JPH0474161A - ３―ヒドロキシブチルスルフィド誘導体の製造方法 - Google Patents
３―ヒドロキシブチルスルフィド誘導体の製造方法Info
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- JPH0474161A JPH0474161A JP18611090A JP18611090A JPH0474161A JP H0474161 A JPH0474161 A JP H0474161A JP 18611090 A JP18611090 A JP 18611090A JP 18611090 A JP18611090 A JP 18611090A JP H0474161 A JPH0474161 A JP H0474161A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/10—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C323/11—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
- C07C323/12—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C319/14—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は一般式（１）
２、特許請求の範囲
ｌ）一般式 Ｒ３５Ｒ
（式中Ｒはフェニル基、又は置換フェニル基を示す。）
で表されるジスルフィド誘導体と一般式（式中Ｒ’はア
ルキル基、又はアルコキシ基を示す。）で表されるリン
化合物を１．３−ブタンジオールに作用させることを特
徴とする一般式（式中Ｒはフェニル基、又は置換フェニ
ル基を示す。）で表される３−ヒドロキシブチルスルフ
ィド誘導体の製造方法。
で表されるジスルフィド誘導体と一般式（式中Ｒ’はア
ルキル基、又はアルコキシ基を示す。）で表されるリン
化合物を１．３−ブタンジオールに作用させることを特
徴とする一般式（式中Ｒはフェニル基、又は置換フェニ
ル基を示す。）で表される３−ヒドロキシブチルスルフ
ィド誘導体の製造方法。
２）１．３−ブタンジオール及び３−ヒドロキ（式中Ｒ
はフェニル基、又は置換フェニル基を示す。）で表され
る３−ヒドロキシブチルスルフィド誘導体を製造する方
法に関する。特に３位に光学活性な水酸基を持つ３−ヒ
ドロキシブチルスルフィド誘導体は、カルバペネムまた
はベネム系βラクタム抗生物質の鍵中間体である４−ア
セトキシアゼチジン−２−オン誘導体の合成原料として
用いられている。
はフェニル基、又は置換フェニル基を示す。）で表され
る３−ヒドロキシブチルスルフィド誘導体を製造する方
法に関する。特に３位に光学活性な水酸基を持つ３−ヒ
ドロキシブチルスルフィド誘導体は、カルバペネムまた
はベネム系βラクタム抗生物質の鍵中間体である４−ア
セトキシアゼチジン−２−オン誘導体の合成原料として
用いられている。
１．３−ブタンジオールを出発原料とする前記一般式（
Ｉ）の合成方法としては、以下の反応式で示される方法
が知られている（特開昭６１−２０７３７３）。
Ｉ）の合成方法としては、以下の反応式で示される方法
が知られている（特開昭６１−２０７３７３）。
（上記式中へ（友トシル基またはメシル基を示し、Ｒは
前記と同し意義を示す。） しかしながらこの方法では、中間体としてトシレートま
たはメシレートを合成するため２段階の反応となること
、また、一般式（ｎ） （式中Ｒは前記と同じ意義を示す。）で表される異性体
や一般式（ＩＩＩ） （式中Ｒは前記と同し意義を示す。）で表されるジ置換
体が副生ずる等の問題点を有していた。
前記と同し意義を示す。） しかしながらこの方法では、中間体としてトシレートま
たはメシレートを合成するため２段階の反応となること
、また、一般式（ｎ） （式中Ｒは前記と同じ意義を示す。）で表される異性体
や一般式（ＩＩＩ） （式中Ｒは前記と同し意義を示す。）で表されるジ置換
体が副生ずる等の問題点を有していた。
本発明者等は上記従来技術の欠点を改良すべく鋭意研究
した結果、本発明を完成した。即ち、本発明は一般式（
ＩＶ）Ｒ３ＳＲ （式中、Ｒは前記と同し意味を示す。）で表されるジス
ルフィド誘導体と一般式（Ｖ）Ｒ’ＩＰ （式中、Ｒ’
はアルキル基又はアルコキノ基を示す。）て表されるリ
ン化合物を１，３−ブタンジオールに作用させることを
特徴とする一般式（１）（式中、Ｒは前記と同じ意味を
示す。）で表される３−ヒドロキシブチルスルフィド誘
導体の製造方法である。
した結果、本発明を完成した。即ち、本発明は一般式（
