JPH0474189A - メルカプト基を有するシラン - Google Patents
メルカプト基を有するシランInfo
- Publication number
- JPH0474189A JPH0474189A JP18426090A JP18426090A JPH0474189A JP H0474189 A JPH0474189 A JP H0474189A JP 18426090 A JP18426090 A JP 18426090A JP 18426090 A JP18426090 A JP 18426090A JP H0474189 A JPH0474189 A JP H0474189A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- formula
- group
- butane
- salt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 12
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 5
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 title claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- -1 silane compound Chemical class 0.000 abstract description 24
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 23
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 8
- 229910003471 inorganic composite material Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 125000004965 chloroalkyl group Chemical group 0.000 abstract description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 5
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 abstract description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 5
- 239000001273 butane Substances 0.000 abstract description 3
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 14
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 7
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 4
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 2
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 2
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- XZXRTMQECSOELH-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylbutane-1,4-dithiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(CS)CCS XZXRTMQECSOELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008326 Si-Y Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910006773 Si—Y Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- CBRDXHXTNOTQHL-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CCC(C)[Si](C)(OC)OC CBRDXHXTNOTQHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、有機−無機複合材の接着性の向上などに有用
であるメルカプト基を有する新規なシラン化合物に関す
る。
であるメルカプト基を有する新規なシラン化合物に関す
る。
(従来の技術)
有機−無機複合材の接着性の向上に用いられる有機ケイ
