影の比較において、周期性のあるパター
ンに対しても正しくずれ量を求めることができる。すな
わち、繰り返しパターンの多い画像の位置ずれ量検出誤
りを避けることができる。
とＹ軸方向の累積投影パターンを比較した結果を斜め投
影方向の累積投影パターンの比較で正誤判定することに
より、１次元投影の比較において、周期性のあるパター
ンに対しても正しくずれ量を求めることができる。すな
わち、繰り返しパターンの多い画像の位置ずれ量検出誤
りを避けることができる。
第１図は、本発明の画像位置ずれ検出方法の原理を説明
するための図、 第２図は１本発明の画像位置ずれ検出方法の実施例１の
フローチャート。 第３図は、本発明の画像位置ずれ検出方法の実施例２の
フローチャート、 第４Ａ図および第４Ｂ図は、累積投影パターン比較法を
説明するための図である。 図中、１・・・設計パターン（基準画像）、２・・・観
測パターン（対象画像）、３．５・・・Ｘ軸方向の累積
投影パターン、４，６・・・Ｙ軸方向の累積投影パター
ン、７・・・設計データについて４５″斜め方向の累積
投影パターン、８・・・ＬＳＩの観測パターンの４５゜ 斜め方向の累積投影パターン。
するための図、 第２図は１本発明の画像位置ずれ検出方法の実施例１の
フローチャート。 第３図は、本発明の画像位置ずれ検出方法の実施例２の
フローチャート、 第４Ａ図および第４Ｂ図は、累積投影パターン比較法を
説明するための図である。 図中、１・・・設計パターン（基準画像）、２・・・観
測パターン（対象画像）、３．５・・・Ｘ軸方向の累積
投影パターン、４，６・・・Ｙ軸方向の累積投影パター
ン、７・・・設計データについて４５″斜め方向の累積
投影パターン、８・・・ＬＳＩの観測パターンの４５゜ 斜め方向の累積投影パターン。
Claims (2)
- （１）類似した対象画像及び基準画像間の水平及び垂直
方向の画像位置ずれ検出方法であって、夫々の前記画像
の同一方向にＸ軸及びこのＸ軸に直交するＹ軸を定め、
４つの座標軸毎に同一座標軸上の画素値を１次元累積投
影パターンとして算出し、各画像の相対応する１次元累
積投影パターンについて、一方の累積投影パターンを移
動させながら残差が極小値となる位置を探し、Ｘ軸、Ｙ
軸の方向とは異なる斜め方向累積投影パターンを対象画
像と基準画像について算出し、前記極小値となる位置か
ら計算される斜め方向累積投影パターンのずれ量だけ、
斜め方向累積投影パターンの位置を補正した後、残差を
計算し、該残差が予め指定した値以下であれば、前記極
小値となる位置を正しい値とし、さもなくば不正値と判
定することを特徴とする画像位置ずれ検出方法。 - （２）類似した対象画像及び基準画像間の水平及び垂直
方向の画像位置ずれ検出方法であって、夫々の前記画像
の同一方向にＸ軸及びこのＸ軸に直交するＹ軸、及びＸ
軸、Ｙ軸のいずれとも方向を異にする斜め方向軸Ｚ軸を
定め、６つの座標軸毎に同一座標軸上の画素値を１次元
累積パターンとして算出し、各画像の相対応するＸ軸、
Ｙ軸方向１次元累積投影パターンについて、一方の累積
投影パターンを移動させながら残差が極小値となる位置
を指定範囲内で全て求めて位置ずれ量候補とし、夫々の
候補に対して前記２画像間のＺ軸方向累積投影パターン
のずれ量を算出して該Ｚ軸方向累積投影パターンを補正
し、残差を求め、残差が最小となる位置ずれ量候補を正
しい位置ずれ量と判定することを特徴とする画像位置ず
れ検出方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2186853A JPH0474906A (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | 画像位置ずれ検出方法 |
| US07/728,587 US5506917A (en) | 1990-07-13 | 1991-07-11 | Thresholding method for segmenting gray scale image, method for determining background concentration distribution, and image displacement detection method |
| KR1019910012077A KR940007873B1 (ko) | 1990-07-13 | 1991-07-13 | 그레이 스케일 영상을 분절하기 위한 임계방법, 배경농도 분배를 결정하기 위한 방법 및 영상 변위 탐지방법 |
| US08/551,811 US5555318A (en) | 1990-07-13 | 1995-11-07 | Thresholding method for segmenting gray scale image, method for determining background concentration distribution, and image displacement detection method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2186853A JPH0474906A (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | 画像位置ずれ検出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0474906A true JPH0474906A (ja) | 1992-03-10 |
Family
ID=16195798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2186853A Pending JPH0474906A (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | 画像位置ずれ検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0474906A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5974231A (en) * | 1997-01-30 | 1999-10-26 | Konica Corporation | Driving apparatus for printer capable of recording multiple gradation, and printer with driving apparatus |