ＩＶ）Ｒ３ＳＲ （式中、Ｒは前記と同し意味を示す。）で表されるジス
ルフィド誘導体と一般式（Ｖ）Ｒ’ＩＰ （式中、Ｒ’
はアルキル基又はアルコキノ基を示す。）て表されるリ
ン化合物を１，３−ブタンジオールに作用させることを
特徴とする一般式（１）（式中、Ｒは前記と同じ意味を
示す。）で表される３−ヒドロキシブチルスルフィド誘
導体の製造方法である。
反応は０℃から５０°Ｃ１好ましくは室温付近で上記ジ
スルフィド誘導体と１．３−ブタンジオールの混合物あ
るいは混合物に有機溶媒を加えたものに上記リン化合物
を滴下し、反応が完結するまで反応させることにより行
われる。反応のモル比は１．３−ブタンジオール１モル
に対し、上記ジスルフィド誘導体及びリン化合物１モル
以上、好ましくは、１．１モルである。有機溶媒は混合
物の撹拌を良好にするために加える。
スルフィド誘導体と１．３−ブタンジオールの混合物あ
るいは混合物に有機溶媒を加えたものに上記リン化合物
を滴下し、反応が完結するまで反応させることにより行
われる。反応のモル比は１．３−ブタンジオール１モル
に対し、上記ジスルフィド誘導体及びリン化合物１モル
以上、好ましくは、１．１モルである。有機溶媒は混合
物の撹拌を良好にするために加える。
完結後、水を加え反応を停止させ、有機溶媒で抽出洗浄
後カラムクロマトグラフィーにて精製し目的の３−ヒド
ロキシブチルスルフィド誘導体を取得することかできる
。また、３−ヒドロキシブチルスルフィド誘導体を単離
せず、その３位水酸基に保護基を導入した一般式（Ｖｌ
） スルフィド： （式中Ｒは前記と同じ意味を示し、Ｒ２はｔ−ブチルジ
メチルシリル基を示す。）で表される３−ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシブチルスルフィド誘導体を製造する
こともできる。さらにこの−般式（ＶＩ）で表される化
合物は閉環することにより、アゼチジノン誘導体に導（
ことができる。
後カラムクロマトグラフィーにて精製し目的の３−ヒド
ロキシブチルスルフィド誘導体を取得することかできる
。また、３−ヒドロキシブチルスルフィド誘導体を単離
せず、その３位水酸基に保護基を導入した一般式（Ｖｌ
） スルフィド： （式中Ｒは前記と同じ意味を示し、Ｒ２はｔ−ブチルジ
メチルシリル基を示す。）で表される３−ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシブチルスルフィド誘導体を製造する
こともできる。さらにこの−般式（ＶＩ）で表される化
合物は閉環することにより、アゼチジノン誘導体に導（
ことができる。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
。ただし本発明は、この実施例に限定されるものではな
い。
。ただし本発明は、この実施例に限定されるものではな
い。
実施例−１
Ｒ−、（−）−３−ヒドロキシブチルフェニルＲ−（−
）−１，３−ブタンジオール３．６０ ｇ（０，０４０
０ｍｏｌ）、ジフェニルジスルフィド１０．５２ｇ （
０，０４６０ｍｏｌ）を塩化メチレン４−に溶解させた
後、室温に保ちなからｎ−トリブチルフォスフイン９．
３２ｇ （０，０４６０ｍｏｌ）を滴下した。
）−１，３−ブタンジオール３．６０ ｇ（０，０４０
０ｍｏｌ）、ジフェニルジスルフィド１０．５２ｇ （
０，０４６０ｍｏｌ）を塩化メチレン４−に溶解させた
後、室温に保ちなからｎ−トリブチルフォスフイン９．
３２ｇ （０，０４６０ｍｏｌ）を滴下した。
室温で５時間撹拌した後、水を水２０ｍｊ’加え１０分
撹拌し、さらに水５０ｒｄを加えてから塩化メチレン１
５−で３回抽出した。塩化メチレン溶液を飽和炭酸ナト
リウム水溶液で洗浄後、塩化メチレンを留去しシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにて分取し、標題化合物を
９０％の収率で得た。
撹拌し、さらに水５０ｒｄを加えてから塩化メチレン１
５−で３回抽出した。塩化メチレン溶液を飽和炭酸ナト
リウム水溶液で洗浄後、塩化メチレンを留去しシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにて分取し、標題化合物を
９０％の収率で得た。
性状 無色油状物質
沸点 １１５℃１０，０５閣Ｈｇ
Ｈ−ＮＭＲスペクトル＜ ＣＤＣ１，、δ＞ １．１８
（３ＨｄＪ＝６Ｈｚ） １．５３−１．９５（２ｔ（ｍ） ２０６（ＩＨｓ） ３．００（２）１ ｔ Ｊ＝７Ｈｚ） ３．８５（ＩＨａ＋） ７．１２（５Ｈｂｒｓ） 比較例−１ Ｒ−（−）−３−ヒドロキシブチルフエニＪレスルフイ
ド； Ｒ−（−）−１，３−ブタンジオール３．６０ｇ（０，
０４００ｍｏｌ） 、Ｉ） ｈルエンスルホニルり尺