素化合物としては、γ−クロロプロビルトリメトキシシ
ラシ、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロビルトリメトキシシラン、γ−メタクリ
ロキシプロピルトノメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシランなどの種々のシランカップリ
ング剤が知られているが、これらのシラン類は炭素官能
性基が1個であるため、有機ポリマー間の架橋剤として
は使用できず、また接着性の向上という目的からも2個
の炭素官能性基を有するケイ素化合物が望まれていた。
素化合物としては、γ−クロロプロビルトリメトキシシ
ラシ、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロビルトリメトキシシラン、γ−メタクリ
ロキシプロピルトノメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシランなどの種々のシランカップリ
ング剤が知られているが、これらのシラン類は炭素官能
性基が1個であるため、有機ポリマー間の架橋剤として
は使用できず、また接着性の向上という目的からも2個
の炭素官能性基を有するケイ素化合物が望まれていた。
(発明が解決しようとする課題)
本発明の目的は、半導体封止材などに代表される有機−
無機複合材の接着性の向上に有用である2官能性のメル
カプト基を有する新規なシラン化合物を提供することで
ある。
無機複合材の接着性の向上に有用である2官能性のメル
カプト基を有する新規なシラン化合物を提供することで
ある。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明は、一般式
R1−n
N5−CHz−(:H−3i−Y、
(I )N3−(1:N2−CI(2 (式中、Rは置換または非置換の1価の炭化水素基を表
し、Yはアルコキシ基又は71ノールオキシ基を表し、
nは0〜3の整数を表す)で示されるメルカプト基を有
するシランである。
(I )N3−(1:N2−CI(2 (式中、Rは置換または非置換の1価の炭化水素基を表
し、Yはアルコキシ基又は71ノールオキシ基を表し、
nは0〜3の整数を表す)で示されるメルカプト基を有
するシランである。
本発明の化合物(I)において、Rの1価の炭化水素基
としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル又
はドデシルのようなアルキル基ニジクロペンチル又はシ
クロヘキシルのようなシクロアルキル基:2−フェニル
エチル又は2−フェニルプロピルのようなアラルキル基
:フェニル又はトリルのようなアリール基:ビニル又は
アリルのようなアルケニル基:あるいはフッ素原子、ア
ミノ基、シアノ基などで置換された3、3.3−1−リ
フルオロプロピル、2−アミノエチル又は2−シアンエ
チルのような置換炭化水素基が例示される。これらの中
でも、原料の入手および合成が容易なことから炭素数1
〜4の飽和炭化水素基、とりわけメチル基が好ましい。
としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル又
はドデシルのようなアルキル基ニジクロペンチル又はシ
クロヘキシルのようなシクロアルキル基:2−フェニル
エチル又は2−フェニルプロピルのようなアラルキル基
:フェニル又はトリルのようなアリール基:ビニル又は
アリルのようなアルケニル基:あるいはフッ素原子、ア
ミノ基、シアノ基などで置換された3、3.3−1−リ
フルオロプロピル、2−アミノエチル又は2−シアンエ
チルのような置換炭化水素基が例示される。これらの中
でも、原料の入手および合成が容易なことから炭素数1
〜4の飽和炭化水素基、とりわけメチル基が好ましい。
また、Yは加水分解性基であって、メトキシエトキシ、
n−プロポキシ、1−プロポキシ、2−メトキシエトキ
シ、n−ブトキシ、5ee−ブトキシ、1−ブトキシ、
t−ブトキシ又はシクロへキシルオキシのようなアルコ
キシ基、あるいはフェノキシのようなアリールオキシ基
が例示される。これらの中でも、合成の容易さ、安定性
、適度な反応性などの観点からメトキシ基が特に好まし
い。
n−プロポキシ、1−プロポキシ、2−メトキシエトキ
シ、n−ブトキシ、5ee−ブトキシ、1−ブトキシ、
t−ブトキシ又はシクロへキシルオキシのようなアルコ
キシ基、あるいはフェノキシのようなアリールオキシ基
が例示される。これらの中でも、合成の容易さ、安定性
、適度な反応性などの観点からメトキシ基が特に好まし
い。
更に、nは0〜30M数であり、本発明の化合物(I)
を有機−無機複合材の接着性向上に使用する場合は、n
は1〜3であることが好ましく、とりわけ3であること
が好ましい。
を有機−無機複合材の接着性向上に使用する場合は、n
は1〜3であることが好ましく、とりわけ3であること
が好ましい。
本発明の化合物(I)の製法の一例を以下に説明する。