| JP2019158362A (ja) * | 2018-03-07 | 2019-09-19 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板検査装置、基板処理装置および基板検査方法 |
-
1990
- 1990-07-13 JP JP2186853A patent/JPH0474906A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5974231A (en) * | 1997-01-30 | 1999-10-26 | Konica Corporation | Driving apparatus for printer capable of recording multiple gradation, and printer with driving apparatus |
| JP2019158362A (ja) * | 2018-03-07 | 2019-09-19 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板検査装置、基板処理装置および基板検査方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7894660B2 (en) | Image processing alignment method and method of manufacturing semiconductor device | |
| US6151406A (en) | Method and apparatus for locating ball grid array packages from two-dimensional image data | |
| US8538168B2 (en) | Image pattern matching systems and methods for wafer alignment | |
| JP4926171B2 (ja) | 回転対称体或いは鏡面対称体のオーバレイ確定用器具及び方法 | |
| US7466854B2 (en) | Size checking method and apparatus | |
| US7303845B2 (en) | Method and system for efficiently verifying optical proximity correction | |
| US20100211352A1 (en) | Mark arrangement inspecting method, mask data, and manufacturing method of semiconductor device | |
| US7567699B2 (en) | Center determination of rotationally symmetrical alignment marks | |
| US7194387B1 (en) | Apparatus and method for determining the minimum zone for an array of features with a true position tolerance | |
| US20070064994A1 (en) | Pattern inspection method and apparatus with high-accuracy pattern image correction capability | |
| JP4128513B2 (ja) | ボンディング用パターン識別方法、ボンディング用パターン識別装置及びボンディング用パターン識別プログラム | |
| JP2010287762A (ja) | パターン検査方法、パターン検査プログラムおよびパターン検査装置 | |
| US6965687B2 (en) | Size checking method and apparatus | |
| JPH0474906A (ja) | 画像位置ずれ検出方法 | |
| JP2001110697A (ja) | 露光装置におけるマスクとワークの位置合わせ方法 | |
| JP2001165636A (ja) | プリント基板配線パターン欠陥検出方法及び装置 | |
| JP2000258121A (ja) | 複数カメラ校正用のマスター基板及び画像認識カメラの校正方法 | |
| JPS63140548A (ja) | 平板状物体のアライメント方法 | |
| US5856054A (en) | Method of alignment in exposure step through array error and shot error determinations | |
| KR102541500B1 (ko) | 상관관계 기반 오버레이 키 센터링 시스템 및 그 방법 | |
| JP2024071335A (ja) | 相関関係に基づくオーバーレイキーのセンタリングシステム及びその方法 | |
| JPH04307682A (ja) | 画像位置合わせ方法 | |
| US20060072806A1 (en) | Method for inspecting photomask | |
| US10445889B2 (en) | Method for measuring overlay offset in an integrated circuit and related technology | |
| JPH03225481A (ja) | 画像位置合せ方法 |