リド８．３９ｇ （０，０４４０ｍｏｌ） 、ピリジ
ン３．４８ ｇ（０，０４４０ｍｏｌ）を塩化メチレン
４０ｍ１に溶解し、実施例−２ Ｒ−（−）−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキンブチ
ルフェニルスルフィド Ｒ−（−）−１，３−ブタンジオール３．６０ ｇ（０
，０４００ｍｏｌ）、ジフェニルジスルフィド１０．５
２ｇ （０，０４６０ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４
−に溶解させた後、室温に保ちなからｎ−トリブチルフ
ォスフイソ９．３２ｇ （０，０４６０’ｍｏｌ）を滴
下した。室温で５時間撹拌した後、水を１０ＴＩＬｌ加
え１０分撹拌し、飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗浄後、
水層を分離し、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド６ｍｌ！
を加え硫酸マグネシウムで乾燥した。
（３ＨｄＪ＝６Ｈｚ） １．５３−１．９５（２ｔ（ｍ） ２０６（ＩＨｓ） ３．００（２）１ ｔ Ｊ＝７Ｈｚ） ３．８５（ＩＨａ＋） ７．１２（５Ｈｂｒｓ） 比較例−１ Ｒ−（−）−３−ヒドロキシブチルフエニＪレスルフイ
ド； Ｒ−（−）−１，３−ブタンジオール３．６０ｇ（０，
０４００ｍｏｌ） 、Ｉ） ｈルエンスルホニルり尺
リド８．３９ｇ （０，０４４０ｍｏｌ） 、ピリジ
ン３．４８ ｇ（０，０４４０ｍｏｌ）を塩化メチレン
４０ｍ１に溶解し、実施例−２ Ｒ−（−）−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキンブチ
ルフェニルスルフィド Ｒ−（−）−１，３−ブタンジオール３．６０ ｇ（０
，０４００ｍｏｌ）、ジフェニルジスルフィド１０．５
２ｇ （０，０４６０ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４
−に溶解させた後、室温に保ちなからｎ−トリブチルフ
ォスフイソ９．３２ｇ （０，０４６０’ｍｏｌ）を滴
下した。室温で５時間撹拌した後、水を１０ＴＩＬｌ加
え１０分撹拌し、飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗浄後、
水層を分離し、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド６ｍｌ！
を加え硫酸マグネシウムで乾燥した。
上記Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液にｔ−ブチルジ
メチルシリルクロライド６．５４ｇ （０゜０４３４
ｍｏｌ） 、イミダゾール２．９６ｇ０．０４３ ｍｏ
ｌ ）室温て１５時間撹拌した。反応液を水で希釈し塩
化メチレンで抽出し、抽出液を水洗後、溶媒を留去しシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで分取した。目的の
Ｒ−（−） −３−ヒドロキンブチル−ｐ−ｈルエンス
ルホネートを６５％の収率、その異性体であるＲ−（−
）−２−ｐトルエンスルホニルオキソ−１−ブタノール
を６％の収率、ｄｌ−トノル体であるＲ−（−）１、
３−ｃｌ ｉ −（ｐ −トルエンスルホニルオキソ）
ブタンを１２％の収率て得た。
メチルシリルクロライド６．５４ｇ （０゜０４３４
ｍｏｌ） 、イミダゾール２．９６ｇ０．０４３ ｍｏ
ｌ ）室温て１５時間撹拌した。反応液を水で希釈し塩
化メチレンで抽出し、抽出液を水洗後、溶媒を留去しシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで分取した。目的の
Ｒ−（−） −３−ヒドロキンブチル−ｐ−ｈルエンス
ルホネートを６５％の収率、その異性体であるＲ−（−
）−２−ｐトルエンスルホニルオキソ−１−ブタノール
を６％の収率、ｄｌ−トノル体であるＲ−（−）１、
３−ｃｌ ｉ −（ｐ −トルエンスルホニルオキソ）
ブタンを１２％の収率て得た。
テトラヒドロフラン４０ｍ１に上記Ｒ−（−）３−ヒド
ロキシブチル−ｐ−トルエンスルホネート２．ＯＯｇ
（０，００８１９ｍｏｌ） 、ソジウムチオフエノキシ
ト１．３０ｇ （０，００９８２ｍｏｌ）を加え１時間
加熱還流した。冷却後、反応液に水を加え塩化メチレン
で抽出し、抽出液を水洗後、溶媒に留去しシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで分取した。１．３−ブタンジ
オールに対し標題化合物を６４％の収率て得た。
ロキシブチル−ｐ−トルエンスルホネート２．ＯＯｇ