即ち、反応式(1)及び(2)に示すように、先ずチオ
尿素とクロロアルキル基を有するシラン化合物(II)
とを極性非プロトン溶媒中で反応させて、イソチウロニ
ウム塩(Ill )を合成し、次いでこれをエチレンジ
アミンで分解させることにより、本発明の化合物(I)
を製造することができる。
尿素とクロロアルキル基を有するシラン化合物(II)
とを極性非プロトン溶媒中で反応させて、イソチウロニ
ウム塩(Ill )を合成し、次いでこれをエチレンジ
アミンで分解させることにより、本発明の化合物(I)
を製造することができる。
2 [、N1.c=s
1−n
fJlcH,−CM−Si−Y、1
CICH2−CH2
〔II)
NN2”CI−R,−。
H,N−C−5−CH,−CH−5i−Y、 (1)
HiN−C−3−CH2−GHz (II ) + 2H,NCH,−CN2NH。
HiN−C−3−CH2−GHz (II ) + 2H,NCH,−CN2NH。
m−n
(I)
(式中、R,Y及びnは前記と同しである)原料として
使用するチオ尿素は市販されており、容易に人手できる
ものである。
使用するチオ尿素は市販されており、容易に人手できる
ものである。
同じく原料として使用するクロロアルキル基を有するシ
ラン化合物(II)は、1.4−シクロロー2−ブテン
とモノハイドロジエンシランH5iR3−fiYn
(式中、R,Y及び〇は前記と同しである)との付加反
応により得られる。このようなりロロアルキル基を有す
るシラン化合物(II)の具体例としては、例えば1,
4−ジクロロ−2−(トリメトキシシリル)ブタン、1
.4−ジクロロ−2−(メチルジメトキシシリル)ブタ
ンなどが挙げられる、 チオ尿素とクロロアルキル基を有するシラン化合物(I
I)との使用割合は特に限定されないが、化学量論的使
用量が経済上好ましい。
ラン化合物(II)は、1.4−シクロロー2−ブテン
とモノハイドロジエンシランH5iR3−fiYn
(式中、R,Y及び〇は前記と同しである)との付加反
応により得られる。このようなりロロアルキル基を有す
るシラン化合物(II)の具体例としては、例えば1,
4−ジクロロ−2−(トリメトキシシリル)ブタン、1
.4−ジクロロ−2−(メチルジメトキシシリル)ブタ
ンなどが挙げられる、 チオ尿素とクロロアルキル基を有するシラン化合物(I
I)との使用割合は特に限定されないが、化学量論的使
用量が経済上好ましい。
インチウロニウム塩生成反応(1)において使用する極
性非プロトン溶媒としては、N、N−ジメチルホルムア
ミド、N、N−ジメチルアセトアミド、テトラメチル尿
素、ヘキサメチルリン酸トノアミド、ジメチルスルホキ
シド、スルホラン又はN−メチルピロリドンなどが例示
される。これらの中でも、人手や取扱いが容易で、反応
もすみやかであることからN、N−ジメチルホルムアミ
ドが特に好ましい。極性非プロトン溶媒の使用量は特に
限定されないが、室温で結晶であるチオ尿素(融点的1
80℃)に対して20〜200重I%の範囲とすること
が、反応制御上好ましい。
性非プロトン溶媒としては、N、N−ジメチルホルムア
ミド、N、N−ジメチルアセトアミド、テトラメチル尿
素、ヘキサメチルリン酸トノアミド、ジメチルスルホキ
シド、スルホラン又はN−メチルピロリドンなどが例示
される。これらの中でも、人手や取扱いが容易で、反応
もすみやかであることからN、N−ジメチルホルムアミ
ドが特に好ましい。極性非プロトン溶媒の使用量は特に
限定されないが、室温で結晶であるチオ尿素(融点的1
80℃)に対して20〜200重I%の範囲とすること
が、反応制御上好ましい。
イソチウロニウム塩生成反応(1)は、クロロアルキル
基を有するシラン化合物(IT)、チオ尿素及び極性非
プロトン溶媒を反応容器に入れ、所定の温度に加熱して
反応を開始させる方法が反応制御上好ましい。また、こ
の反応は80〜180°C1好ましくは100〜160
℃の温度範囲で行われる。反応時の圧力は通常、常圧が
用いられるが、加圧された状態でもさしつかえない。反
応時間は反応条件によるが、通常は1〜3時間で十分で
ある。以上により、インチウロニウム塩(III )が
得られる。
基を有するシラン化合物(IT)、チオ尿素及び極性非
プロトン溶媒を反応容器に入れ、所定の温度に加熱して
反応を開始させる方法が反応制御上好ましい。また、こ
の反応は80〜180°C1好ましくは100〜160
℃の温度範囲で行われる。反応時の圧力は通常、常圧が
用いられるが、加圧された状態でもさしつかえない。反
応時間は反応条件によるが、通常は1〜3時間で十分で
ある。以上により、インチウロニウム塩(III )が
得られる。
次に、インチウロニウム塩(III)のエチレンジアミ
ンによる分解反応(2)は、反応式(1)で得られた反
応混合物又はその精製物のいずれにエチレンシアミンを
滴下しても達成できる。エチレンジアミンの使用量は特
に限定されないが、イソチウロニウム塩(Ill)1モ
ルに対して1モル以上、10モル未満の範囲が好ましい
、1モル未満では反応が遅く、短時間に良好な収率をあ
げることができない。10モル以上用いても特に加えた
だけの効果はなく、経済的に不利である。
ンによる分解反応(2)は、反応式(1)で得られた反
応混合物又はその精製物のいずれにエチレンシアミンを
滴下しても達成できる。エチレンジアミンの使用量は特
に限定されないが、イソチウロニウム塩(Ill)1モ
ルに対して1モル以上、10モル未満の範囲が好ましい
、1モル未満では反応が遅く、短時間に良好な収率をあ
げることができない。10モル以上用いても特に加えた
だけの効果はなく、経済的に不利である。
分解反応(2)において、有機温媒の使用は必須ではな
いが、所望により使用する場合はメチルアルコール、エ
チルアルコールなどのアルコール;アセトンなどのケト
ン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、シクロ
ヘキサンなどの脂環式炭化水素:エチルエーテルなどの
エーテル。
いが、所望により使用する場合はメチルアルコール、エ
チルアルコールなどのアルコール;アセトンなどのケト
ン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、シクロ
ヘキサンなどの脂環式炭化水素:エチルエーテルなどの
エーテル。
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、あるいは1
.2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素などを
使用することが可能である。有機溶媒の使用量は特に限
定されないが、インチウロニウム塩(Ill )に対し
て10重量%以上、500重量%未満の範囲とすること
が好ましい。
.2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素などを
使用することが可能である。有機溶媒の使用量は特に限
定されないが、インチウロニウム塩(Ill )に対し
て10重量%以上、500重量%未満の範囲とすること
が好ましい。
本分解反応(2)は0〜150°C1好ましくは40〜
100°Cの温度範囲で行われる。反応時の圧力は特に
限定されないが、通常は常圧で行われる。反応時間は反
応条件によるが、通常は0.5〜3時間で十分である。
100°Cの温度範囲で行われる。反応時の圧力は特に
限定されないが、通常は常圧で行われる。反応時間は反
応条件によるが、通常は0.5〜3時間で十分である。
反応後、必要に応してn−ヘキサン等を加えて目的物質
層を抽出し、更に減圧蒸留を行うことにより、目的とす
る本発明の化合物(I)が得られる。
層を抽出し、更に減圧蒸留を行うことにより、目的とす
る本発明の化合物(I)が得られる。
本発明の化合物(I)は、有機マトリックス樹脂と反応
若しくは相互作用する置換基を2個有しているため、半
導体封止材などの有機−無機複合材の接着性及びその信
頼性の向上に有効である。
若しくは相互作用する置換基を2個有しているため、半
導体封止材などの有機−無機複合材の接着性及びその信
頼性の向上に有効である。
更に、有機−無機複合材において、機械的特性の向上、
電気的特性の向上、耐水・耐湿性の向上、作業性の改善
、無機充填材の高配合によるコストダウンなどの効果も
期待できる。
電気的特性の向上、耐水・耐湿性の向上、作業性の改善
、無機充填材の高配合によるコストダウンなどの効果も
期待できる。
(実施例)
以下に、実施例を挙げ、本発明を更に詳しく説明する。
なお、本発明の範囲は以下の実施例のみに限定されるも
のではない。
のではない。
実施例11,4−ジメルカプト−2−(トリメトキシシ
リル)ブタンの合成 攪拌機、温度計、滴下漏斗、還流冷却器及びオイルバス
を備えた内容積1f2のフラスコに、1.4−ジクロロ
−2−(トリメトキシシリル)ブタン123.5g (
0・ 5モル)、チオ尿素76.0g (1,0モル)
及びN、N−ジメチルホルムアミド76gを仕込み、攪
拌を開始し、液温110°Cに加熱したところ、すみや
かに発熱がみられ液温は最高131℃まで上昇した。こ
の後、液温120℃で1時間加熱攪拌した。反応容器中
より試料を取り出して、ガスクロマトグラフィー分析及
び塩素イオン滴定を行い、1.4−ジクロロ−2−(ト
リメトキシシリル)ブタンが消費され、対応するイソチ
ウロニウム塩が生成していることを確認した。
リル)ブタンの合成 攪拌機、温度計、滴下漏斗、還流冷却器及びオイルバス
を備えた内容積1f2のフラスコに、1.4−ジクロロ
−2−(トリメトキシシリル)ブタン123.5g (
0・ 5モル)、チオ尿素76.0g (1,0モル)
及びN、N−ジメチルホルムアミド76gを仕込み、攪
拌を開始し、液温110°Cに加熱したところ、すみや
かに発熱がみられ液温は最高131℃まで上昇した。こ
の後、液温120℃で1時間加熱攪拌した。反応容器中