（０，００８１９ｍｏｌ） 、ソジウムチオフエノキシ
ト１．３０ｇ （０，００９８２ｍｏｌ）を加え１時間
加熱還流した。冷却後、反応液に水を加え塩化メチレン
で抽出し、抽出液を水洗後、溶媒に留去しシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで分取した。１．３−ブタンジ
オールに対し標題化合物を６４％の収率て得た。
物性値は実施例−１に示した値に一致した。
を加え５０°Ｃて４時間撹拌した。反応液にｎヘキサン
３０−１水層０ｍ１を加え水洗後、水層を分離し、溶媒
を留去後シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分取
し標題化合物をブタンジオールより９０％の収率て得た
。
３０−１水層０ｍ１を加え水洗後、水層を分離し、溶媒
を留去後シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分取
し標題化合物をブタンジオールより９０％の収率て得た
。
性状 無色油状物質
沸点 １３５℃／ ０．２ ｍｍ ＨｇＨ−ＮＭＲスペ
クトル＜ ＣＤＣＬ、 δ＞０．０６（６Ｈｓ）０．８
９（９）Ｉ Ｓ）１．１４（３ＨｄＪ＝６Ｈｚ １．５３−１．９５（２Ｈｍ） ２．８１−３．１４（２８ｍ） ３．９０（ＩＨｍ） ７．２２（５Ｈｂｒｓ） 実施例−３ （１°Ｒ，３Ｓ、４Ｒ）−３−（１°−ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）エチル−４−フェニルチオ−２−ア
セチジノン： Ｒ−（−）−１，３−ブタンジオールア、２１ｇ（０，
０８００ｍｏｌ）、ジフェニルジスルフィド２１．０４
ｇ （０，０９２ｍｏｌ ）をテトラヒドロフラン８１
ＪＪに溶解させた後、室温に保ちながらｎ−）リブチル
フォスフイン１８．６４ ｇ （０，０９２ｍｏｌ ）
を滴下した。室温で５時間撹拌した後、水を２０ｍ１加
え１０分撹拌し、メタノール４ｏ−を加え均一溶液とし
た。次にこの溶液をｎ−へ牛サンで洗浄した後、溶液が
２層になるまで溶媒を留去し、水層を除去した。有機層
を飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗浄後、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド１２−を加え硫酸マグネシウムで乾燥し
た。
クトル＜ ＣＤＣＬ、 δ＞０．０６（６Ｈｓ）０．８
９（９）Ｉ Ｓ）１．１４（３ＨｄＪ＝６Ｈｚ １．５３−１．９５（２Ｈｍ） ２．８１−３．１４（２８ｍ） ３．９０（ＩＨｍ） ７．２２（５Ｈｂｒｓ） 実施例−３ （１°Ｒ，３Ｓ、４Ｒ）−３−（１°−ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）エチル−４−フェニルチオ−２−ア
セチジノン： Ｒ−（−）−１，３−ブタンジオールア、２１ｇ（０，
０８００ｍｏｌ）、ジフェニルジスルフィド２１．０４
ｇ （０，０９２ｍｏｌ ）をテトラヒドロフラン８１
ＪＪに溶解させた後、室温に保ちながらｎ−）リブチル
フォスフイン１８．６４ ｇ （０，０９２ｍｏｌ ）
を滴下した。室温で５時間撹拌した後、水を２０ｍ１加
え１０分撹拌し、メタノール４ｏ−を加え均一溶液とし
た。次にこの溶液をｎ−へ牛サンで洗浄した後、溶液が
２層になるまで溶媒を留去し、水層を除去した。有機層
を飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗浄後、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド１２−を加え硫酸マグネシウムで乾燥し
た。
上記Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液にｔ−ブチルジ
メチルシリルクロライド１３．０８ｇ（０，０８６８ｍ
ｏｌ） 、ジメチルアミノピリジン１００６ｇ （０，
０８６８ｍｏｌ）を加え５０℃で４時間撹拌した。反応
液にｎ−ヘキサン６０−１水６０ｄを加え水洗後、溶媒
を留去し、Ｒ−（−）−３−１−ブチルジメチルシリル
オキシブチルフェニルスルフィドを純度７４％（ＨＰＬ
Ｃて定量）で２８．８５ ｇ、ブタンジオールより９０
％の収率て得た。
メチルシリルクロライド１３．０８ｇ（０，０８６８ｍ
ｏｌ） 、ジメチルアミノピリジン１００６ｇ （０，
０８６８ｍｏｌ）を加え５０℃で４時間撹拌した。反応
液にｎ−ヘキサン６０−１水６０ｄを加え水洗後、溶媒
を留去し、Ｒ−（−）−３−１−ブチルジメチルシリル
オキシブチルフェニルスルフィドを純度７４％（ＨＰＬ
Ｃて定量）で２８．８５ ｇ、ブタンジオールより９０
％の収率て得た。