より試料を取り出して、ガスクロマトグラフィー分析及
び塩素イオン滴定を行い、1.4−ジクロロ−2−(ト
リメトキシシリル)ブタンが消費され、対応するイソチ
ウロニウム塩が生成していることを確認した。
更に、攪拌を続けながら60″Cに冷却し、滴下漏斗よ
りメタノール70gを添加した。これに、エチレンジア
ミン60.0g (1,0千ル)をン箇下漏斗より、液
温を50〜70℃に保ちながら30分かけて滴下した。
りメタノール70gを添加した。これに、エチレンジア
ミン60.0g (1,0千ル)をン箇下漏斗より、液
温を50〜70℃に保ちながら30分かけて滴下した。
滴下終了後、液温65℃で1時間加熱攪拌した。反応容
器中より試料を取り出して、ガスクロマトグラフィー分
析を行い1.4−ジメルカプト−2−(トリメトキシシ
リル)ブタンが生成していることを確認した。反応生成
物を冷却した後、n−ヘキサン70gを添加して目的物
質層を分離し、減圧蒸留により沸点98〜99℃/ 6
Torrの留分を分取した結果、無色透明液状の1,
4−ジメルカプト−2−(トリメトキシシリル)ブタン
847gを得た。これは1.4−ジクロロ−2−(トリ
メトキシシリル)ブタンに対して70.0%の収率であ
った。
器中より試料を取り出して、ガスクロマトグラフィー分
析を行い1.4−ジメルカプト−2−(トリメトキシシ
リル)ブタンが生成していることを確認した。反応生成
物を冷却した後、n−ヘキサン70gを添加して目的物
質層を分離し、減圧蒸留により沸点98〜99℃/ 6
Torrの留分を分取した結果、無色透明液状の1,
4−ジメルカプト−2−(トリメトキシシリル)ブタン
847gを得た。これは1.4−ジクロロ−2−(トリ
メトキシシリル)ブタンに対して70.0%の収率であ
った。
このもののガスクロマトグラフィー分析、元素分析、赤
外線吸収スペクトル分析、′H核磁気共鳴吸収分析及び
質量スペクトル分析の結果は下記の通りであり、次式の
分子構造であることを確認した。
外線吸収スペクトル分析、′H核磁気共鳴吸収分析及び
質量スペクトル分析の結果は下記の通りであり、次式の
分子構造であることを確認した。
def g
H3−CH2CH−51−fOCH33HS−CH2−
CH□ bc ・ガスクロマトグラフィー分析 純度978%・元素分
析 実測値 Si:11.60%C:34.68%Hニア、
46%019.83%S:26.43% 計算値 Si:11.58%C:34.68%旧748
%019.80%5:26.46% ・赤外線吸収スペクトル分析(液膜法)波数(cm−’
l 帰属 2930 C−8 255O5−H 1120〜1060 Ss OCH3・1H核磁気共
鳴吸収分析(90M)lz、 CCIイ中)化学シフト
δ 工、05〜1.25 2.35〜265 1.35〜l、75 0.40〜0.60 1.35〜1.75 0.40〜0,65 3.50 (pp+n) 積分強度 多重度 IHt 2Hm 2Hm IHt 2Hm IHm 9Hs ・質量スペクトル分析(m/e) : 242 (M+
)実施例21.4−ジメルカプト−2−(メチルジメト
キシシリル)ブタンの合成 攪拌機、温度計、滴下漏斗、還流冷却機及びオイルバス
を備えた内容積lβのフラスコに、1.4−ジクロロ−
2−(メチルジメトキシシリル)ブタン115.5g(
0,5モル)、チオ尿素76.0g (1,0モル)及
びN、N−ジメチルホルムアミド76gを仕込み、攪拌
を開始し、液温110℃に加熱したところ、すみやかに
発熱がみられ液温は最高128℃まで上昇した。この後
、液温120℃で1時間加熱攪拌した。反応容器中より
試料を取り出して、ガスクロマトグラフィー分析及び塩
素イオン滴定を行い、1.4ジクロロ−2−(メチルジ
メトキシシリル)ブタンが消費され、対応するイソチウ
ロニウム塩が生成していることを確認した。
CH□ bc ・ガスクロマトグラフィー分析 純度978%・元素分
析 実測値 Si:11.60%C:34.68%Hニア、
46%019.83%S:26.43% 計算値 Si:11.58%C:34.68%旧748
%019.80%5:26.46% ・赤外線吸収スペクトル分析(液膜法)波数(cm−’
l 帰属 2930 C−8 255O5−H 1120〜1060 Ss OCH3・1H核磁気共
鳴吸収分析(90M)lz、 CCIイ中)化学シフト
δ 工、05〜1.25 2.35〜265 1.35〜l、75 0.40〜0.60 1.35〜1.75 0.40〜0,65 3.50 (pp+n) 積分強度 多重度 IHt 2Hm 2Hm IHt 2Hm IHm 9Hs ・質量スペクトル分析(m/e) : 242 (M+
)実施例21.4−ジメルカプト−2−(メチルジメト
キシシリル)ブタンの合成 攪拌機、温度計、滴下漏斗、還流冷却機及びオイルバス
を備えた内容積lβのフラスコに、1.4−ジクロロ−
2−(メチルジメトキシシリル)ブタン115.5g(
0,5モル)、チオ尿素76.0g (1,0モル)及
びN、N−ジメチルホルムアミド76gを仕込み、攪拌
を開始し、液温110℃に加熱したところ、すみやかに
発熱がみられ液温は最高128℃まで上昇した。この後
、液温120℃で1時間加熱攪拌した。反応容器中より
試料を取り出して、ガスクロマトグラフィー分析及び塩
素イオン滴定を行い、1.4ジクロロ−2−(メチルジ
メトキシシリル)ブタンが消費され、対応するイソチウ
ロニウム塩が生成していることを確認した。
更に、エチレンジアミンによる分解反応を実施例1と同
様に実施し、減圧蒸留により90〜91°C/ 6 T
orrの留分を分取した結果、無色透明液状の1.4−
ジメルカプト−2−(メチルジメトキシシリル)ブタン
802gを得た。これは1.4−ジクロロ−2−(メチ
ルジメトキシシリル)ブタンに対して7160%の収率
であった。
様に実施し、減圧蒸留により90〜91°C/ 6 T
orrの留分を分取した結果、無色透明液状の1.4−
ジメルカプト−2−(メチルジメトキシシリル)ブタン
802gを得た。これは1.4−ジクロロ−2−(メチ
ルジメトキシシリル)ブタンに対して7160%の収率
であった。
このもののガスクロマトグラフィー分析、元素分析、赤
外線吸収スペクトル分析、1H核磁気共鳴吸収分析及び
質量スペクトル分析の結果は下記の通りであり、次式の
分子構造であることを確認した。
外線吸収スペクトル分析、1H核磁気共鳴吸収分析及び
質量スペクトル分析の結果は下記の通りであり、次式の
分子構造であることを確認した。
defgh
CH3
H3−CH2−CH−51−fOCH3□H3−CH2
−CH2 bc ガスクロマトグラフィー分析 純度979%・元素分析 実測値 Si;12.41%C:37.12%Hニア、
99%0;14.12%32836% 計算値 Si :12.40%C,37,13%H;8
.01%01413%S・28.33% ・赤外線吸収スペクトル分析(液膜法)波数(am利)
帰属 2930 C−H 255O5−H 1240Si −CH3 1120〜1060 5i−OCF(3H核磁気共鳴吸
収分析(’90MHz、 CCl2中)化学シフトδf
ppm] 105〜1.25 235〜265 135〜175 040〜060 ] 35〜175 040〜065 ・質量スペクトル分析(m/e) 積分強度 CH CH CH CH CH CH CH CH 226(M+)
−CH2 bc ガスクロマトグラフィー分析 純度979%・元素分析 実測値 Si;12.41%C:37.12%Hニア、
99%0;14.12%32836% 計算値 Si :12.40%C,37,13%H;8
.01%01413%S・28.33% ・赤外線吸収スペクトル分析(液膜法)波数(am利)
帰属 2930 C−H 255O5−H 1240Si −CH3 1120〜1060 5i−OCF(3H核磁気共鳴吸
収分析(’90MHz、 CCl2中)化学シフトδf
ppm] 105〜1.25 235〜265 135〜175 040〜060 ] 35〜175 040〜065 ・質量スペクトル分析(m/e) 積分強度 CH CH CH CH CH CH CH CH 226(M+)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは置換又は非置換の1価の炭化水素基を表し
、Yはアルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、nは
0〜3の整数を表す) で示されるメルカプト基を有するシラン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18426090A JPH0474189A (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | メルカプト基を有するシラン |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18426090A JPH0474189A (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | メルカプト基を有するシラン |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0474189A true JPH0474189A (ja) | 1992-03-09 |
Family
ID=16150206
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18426090A Pending JPH0474189A (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | メルカプト基を有するシラン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0474189A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014108923A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Daiso Co Ltd | 有機珪素化合物 |
JP2014108922A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Daiso Co Ltd | 有機珪素化合物の混合物およびゴム組成物 |
-
1990
- 1990-07-13 JP JP18426090A patent/JPH0474189A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014108923A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Daiso Co Ltd | 有機珪素化合物 |
JP2014108922A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Daiso Co Ltd | 有機珪素化合物の混合物およびゴム組成物 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5835116B2 (ja) | アミノ基と保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
JPS59184192A (ja) | 含硫オルガノ珪素化合物の製法 | |
JP5494233B2 (ja) | カルボン酸エステル基を有する環状シラザン化合物及びその製造方法 | |
JP5115729B2 (ja) | トリアルキルシリル基で保護されたアセト酢酸エステル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
KR20170003417A (ko) | 아미노알킬알콕시디실록산 화합물 및 그의 제조 방법 | |
CN109971034B (zh) | 硅烷混合物和其制备方法 | |
US5364896A (en) | Method for preparing silica filled organosiloxane compositions | |
CA3083055A1 (en) | Silane mixtures and process for preparing same | |
US4304920A (en) | Novel organosilane compounds | |
EP0176085B1 (en) | 4-substituted-1,2,3,6-tetrahydrophthalic acid anhydride and production process thereof | |
US4469881A (en) | [2-(p-t-Butylphenyl)ethyl]silanes and method of making the same | |
US4412078A (en) | Hydantoinylsilanes | |
JPH0474189A (ja) | メルカプト基を有するシラン | |
KR20200085888A (ko) | 실란 혼합물 및 그의 제조 방법 | |
US5130461A (en) | 1,3-bis(p-hydroxybenzyl)-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and method for making | |
US5288890A (en) | Fluorine-containing organosilicon compound and process of producing the same | |
JPS5970691A (ja) | 水素含有シリルカ−バメ−ト | |
JPH0474190A (ja) | メルカプト基を有するシラン | |
JP4058605B2 (ja) | 嵩高い置換基を有するシリルトリフラート化合物及びその製造方法 | |
US4990641A (en) | Organosilicon compound and its preparing method | |
US6140523A (en) | Organosilicon compounds and making method | |
EP0413520B1 (en) | A silane compound and a method of manufacturing the same | |
EP0395433B1 (en) | Organosilicon compound | |
US5914419A (en) | Organosilicon compound | |
JP3124910B2 (ja) | シクロトリシロキサン及びその製造方法 |