上記Ｒ−（−）−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
ブチルフェニルスルフィドを特開昭６１−２０７３７３
記載の方法に従って反応し、標題化合物をＲ−（−）−
３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシブチルフェニルス
ルフィドより５５％の収率で得た。
ブチルフェニルスルフィドを特開昭６１−２０７３７３
記載の方法に従って反応し、標題化合物をＲ−（−）−
３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシブチルフェニルス
ルフィドより５５％の収率で得た。
性状 白色針状晶
融点 １２４−１２５℃
（α） ｏ ＝ ＋ ６４．３（Ｃ＝ ０．１２ ク
ロロホルム）ＩＲスペクトル＜ ＫＢｒ、 ｃｍ−＞
１７６４Ｈ−ＮＭＲスペクトル＜ ＣＤＣＬ、 δ＞
０．０５（３Ｈｓ）０．０７（３Ｈｓ）０．８７（９
Ｈｓ）１．２０（３Ｈｄ Ｊ＝６．１Ｈｚ） ４．２４（ＩＮ ｍ） ５．３９（ＩＨｄ Ｊ＝２．４Ｈｚ） ５．９８（ＩＨｂｒｓ） ７．３０−７．６０（５８ｍ） 〔発明の効果〕 本発明により、医薬品中間体として有用なアゼチジノン
誘導体の原料となるＲ−（−）−３−ヒドロキシブチル
フェニルスルフィドをＲ−（−）−１，３−ブタンジオ
ールより、異性体の副生を抑え高収率で製造することが
できる。
ロロホルム）ＩＲスペクトル＜ ＫＢｒ、 ｃｍ−＞
１７６４Ｈ−ＮＭＲスペクトル＜ ＣＤＣＬ、 δ＞
０．０５（３Ｈｓ）０．０７（３Ｈｓ）０．８７（９
Ｈｓ）１．２０（３Ｈｄ Ｊ＝６．１Ｈｚ） ４．２４（ＩＮ ｍ） ５．３９（ＩＨｄ Ｊ＝２．４Ｈｚ） ５．９８（ＩＨｂｒｓ） ７．３０−７．６０（５８ｍ） 〔発明の効果〕 本発明により、医薬品中間体として有用なアゼチジノン
誘導体の原料となるＲ−（−）−３−ヒドロキシブチル
フェニルスルフィドをＲ−（−）−１，３−ブタンジオ
ールより、異性体の副生を抑え高収率で製造することが
できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）一般式 ＲＳＳＲ （式中Ｒはフェニル基、又は置換フェニル基を示す。）
で表されるジスルフィド誘導体と一般式Ｒ＾１＿３Ｐ （式中Ｒ＾１はアルキル基、又はアルコキシ基を示す。 ）で表されるリン化合物を１，３−ブタンジオールに作
用させることを特徴とする一般式▲数式、化学式、表等
があります▼ （式中Ｒはフェニル基、又は置換フェニル基を示す。）
で表される３−ヒドロキシブチルスルフィド誘導体の製
造方法。 ２）１，３−ブタンジオール及び３−ヒドロキシブチル
スルフィド誘導体が光学活性体である請求項１記載の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2186110A JP2921051B2 (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | ３―ヒドロキシブチルスルフィド誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2186110A JP2921051B2 (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | ３―ヒドロキシブチルスルフィド誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0474161A true JPH0474161A (ja) | 1992-03-09 |
| JP2921051B2 JP2921051B2 (ja) | 1999-07-19 |
Family
ID=16182537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2186110A Expired - Fee Related JP2921051B2 (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | ３―ヒドロキシブチルスルフィド誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2921051B2 (ja) |
-
1990
- 1990-07-13 JP JP2186110A patent/JP2921051B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2921051B2 (ja) | 1999-07-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |